用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置及霍爾測(cè)試系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置。此外，本實(shí)用新型還涉及一種包括所述承載裝置的霍爾測(cè)試系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]三元合金半導(dǎo)體碲鎘汞(Hgl_xCdxTe)的禁帶寬度隨組分的變化可以從零連續(xù)增大到1.6eV，可以用來(lái)制作幾乎覆蓋整個(gè)紅外區(qū)域的各種響應(yīng)波段的紅外探測(cè)器，尤其是1-3 μ m、3-5 μ m和8-14 μ m的紅外探測(cè)器。因此，碲鎘汞(Hgl_xCdxTe)材料是制作紅外探測(cè)器的理想半導(dǎo)體材料，在預(yù)警探測(cè)、情報(bào)偵察、資源衛(wèi)星、氣象衛(wèi)星、農(nóng)牧業(yè)、地震、火控、制導(dǎo)以及太空天文探測(cè)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用并且未來(lái)也具有更廣闊的潛在應(yīng)用前景。
[0003]對(duì)于碲鎘汞(HghCdxTe)紅外探測(cè)器，碲鎘汞材料的電學(xué)性能指標(biāo)是直接決定探測(cè)器性能的重要參數(shù)。由于紅外器件對(duì)材料的電學(xué)參數(shù)有嚴(yán)格的要求，雖然碲鎘汞(HghCdxTe)紅外探測(cè)器的發(fā)展已有數(shù)年的歷史，但是霍爾測(cè)試一直是獲得碲鎘汞(HghCdxTe)材料電學(xué)參數(shù)的常規(guī)檢測(cè)手段，因此需要通過(guò)霍爾測(cè)試獲得的電學(xué)性能參數(shù)來(lái)優(yōu)化碲鎘汞紅外探測(cè)器的制造工藝或者調(diào)整工藝參數(shù)。其中，碲鎘汞(HghCdxTe)材料的電學(xué)性能參數(shù)包括載流子濃度、迀移率和導(dǎo)電類型等，而迀移率是衡量半導(dǎo)體材料導(dǎo)電性能的重要參數(shù)，其決定著半導(dǎo)體材料的電導(dǎo)率，影響紅外探測(cè)器的工作速度。
[0004]但是，現(xiàn)有技術(shù)中在利用霍爾測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行77K霍爾測(cè)試時(shí)，將放置好測(cè)試樣品的測(cè)試臺(tái)插入到霍爾測(cè)試系統(tǒng)的樣品架后送入到77K的腔室里進(jìn)行霍爾測(cè)試，但是存在的問(wèn)題是，樣品臺(tái)上的樣品經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)銀絲和樣品的連接處斷裂而造成測(cè)試終止，甚至出現(xiàn)測(cè)試樣品滑落，有時(shí)測(cè)試樣品滑落后破碎而使得77K的腔室污染，從而不僅影響了測(cè)試的進(jìn)行，降低了工作效率，還造成了測(cè)試系統(tǒng)的污染以及測(cè)試樣品的浪費(fèi)，提高了霍爾測(cè)試的試驗(yàn)成本。因此，需要一種用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型提供一種用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置。采用所述承載裝置可以保證測(cè)試樣品牢固地固定至樣品臺(tái)上，避免測(cè)試樣品由于重力的作用向下滑落，確保霍爾測(cè)試可靠順利地進(jìn)行。此外，本實(shí)用新型還提供一種包括所述承載裝置的霍爾測(cè)試系統(tǒng)。
[0006]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0007]一種用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置，其包括底部支撐架，所述底部支撐架包括安裝面和設(shè)置于所述安裝面的前側(cè)的保護(hù)擋板，所述保護(hù)擋板自所述安裝面向上延伸，當(dāng)進(jìn)行霍爾測(cè)試時(shí)，測(cè)試樣品能夠抵靠于所述安裝面上。
[0008]優(yōu)選地，所述用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置還包括設(shè)置于所述安裝面的兩側(cè)邊的防護(hù)架，所述防護(hù)架自所述底部支撐架向上延伸。
[0009]優(yōu)選地，所述底部支撐架和所述防護(hù)架形成為一體。
[0010]優(yōu)選地，所述底部支撐架構(gòu)造為具有向前延伸的凸起部和設(shè)置于所述凸起部?jī)蓚?cè)的連接部，所述保護(hù)擋板設(shè)置于所述凸起部，所述防護(hù)架設(shè)置于所述連接部，并且所述防護(hù)架和所述凸起部之間形成以供導(dǎo)線穿過(guò)的缺口。
