本發(fā)明涉及光學(xué)測(cè)量
技術(shù)領(lǐng)域：
：，具體涉及一種采用夏克‐哈特曼法進(jìn)行深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差的檢測(cè)裝置和方法。
背景技術(shù)：
：：在科學(xué)研究領(lǐng)域和工業(yè)領(lǐng)域，工作于深紫外波段的光學(xué)系統(tǒng)起著越來(lái)越重要的作用，如半導(dǎo)體微光刻用的投影光學(xué)系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)中所使用的觀察系統(tǒng)、微納結(jié)構(gòu)制造過(guò)程中所使用的紫外光學(xué)系統(tǒng)等等，這些工作在深紫外波段的光學(xué)系統(tǒng)通常要求具有極小的波像差(幾個(gè)納米量級(jí))。因此，這些光學(xué)系統(tǒng)系統(tǒng)在加工、集成及工作的各個(gè)環(huán)節(jié)都要進(jìn)行波像差檢測(cè)。深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)方法主要有基于光干涉原理和基于夏克‐哈特曼波前傳感器兩種方法?；诠飧缮嬖淼姆椒òㄑ苌湫偷狞c(diǎn)衍射干涉儀(PDI)和線衍射干涉儀(LDI)，剪切型的橫向剪切干涉儀(LSI)、雙光柵剪切干涉儀(DLSI)、交叉光柵剪切干涉儀(CGLSI)和數(shù)字泰伯干涉儀(DTI)?；谙目拴\哈特曼波前傳感器的方法主要是Nikon公司采用的iPot。美國(guó)專利US6975387、US6914665和文獻(xiàn)《PortablephasemeasuringinterferometerusingShack‐Hartmannmethod》(Proc.SPIE,2003,5038:726～732)給出了采用夏克‐哈特曼波前傳感器測(cè)量深紫外光刻物鏡波像差的裝置及測(cè)量方法，但是該裝置需要大數(shù)值孔徑的準(zhǔn)直物鏡，給波像差檢測(cè)帶來(lái)了困難。中國(guó)專利CN1016092668通過(guò)在掩模臺(tái)上集成主機(jī)和第一標(biāo)準(zhǔn)鏡，在硅片臺(tái)上集成第二標(biāo)準(zhǔn)鏡，有效克服了大數(shù)值孔徑準(zhǔn)直物鏡所帶來(lái)的困難，但該系統(tǒng)的能量利用率、信噪比、檢測(cè)精度都有待提高。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置，可以實(shí)現(xiàn)深紫外光學(xué)系統(tǒng)集成裝調(diào)過(guò)程中系統(tǒng)波像差的快速高精度檢測(cè)。本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。本發(fā)明公開(kāi)一種深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置，其特征在于，該裝置包括準(zhǔn)分子激光器(1)、能量控制器(2)、平凹柱面鏡(3)、平凸柱面鏡(4)、分束鏡(5)、能量探測(cè)器(6)、第一平面反射鏡(7)、衍射光學(xué)元件(8)、傅里葉透鏡(9)、第一準(zhǔn)直物鏡(10)、第一1/4波片(11)、第一1/2波片(12)、第二平面反射鏡(13)、第一聚焦物鏡(14)、小孔板(15)、第二準(zhǔn)直物鏡(16)、第二1/2波片(17)、偏振分光棱鏡(18)、第二1/4波片(19)、第二聚焦物鏡(20)、待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)、球面反射鏡(22)、第一中繼鏡(23)、第二中繼鏡(24)和夏克‐哈特曼波前傳感器(25)；其中，準(zhǔn)分子激光器(1)出射的狹長(zhǎng)矩形光斑經(jīng)能量控制器(2)后得到能量大小適宜的矩形光斑，經(jīng)平凹柱透鏡(3)和平凸柱透鏡(4)后，成為方形光斑，方形光斑經(jīng)過(guò)分束鏡(5)后分成兩個(gè)部分，一部分經(jīng)分束鏡(5)反射后進(jìn)入探測(cè)器(6)，另一部分透過(guò)分束鏡(5)后，通過(guò)第一平面反射鏡(7)反射，傳輸?shù)窖苌涔鈱W(xué)元件(8)，在傅里葉透鏡(9)的焦面上得到能量均勻分布的圓形光斑，該圓形光斑經(jīng)第一準(zhǔn)直物鏡(10)后成為平行光束，該平行光束分別經(jīng)過(guò)第一1/4波片(11)和第一1/2波片(12)后得到P偏振光，經(jīng)第二平面反射鏡(13)反射后，被第一聚焦物鏡(14)聚焦到小孔板(15)上，