本實(shí)用新型涉及核電技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置。

背景技術(shù)：

核電站EPR機(jī)組堆芯儀表系統(tǒng)/氣動(dòng)小球測(cè)量子系統(tǒng)AMS(Aeroball Measurement System)，用于定期測(cè)量堆芯內(nèi)中子通量。根據(jù)系統(tǒng)維修大綱，需要每18個(gè)月對(duì)AMS探測(cè)器(360個(gè))進(jìn)行校驗(yàn)，校驗(yàn)需要使用Co60放射源產(chǎn)生的γ射線。

現(xiàn)有AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置的Co60放射源上方無屏蔽部件，最大劑量率的工作區(qū)域?yàn)樵凑戏绞直帲瑒┝柯蕿?2mSv/h，校驗(yàn)工作需用手依次將360個(gè)探測(cè)器放入Co60源上，整個(gè)校驗(yàn)工作手部吸收劑量很大，約為17mSv；由于Co60源向上裸露，人體禁止靠近源上方位置，但因工作人員需要在放射源周圍活動(dòng)，仍存在很大的誤照射風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N可避免輻射的AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置。

一種實(shí)施例中提供一種AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置，包括：

鉛屏蔽體，其上端具有圓柱型凹槽，凹槽底面鑲嵌有放射源，放射源偏離凹槽底面中心預(yù)設(shè)距離設(shè)置；

轉(zhuǎn)動(dòng)體，其為與圓柱型凹槽適配的圓柱體結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)動(dòng)體可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在圓柱型凹槽內(nèi)，并且轉(zhuǎn)動(dòng)體的高度小于等于圓柱型凹槽的深度，轉(zhuǎn)動(dòng)體的上表面設(shè)有用于安裝校驗(yàn)探頭的安裝孔，安裝孔的偏心距與放射源相同；

以及用于反射放射物質(zhì)的反射體，其安裝在鉛屏蔽體的上表面，反射體覆蓋部分的圓柱型凹槽，并且完全覆蓋住放射源。

進(jìn)一步地，安裝孔具有兩個(gè)，沿著轉(zhuǎn)軸中心對(duì)稱設(shè)置。

進(jìn)一步地，安裝孔上鑲嵌有套筒，并且套筒上表面與轉(zhuǎn)動(dòng)體上表面齊平，套筒材質(zhì)為碳素結(jié)構(gòu)鋼，套筒的上端具有開口，下端封閉，套筒的底部厚度為1mm，校驗(yàn)探頭安裝在套筒內(nèi)。

進(jìn)一步地，轉(zhuǎn)動(dòng)體下端安裝有輔助旋轉(zhuǎn)的平面軸承或滾珠。

進(jìn)一步地，轉(zhuǎn)動(dòng)體的上表面還設(shè)有用于轉(zhuǎn)動(dòng)的把手。

進(jìn)一步地，鉛屏蔽體上表面設(shè)有安裝反射體的凸起，使得反射體與轉(zhuǎn)動(dòng)體之間具有預(yù)設(shè)間隙。

進(jìn)一步地，放射源為Co60放射源。

進(jìn)一步地，反射體和轉(zhuǎn)動(dòng)體由鎢合金材質(zhì)制成。

進(jìn)一步地，還包括支撐架，鉛屏蔽體安裝在支撐架上。

進(jìn)一步地，支撐架的下端安裝有萬向輪。

依據(jù)上述實(shí)施例的AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置，由于在鉛屏蔽體安裝有反射體，反射體完全覆蓋住放射源，完全屏蔽了放射源對(duì)人體的照射，并且校驗(yàn)探頭安裝在可旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)體上，轉(zhuǎn)動(dòng)體可將安裝孔旋轉(zhuǎn)至反射體沒有覆蓋的區(qū)域用于安裝校驗(yàn)探頭，再將校驗(yàn)探頭旋轉(zhuǎn)至放射源的正上方進(jìn)行校驗(yàn)，從而使得校驗(yàn)操作方便，并且能夠完全避免輻射的傷害。

附圖說明

圖1為一種實(shí)施例中AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為一種實(shí)施例中AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置的局部剖視圖；

圖3為一種實(shí)施例中鉛屏蔽體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為一種實(shí)施例中轉(zhuǎn)動(dòng)體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為一種實(shí)施例中轉(zhuǎn)動(dòng)體的剖視圖；