[0011]優(yōu)選地，所述防護(hù)架的上部設(shè)置有用于所述導(dǎo)線穿過(guò)其中的過(guò)孔。
[0012]優(yōu)選地，所述保護(hù)擋板包括筋板和間隔設(shè)置的板件，所述筋板連接于所述板件的上部。
[0013]本實(shí)用新型還提供了一種霍爾測(cè)試系統(tǒng)，其包括樣品臺(tái)和根據(jù)上文所述的用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試樣品的承載裝置，所述底部支撐架連接至所述樣品臺(tái)。
[0014]優(yōu)選地，所述樣品臺(tái)包括用于霍爾測(cè)試的四個(gè)電極，所述承載裝置安裝至所述四個(gè)電極所限定的區(qū)域內(nèi)。
[0015]需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型所使用的方位術(shù)語(yǔ)“前”是指將承載裝置安裝至樣品臺(tái)上時(shí)，遠(yuǎn)離樣品臺(tái)的方向?yàn)榍?。另外所使用的方位術(shù)語(yǔ)“上”和“下”是指將承載裝置安裝至樣品臺(tái)上，朝向地面的方向?yàn)橄?，背離地面的方向?yàn)樯稀?br>[0016]采用上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型至少具有下列優(yōu)點(diǎn):進(jìn)行霍爾測(cè)試之前，將本實(shí)用新型所述的承載裝置安裝至測(cè)試系統(tǒng)的樣品臺(tái)上，測(cè)試樣品抵靠在底部支撐架的安裝面上，由此使得測(cè)試樣品得到支持，避免由于自身重力作用向下滑落，確保測(cè)試試驗(yàn)可靠順利地進(jìn)行，提高了工作效率，降低霍爾測(cè)試試驗(yàn)成本。進(jìn)一步地，保護(hù)擋板可以將測(cè)試樣品卡持住，以使測(cè)試樣品貼服于樣品臺(tái)上，增強(qiáng)測(cè)試樣品和樣品臺(tái)的電極之間連接的牢固性，提高測(cè)試的準(zhǔn)確性。優(yōu)選地，安裝面兩側(cè)的防護(hù)架的設(shè)置可以避免測(cè)試樣品從安裝面的兩側(cè)邊滑落，避免測(cè)試樣品的破碎以及腔室的污染。
【附圖說(shuō)明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的承載裝置安裝至霍爾測(cè)試系統(tǒng)的樣品臺(tái)的安裝示意圖；
[0018]圖2為本實(shí)用新型的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的承載裝置的示意圖；
[0019]圖3為本實(shí)用新型一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的霍爾測(cè)試系統(tǒng)的承載裝置的安裝示意圖。
[0020]其中，1-底部支架;10，-保護(hù)擋板；10-保護(hù)擋板;100-筋板;110-板件;11_凸起部；12-連接部；13_缺口 ； 14-安裝面；2_防護(hù)架；20_過(guò)孔；3-螺栓；4-樣品臺(tái)。
【具體實(shí)施方式】
[0021]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明如后。
[0022]本實(shí)用新型提供的用于碲鎘汞薄膜霍爾測(cè)試的承載裝置(以下簡(jiǎn)稱承載裝置)包括底部支撐架，下面將詳細(xì)地描述本實(shí)用新型的承載裝置及其部件。
[0023]實(shí)施例1
[0024]如圖1所示為第一個(gè)實(shí)施例的承載裝置安裝至樣品臺(tái)4上的側(cè)視圖，第一底部支撐架包括安裝面14和設(shè)置在安裝面14的前側(cè)的保護(hù)擋板10’，保護(hù)擋板10’自安裝面14向上延伸，當(dāng)進(jìn)行霍爾測(cè)試時(shí)，測(cè)試樣品能夠抵靠在安裝面14上。需要說(shuō)明的是本實(shí)用新型中所指的方位術(shù)語(yǔ)均是將承載裝置安裝至樣品臺(tái)上進(jìn)行說(shuō)明的，由于樣品臺(tái)是豎直放置的，所以承載裝置安裝在樣品臺(tái)上時(shí)，測(cè)試樣品的底部設(shè)置在底部支撐架上，由此底部支撐架起到對(duì)測(cè)試樣品支持的作用。安裝面14是承載裝置安裝在樣品臺(tái)上時(shí)，靠近樣品臺(tái)的一個(gè)用于放置測(cè)試樣品的平面，保護(hù)擋板10’相對(duì)于樣品臺(tái)4設(shè)置于安裝面14的前側(cè)。作為實(shí)例，如圖1所示，安裝面14和保護(hù)擋板10’可以做成臺(tái)階面，保護(hù)擋板10’高于安裝面14，由此保護(hù)擋板10’可以阻擋測(cè)試樣品向前較大角度的傾斜。作為優(yōu)選地，保護(hù)擋