從小孔板(15)出射的波前經(jīng)第二準(zhǔn)直物鏡(16)準(zhǔn)直后，通過(guò)第二1/2波片(17)調(diào)整偏振方向，得到P偏振光，該P(yáng)偏振光分別經(jīng)過(guò)偏振分光棱鏡(18)和第二1/4波片(19)后成為圓偏振光，經(jīng)過(guò)第二聚焦物鏡(20)聚焦后進(jìn)入待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)，然后通過(guò)球面反射鏡(22)反射后再一次進(jìn)入待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)，經(jīng)第二聚焦物鏡(20)和第二1/4波片(19)后成為S偏振光，S偏振光經(jīng)偏振分光棱鏡(18)反射后，進(jìn)入第一中繼鏡(23)和第二中繼鏡(24)，最后在夏克‐哈特曼波前傳感器(25)的探測(cè)面上得到光斑陣列，由光斑陣列的位置信息計(jì)算得待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的波像差信息。優(yōu)選地，所述衍射光學(xué)元件(8)在兩個(gè)正交方向上具有不同的發(fā)散角，用于將第一平面反射鏡(7)反射得到的能量分布不均勻的方形光斑轉(zhuǎn)換成能量分布均勻的圓形光斑。優(yōu)選地，所述傅里葉透鏡(9)的后焦面和第一準(zhǔn)直物鏡(10)的前焦面重合，且和第一聚焦物鏡(14)的后焦面共軛。優(yōu)選地，所述小孔板(15)位于第一聚焦物鏡(14)的后焦面上，小孔板(15)所在平面與第二聚焦物鏡(20)后焦面、夏克‐哈特曼波前傳感器(25)探測(cè)面共軛。優(yōu)選地，所述小孔板(15)是通過(guò)刻蝕介質(zhì)掩模上的介質(zhì)膜得到的，其激光損傷閾值可達(dá)3J/cm2。優(yōu)選地，所述小孔板(15)包括熔石英或氟化鈣基底(151)、在所述熔石英或氟化鈣基底(151)上交疊鍍制的多層低折射率材料(152)和多層高折射率材料(153)，其最外面一層是低折射率材料(152)，其厚度為工作波長(zhǎng)的一半；所述小孔板(15)還包括小孔(154)，所述小孔(154)是通過(guò)刻蝕所述交疊鍍制的多層低折射率材料(152)和多層高折射率材料(153)形成的。優(yōu)選地，其特征在于，所述第二聚焦物鏡(20)為像方遠(yuǎn)心，其出瞳位置和待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的入瞳位置重合。優(yōu)選地，所述球面反射鏡(22)，其數(shù)值孔徑比待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的數(shù)值孔徑大，其表面鍍有深紫外波段專用的高反射膜。一種深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)方法，其采用上述的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置，所述方法包括以下步驟：(1)、調(diào)整平凹柱面鏡(3)和平凸柱面鏡(4)的間距，使從平凸柱面鏡(4)后出射的光斑形狀為方形；(2)、旋轉(zhuǎn)衍射光學(xué)元件(8)，使得在傅里葉透鏡(9)的后焦面上獲得能量均勻分布的圓形光斑；(3)、調(diào)整第一聚焦物鏡(14)的位置，使從小孔板(15)出射的光束能量最大，調(diào)整小孔板(15)的位置，使其位于第二準(zhǔn)直物鏡(16)的后焦面上；(4)、旋轉(zhuǎn)第一1/4波片(11)、第一1/2波片(12)、第二1/2波片(17)和第二1/4波片(19)，使夏克‐哈特曼波前傳感器(25)探測(cè)面上的能量最大；(5)、測(cè)量球面反射鏡(22)在初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置及平移位置時(shí)的波前T0(x,y)、T45(x,y)、T90(x,y)、T135(x,y)、T180(x,y)、T225(x,y)、T270(x,y)和T315(x,y)及TShift(x,y)，計(jì)算球面反射鏡(22)的面形誤差F(x,y)；(6)、將球面反射鏡(22)放置于第二聚焦物鏡(20)下方，使球面反射鏡(22)的曲率中心和第二聚焦物鏡(20)的后焦點(diǎn)重合，測(cè)量球面反射鏡(22)在初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置及平移位置的波前T′0(x,y)、T′45(x,y)、T′90(x,y)、T′135(x,y)、T′180(x,y)、T′225(x,y)、T