用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及磁盤磁頭測量領(lǐng)域，尤其涉及一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著磁盤存儲技術(shù)的飛速發(fā)展，作為磁盤的核心部件之一的磁頭支架，其生產(chǎn)質(zhì)量的檢測也愈加重要。磁頭支架的物理尺寸的檢測，是提供產(chǎn)品品質(zhì)的可靠保證，也可以給生產(chǎn)提供更多的改善空間，促進生產(chǎn)效率的不斷提升。目前，應用于磁頭支架的測量方法，主要是采用接觸式測量設(shè)備，其精確程度相對較低，且生產(chǎn)效率不高。尤其是對于ESG (企業(yè)級服務器)這類產(chǎn)品，由于其本身的物理尺寸較小，精度要求相對較高，因此接觸式測量較難滿足該類產(chǎn)品的測量需求。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型在于提供一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中接觸式測量設(shè)備的精確程度相對較低，且生產(chǎn)效率不高的問題。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提出一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備，其包括一基座、第一相機組件、第二相機組件、第一光源及第二光源，其中，基座用于承載磁頭支架；第一相機組件設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的上方，用于測量所述磁頭支架被測部分的長度；第二相機組件設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的一側(cè)，用于測量所述磁頭支架被測部分的高度；第一光源設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的下方，以將所述磁頭支架投影至所述第一相機組件；第二光源設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架相對于所述第二相機組件的另一側(cè)，以將所述磁頭支架投影至所述第二相機組件。
[0005]進一步地，所述第一相機組件包括第一相機、第一鏡頭及第一固定機構(gòu)，所述第一鏡頭安裝在所述第一相機上，所述第一相機水平固定于所述第一固定機構(gòu)的頂端，所述第一固定機構(gòu)豎直設(shè)置在所述基座上，使得所述第一鏡頭與所述基座豎直相對。
[0006]進一步地，所述第一固定機構(gòu)包括一固定板、一支架及一安裝板，所述第一相機固定于所述固定板，所述固定板垂直連接于所述支架的頂端，所述支架的底端垂直連接于所述安裝板，所述安裝板固定于所述基座。
[0007]進一步地，所述第二相機組件包括第二相機、第二鏡頭及第二固定機構(gòu)，所述第二鏡頭安裝在所述第二相機上，所述第二相機水平固定于所述第二固定機構(gòu)，所述第二固定機構(gòu)水平鋪設(shè)在所述基座上，使得所述第二鏡頭與所述磁頭支架水平相對。
[0008]進一步地，所述第二固定機構(gòu)設(shè)有一凹槽，所述第二相機及第二鏡頭嵌設(shè)于所述凹槽內(nèi)。
[0009]進一步地，所述第二鏡頭為一遠心鏡頭。
[0010]進一步地，所述基座上設(shè)有一用于承載所述磁頭支架的承載座，所述承載座垂直于所述第二相機組件。
[0011]進一步地，所述第一光源設(shè)置在所述承載座的底部，使其投射的光束豎直朝上射向所述磁頭支架。
[0012]進一步地，所述基座上設(shè)有一用于將所述第二光源固定于所述基座的安裝座，所述安裝座豎直設(shè)置在所述基座上，且與所述第二相機組件分別位于所述磁頭支架的相對兩側(cè)，使得所述第二光源投射的光束水平射向所述磁頭支架。
[0013]進一步地，所述第一光源、第二光源均為平行光源。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備，具有以下有益效果:通過在基座的不同方位分別設(shè)置第一相機組件、第二相機組件、第一光源及第二光源，提高了非接觸式管光學測量設(shè)備的精度程度，提高了磁頭支架尺寸的測量精確度，還提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型的用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2為本實用新型的磁頭支架被測部分的長度的測量示意圖。
[0017]圖3為本實用新型的磁頭支架被測部分的高度的測量示意圖。
[0018]其中，附圖標記說明如下:
[0019]100、非接觸式光學測量設(shè)備；10、基座；1、第一相機組件；11、第一相機；12、第一鏡頭；13、第一固定機構(gòu)；131、固定板；132、支架；133、安裝板；2、第二相機組件；21、第二相機；22、第二鏡頭；23、第二固定機構(gòu)；231、凹槽；3、第二光源；31、安裝座；4、測試按鈕；5、磁頭支架(待測產(chǎn)品)；51、承載座。
【具體實施方式】
[0020]以下參考附圖，對本實用新型予以進一步地詳盡闡述。
[0021]請參閱圖1，本實用新型提供的一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學測量設(shè)備100，其包括一基座10、第一相機組件1、第二相機組件2、第一光源(未示出)及第二光源3。其中，基座10用于承載待測產(chǎn)品磁頭支架5 ;第一相機組件I設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的上方，用于測量磁頭支架5被測部分的長度；第二相機組件I設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的一側(cè)，用于測量磁頭支架5被測部分的高度；第一光源設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的下方，以將磁頭支架5投影至第一相機組件I ;第二光源3設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5相對于第二相機組件I的另一側(cè)，以將磁頭支架5投影至第二相機組件2。
[0022]具體地，第一相機組件I包括第一相機11、第一鏡頭12及第一固定機構(gòu)13。第一鏡頭12安裝在第一相機11上，第一相機11水平固定于第一固定機構(gòu)13的頂端，第一固定機構(gòu)13豎直設(shè)置在基座10上，使得第一鏡頭12與基座10豎直相對。
[0023]第一固定機構(gòu)13包括一固定板131、一支架132及一安裝板133，第一相機11固定于固定板131，固定板131垂直連接于支架132的頂端，支架132的底端垂直連接于安裝板133，安裝板133固定于基座10。
[0024]第二相機組件2包括第二相機21、第二鏡頭22及第二固定機構(gòu)23。第二鏡頭22安裝在第二相機21上，第二相機21水平固定于第二固定機構(gòu)23，第二固定機構(gòu)23水平鋪設(shè)在基座10上，使得第二鏡頭22與磁頭支架5水平相對。進一步地，該第二鏡頭22為一遠心鏡頭，因此其景深能夠包含被測區(qū)域的縱向被測范圍，其測試精度的有效性是一般鏡頭無法達到的。
[0025]第二固定機構(gòu)23設(shè)有一凹槽231，第二相機21及第二鏡頭22嵌設(shè)于該凹槽231內(nèi)。
[0026]基座10上設(shè)有一用于承載磁頭支架5的承載座51，承載座51垂直于第二相機組件2。第一光