圖6為一種實(shí)施例中套筒的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面通過具體實(shí)施方式結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

在本實(shí)施例中提供了一種AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置，本校驗(yàn)裝置主要用于對(duì)AMS探測(cè)器的校驗(yàn)，校驗(yàn)時(shí)能夠有效避免放射源的輻射，本裝置也可用于其他通過放射源校驗(yàn)的設(shè)備中。

如圖1和圖2所示，本例的AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置主要包括鉛屏蔽體1、轉(zhuǎn)動(dòng)體2和反射體3。

如圖1和圖3所示，鉛屏蔽體1由純鉛材質(zhì)制成，能夠有效的屏蔽放射源輻射。鉛屏蔽體1為圓柱型結(jié)構(gòu)，上端設(shè)有圓柱型凹槽11，圓柱型凹槽11和鉛屏蔽體1的中心線重合，在圓柱型凹槽11的底面設(shè)有安裝孔，安裝孔遠(yuǎn)離底面中心，靠近邊緣位置，放射源4鑲嵌安裝在底面的安裝孔中，并且放射源4不凸出于圓柱型凹槽11的底面，放射源4為Co60放射源，能夠?qū)MS探測(cè)器進(jìn)行校驗(yàn)。

如圖4所示，轉(zhuǎn)動(dòng)體2為圓柱體結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)動(dòng)體2與鉛屏蔽體1的圓柱型凹槽11相適配，轉(zhuǎn)動(dòng)體2的外徑略小于圓柱型凹槽11的內(nèi)徑，并且轉(zhuǎn)動(dòng)體2的高度小于等于圓柱體凹槽11的深度，轉(zhuǎn)動(dòng)體2可轉(zhuǎn)動(dòng)的安裝在鉛屏蔽體1的圓柱型凹槽11內(nèi)。

如圖5所示，為了提高轉(zhuǎn)動(dòng)體2轉(zhuǎn)動(dòng)靈活度，在轉(zhuǎn)動(dòng)體2的下端安裝軸承組件5，使得轉(zhuǎn)動(dòng)體2能夠靈活轉(zhuǎn)動(dòng)，在其他實(shí)施例中，也可安裝滾珠或平面軸承其輻射轉(zhuǎn)動(dòng)的作用。

轉(zhuǎn)動(dòng)體2的上表面設(shè)有貫穿轉(zhuǎn)動(dòng)體2的安裝孔21，本例中優(yōu)先的，在轉(zhuǎn)動(dòng)體2上設(shè)有兩個(gè)安裝孔21，兩個(gè)安裝孔21沿著旋轉(zhuǎn)中心對(duì)稱設(shè)置，并且安裝孔21的偏心距和圓柱型凹槽11的偏心距相同，使得安裝孔21能夠旋轉(zhuǎn)至放射源4的正上方。如圖4和圖6所示，在安裝孔21上還鑲嵌有套筒6，套筒6為碳素結(jié)構(gòu)鋼材質(zhì)，套筒6的上端具有用于安裝的法蘭盤，法蘭盤上設(shè)有安裝孔，套筒6的下端為封閉結(jié)構(gòu)，套筒6下端底部的厚度為1mm，可吸收Co60衍生的β射線，防止其對(duì)探頭校驗(yàn)產(chǎn)生的干擾。套筒6鑲嵌在轉(zhuǎn)動(dòng)體2的安裝孔21上了，為了讓套筒6不凸出于轉(zhuǎn)動(dòng)體2的上表面，在安裝孔21的上端設(shè)有下沉的圓形臺(tái)階面，套筒6通過螺釘固定在臺(tái)階面上。校驗(yàn)時(shí)，可將AMS探測(cè)器的校驗(yàn)探頭安裝到套筒6中。

為了方便操作轉(zhuǎn)動(dòng)體2的轉(zhuǎn)動(dòng)，在轉(zhuǎn)動(dòng)體2的上表面安裝有垂直的把手7，校驗(yàn)人員可通過把手7輕松的轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)體2。為了更好的安裝轉(zhuǎn)動(dòng)體2，鉛屏蔽體1的圓柱型凹槽11設(shè)有臺(tái)階，即臺(tái)階上端的腔體內(nèi)徑大于下端的內(nèi)徑，相應(yīng)的轉(zhuǎn)動(dòng)體2呈具有臺(tái)階的圓柱體，上端的外徑大于下端的外徑，臺(tái)階的設(shè)置，使得轉(zhuǎn)動(dòng)體2的安裝更為穩(wěn)定，旋轉(zhuǎn)也更為穩(wěn)定。