′270(x,y)和T′315(x,y)及T′Shift(x,y)，計(jì)算此時(shí)球面反射鏡(22)的面形誤差F′(x,y)，計(jì)算得系統(tǒng)誤差Wsystem為Wsystem(x,y)＝T′0(x,y)‐2F′(x,y)；(7)、計(jì)算待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的波像差WPO為：WPO＝T0(x,y)‐Wsystem(x,y)‐2F(x,y)；(8)、移動(dòng)第二聚焦物鏡(20)到待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的其他視場(chǎng)點(diǎn)上，調(diào)整球面反射鏡(22)到相應(yīng)位置，重復(fù)步驟(7)，直到完成所有視場(chǎng)點(diǎn)處的波像差測(cè)量。優(yōu)選地，所述球面反射鏡(22)的面形誤差通過(guò)旋轉(zhuǎn)‐平移法進(jìn)行標(biāo)定。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置，通過(guò)在深紫外光學(xué)系統(tǒng)物面上放置共軛成像模塊及夏克‐哈特曼波前傳感器，在深紫外光學(xué)系統(tǒng)像面上放置球面反射鏡實(shí)現(xiàn)深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差的檢測(cè)。本發(fā)明通過(guò)一個(gè)兩個(gè)正交方向上具有不同的發(fā)散角的衍射光學(xué)元件便可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)分子激光的勻化，使到達(dá)夏克‐哈特曼波前傳感器探測(cè)面上的光斑更加的均勻；利用介質(zhì)掩膜上刻蝕小孔提高了小孔板的激光損傷閾值，極大提高了檢測(cè)系統(tǒng)的能量利用率，提高了檢測(cè)系統(tǒng)的信噪比；通過(guò)在工作波長(zhǎng)下的旋轉(zhuǎn)‐平移實(shí)現(xiàn)球面反射鏡面形誤差的高精度在線標(biāo)定，避免了離線標(biāo)定前后，球面反射鏡面形誤差的變化。本發(fā)明的裝置和方法均有利于提高深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差的檢測(cè)精度，可以實(shí)現(xiàn)深紫外光學(xué)系統(tǒng)集成裝調(diào)過(guò)程中系統(tǒng)波像差的快速高精度檢測(cè)。附圖說(shuō)明通過(guò)閱讀下文優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)描述，各種其他的優(yōu)點(diǎn)和益處對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將變得清楚明了。附圖僅用于示出優(yōu)選實(shí)施方式的目的，而并不認(rèn)為是對(duì)本發(fā)明的限制。而且在整個(gè)附圖中，用相同的參考符號(hào)表示相同的部件。在附圖中：圖1為本發(fā)明所述的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置的示意圖；圖2為本發(fā)明所述的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置中小孔板的結(jié)構(gòu)圖；圖3為旋轉(zhuǎn)‐平移法標(biāo)定球面反射鏡面形誤差的原理示意圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置包括：1、準(zhǔn)分子激光器，2、能量控制器，3、平凹柱面鏡，4、平凸柱面鏡，5、分束鏡，6、能量探測(cè)器，7、第一平面反射鏡，8、衍射光學(xué)元件，9、傅里葉透鏡，10、第一準(zhǔn)直物鏡，11、第一1/4波片，12、第一1/2波片，13、第二平面反射鏡，14、第一聚焦物鏡，15、小孔板，16、第二準(zhǔn)直物鏡，17、第二1/2波片，18、偏振分光棱鏡，19、第二1/4波片，20、第二聚焦物鏡，21、待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)，22、球面反射鏡，23、第一中繼鏡，24、第二中繼鏡，25、夏克‐哈特曼波前傳感器。小孔板15包括：151、熔石英或氟化鈣基底，152、低折射率材料，153、高折射率材料，154、小孔具體實(shí)施方式下面將參照附圖更詳細(xì)地描述本公開(kāi)的示例性實(shí)施方式。雖然附圖中顯示了本公開(kāi)的示例性實(shí)施方式，然而應(yīng)當(dāng)理解，可以以各種形式實(shí)現(xiàn)本公開(kāi)而不應(yīng)被這里闡述的實(shí)施方式所限制。相反，提供這些實(shí)施方式是為了能夠更透徹地理解本公開(kāi)，并且能夠?qū)⒈竟_(kāi)的范圍完整的傳達(dá)給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。如圖1所示，本發(fā)明所述的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置包括準(zhǔn)分子激光器(1)、能量控制器(2)、平凹柱面鏡(3)、平凸柱面鏡(4)、分束鏡(5)、能量探測(cè)器(6)、第一平面反射鏡(7)、衍射光學(xué)元件(8)、傅里葉透鏡(9)、第一準(zhǔn)直物鏡(10)、第一1/4波片(11)、第一1/2波片(12)、第二平面反射鏡(13)、第一聚焦物鏡(14)、小孔板(15)、第二準(zhǔn)直物鏡(16)、第二1/2波片(17)、偏振分光棱鏡(18)、第二1/4波片(19)、第二聚焦物鏡(20)、待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)、球面反射鏡(22)、第一中繼鏡(23)、第二中繼鏡(24)和夏克‐哈特曼波前傳感器(25)。其中，準(zhǔn)分子激光器(1)出射的狹長(zhǎng)矩形光斑經(jīng)能量控制器(2)后得到能量大小適宜的矩形光斑，經(jīng)平凹柱透鏡(3)和平凸柱透鏡(4)后，成為方形光斑，方形光斑經(jīng)過(guò)分束鏡(5)后分成兩個(gè)部分，一部分經(jīng)分束鏡(5)反射后進(jìn)入探測(cè)器(6)，另一部分透過(guò)分束鏡(5)后，通過(guò)第一平面反射鏡(7)反射，傳輸?shù)窖苌涔鈱W(xué)元件(8)，在傅里葉透鏡(9)的焦面上得到能量均勻分布的圓形光斑，該圓形光斑經(jīng)第一準(zhǔn)直物鏡(10)后成為平行光束，該平行光束分別經(jīng)過(guò)第一1/4波片(11)和第一1/2波片(12)后得到P偏振光，經(jīng)第二平面反射鏡(13)反射后，被第一聚焦物鏡(14)聚焦到小孔板(15)上，從小孔板(15)出射的波前經(jīng)第二準(zhǔn)直物鏡(16)準(zhǔn)直后，通過(guò)第二1/2波片(17)調(diào)整偏振方向，得到P偏振光，該P(yáng)偏振光分別經(jīng)過(guò)偏振分光棱鏡(18)和第二1/4波片(19)后成為圓偏振光，經(jīng)過(guò)第二聚焦物鏡(20)聚焦后進(jìn)入待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)，然后通過(guò)球面反射鏡(22)反射后再一次進(jìn)入待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)，經(jīng)第二聚焦物鏡(20)和第二1/4波片(19)后成為S偏振光，S偏振光經(jīng)偏振分光棱鏡(18)反射后，進(jìn)入第一中繼鏡(23)和第二中繼鏡(24)，最后在夏克‐哈特曼波前傳感器(25)的探測(cè)面上得到光斑陣列，由光斑陣列的位置信息計(jì)算得待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的波像差信息。上述衍射光學(xué)元件(8)在兩個(gè)正交方向上具有不同的發(fā)散角，能夠?qū)⒌谝黄矫娣瓷溏R(7)反射得到的能量分布不均勻的方形光斑轉(zhuǎn)換成能量分布均勻的圓形光斑。所述傅里葉透鏡(9)的后焦面和第一準(zhǔn)直物鏡(10)的前焦面重合，且和第一聚焦物鏡(14)的后焦面共軛。裝置中的第二聚焦物鏡(20)為像方遠(yuǎn)心，其出瞳位置和待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的入瞳位置重合。如圖2所示，為本發(fā)明所述的深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差檢測(cè)裝置中小孔板(15)的結(jié)構(gòu)圖。小孔板(15)是通過(guò)刻蝕介質(zhì)掩模上的介質(zhì)膜得到的，其激光損傷閾值可達(dá)3J/cm2。小孔板(15)由熔石英或氟化鈣基底(151)、低折射率材料(152)(如氟化鎂MgF2)、高折射率材料(153)(如氟化鑭LaF3)和小孔(154)組成，從所述熔石英或氟化鈣基底(151)上開(kāi)始分別鍍制低折射率材料(152)、高折射率材料(153)、低折射率材料(152)、……、高折射率材料(153)、低折射率材料(152)，且最外面的一層低折射率材料(152)其厚度為工作波長(zhǎng)的一半。