反射體3和轉(zhuǎn)動(dòng)體2都由高比重鎢合金97W2Ni1Fe材質(zhì)制成。反射體3呈橄欖球狀的板塊，反射體3安裝固定在鉛屏蔽體1的上端，反射體3覆蓋住部分的圓柱型凹槽11，并且完全覆蓋安裝在圓柱型凹槽11底部的放射源4，圓柱型凹槽11大半部分沒有被反射體3覆蓋，把手7位于沒有被覆蓋的區(qū)域，并且把手7高于反射體3，便于操作。

為了方便把手7能夠精確的將校驗(yàn)探頭旋轉(zhuǎn)至放射源4的正上方，在轉(zhuǎn)動(dòng)體3和鉛屏蔽體1的對(duì)應(yīng)位置設(shè)置對(duì)齊刻度，當(dāng)刻度對(duì)齊時(shí)，即旋轉(zhuǎn)到了指定位置可進(jìn)行校驗(yàn)。

如圖1所示，為了使得反射體3和轉(zhuǎn)動(dòng)體2之間預(yù)留有轉(zhuǎn)動(dòng)和走線的空間，在鉛屏蔽體1的上端設(shè)有預(yù)設(shè)高度凸起12，反射體3安裝在凸起12上。

本例的AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置還包括支撐架8，鉛屏蔽體1安裝在支撐架8上端，并且在支撐架8的下端安裝有五個(gè)萬向輪9，五個(gè)萬向輪9均勻分布在支撐架8下端的圓周上，萬向輪9方便了整個(gè)裝置的搬運(yùn)。

本例中的所有部件的外層由奧氏體不銹鋼包裹，防止鉛和鎢對(duì)環(huán)境的污染，及便于組裝。

本例的轉(zhuǎn)動(dòng)體2具有兩個(gè)安裝孔21，校驗(yàn)時(shí)，可先將校驗(yàn)探頭安裝到其中一個(gè)安裝孔21中，然后把手7轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)體2將校驗(yàn)探頭旋轉(zhuǎn)至放射源4的正上方進(jìn)行校驗(yàn)，在校驗(yàn)的過程中，另一個(gè)安裝孔21露出在外側(cè)，可將其他校驗(yàn)探頭安裝放置到安裝孔21中，待第一個(gè)校驗(yàn)探頭校驗(yàn)完畢后，轉(zhuǎn)動(dòng)體2旋轉(zhuǎn)180°，校驗(yàn)第二個(gè)放置的校驗(yàn)探頭，并取出第一個(gè)校驗(yàn)探頭，再放置第三個(gè)校驗(yàn)探頭，如此循環(huán)安裝校驗(yàn)，節(jié)約了安裝放置時(shí)間，提高校驗(yàn)效率。

本例的AMS探測(cè)器校驗(yàn)裝置，由于在鉛屏蔽體1安裝有反射體3，反射體3完全覆蓋住放射源4，完全屏蔽了放射源4對(duì)人體的照射，并且校驗(yàn)探頭安裝在可旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)體2上，轉(zhuǎn)動(dòng)體2可將安裝孔21旋轉(zhuǎn)至反射體3沒有覆蓋的區(qū)域用于安裝校驗(yàn)探頭，再將校驗(yàn)探頭旋轉(zhuǎn)至放射源4的正上方進(jìn)行校驗(yàn)，從而使得校驗(yàn)操作方便，并且能夠完全避免輻射的傷害。

與現(xiàn)有技術(shù)對(duì)比，本例的校驗(yàn)裝置的最大劑量的工作區(qū)域位于鎢反射層內(nèi)邊緣處，劑量率為32μSv/h，整個(gè)校驗(yàn)工作手部劑量約為32μSv，遠(yuǎn)小于原設(shè)備的17mSv。源正上方距本校驗(yàn)裝置10cm處劑量率為1.36μSv/h，小于核電站控制區(qū)綠區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)(2.5μSv/h)，徹底避免人體誤照射風(fēng)險(xiǎn)。本例的校驗(yàn)裝置極大降低了工作人員的吸收劑量和消除了誤照射風(fēng)險(xiǎn)。

以上應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行闡述，只是用于幫助理解本發(fā)明，并不用以限制本發(fā)明。對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的思想，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演、變形或替換。