所述小孔(154)是通過(guò)刻蝕低折射率材料(152)和高折射率材料(153)后形成的。小孔板(15)上的小孔(154)，其直徑大小d根據(jù)下式確定：其中D為夏克‐哈特曼波前傳感器(25)中單個(gè)微透鏡元在探測(cè)面上得到的愛(ài)里斑直徑大小，fMLA為單個(gè)微透鏡元的焦距，fCOL為第二準(zhǔn)直物鏡(16)的前焦距大小。該小孔板位于第一聚焦物鏡(14)的后焦面上，小孔板(15)所在平面與第二聚焦物鏡(20)后焦面、夏克‐哈特曼波前傳感器(25)探測(cè)面共軛。本發(fā)明裝置中的球面反射鏡(22)其數(shù)值孔徑比待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的數(shù)值孔徑大，其表面鍍有深紫外波段專用的高反射膜。如圖3所示，為采用旋轉(zhuǎn)‐平移法進(jìn)行球面反射鏡(22)面形誤差標(biāo)定的原理示意圖。其中圖3(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)和(h)分別為球面反射鏡(22)位于初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置的情況，圖3(i)為球面反射鏡(22)相對(duì)初始位置平移s后的位置。具體標(biāo)定過(guò)程如下：設(shè)球面反射鏡(22)的面形誤差為F(x,y)，球面反射鏡(22)引起的波像差為W(x,y)，Wsym(x,y)和WAsym(x,y)分別表示球面反射鏡(22)波像差W(x,y)的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱部分和非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱部分，V(x,y)為除球面反射鏡(22)之外各部件的引起的像差。球面反射鏡(22)在初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置及初始位置平移s時(shí)，通過(guò)夏克‐哈特曼波前傳感器(25)測(cè)得的波像差分別為T0(x,y)、T45(x,y)、T90(x,y)、T135(x,y)、T180(x,y)、T225(x,y)、T270(x,y)和T315(x,y)及TShift(x,y)，在這些位置處，球面反射鏡(22)引起的波像差為W0(x,y)、W45(x,y)、W90(x,y)、W135(x,y)、W180(x,y)、W225(x,y)、W270(x,y)和W315(x,y)及W(x‐s,y)，則有：W(x,y)＝WSym(x,y)+WAsym(x,y)(2)TShift(x,y)＝W0(x-s,y)+V(x,y)(4)取8次測(cè)量結(jié)果的平均值Γ(x,y)：式中W8Nθ(x,y)為波前W(x,y)中45°對(duì)稱部分。將T0(x,y)減去式(5)得：T0(x,y)-Γ(x,y)＝WAsym(x,y)-W8Nθ(x,y)(6)當(dāng)W8Nθ(x,y)很小時(shí)，由式(6)求得W(x,y)中的旋轉(zhuǎn)非對(duì)稱誤差WAsym(x,y)。將T0(x,y)減去式(4)得：通過(guò)迭代計(jì)算即得WSym(x,y)。再根據(jù)式(2)，即求得球面反射鏡(22)引起的波像差為W(x,y)，于是，球面反射鏡(22)引起的面形誤差F(x,y)為：利用本發(fā)明所述的裝置測(cè)量深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差的方法步驟如下：(1)、調(diào)整平凹柱面鏡(3)和平凸柱面鏡(4)的間距，使從平凸柱面鏡(4)后出射的光斑形狀為方形。(2)、旋轉(zhuǎn)衍射光學(xué)元件(8)，使得在傅里葉透鏡(9)的后焦面上獲得能量均勻分布的圓形光斑。(3)、調(diào)整第一聚焦物鏡(14)的位置，使從小孔板(15)出射的光束能量最大，調(diào)整小孔板(15)的位置，使其位于第二準(zhǔn)直物鏡(16)的后焦面上。(4)、旋轉(zhuǎn)第一1/4波片(11)、第一1/2波片(12)、第二1/2波片(17)和第二1/4波片(19)，使夏克‐哈特曼波前傳感器(25)探測(cè)面上的能量最大。(5)、測(cè)量球面反射鏡(22)在初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置及平移位置時(shí)的波前T0(x,y)、T45(x,y)、T90(x,y)、T135(x,y)、T180(x,y)、T225(x,y)、T270(x,y)和T315(x,y)及TShift(x,y)，計(jì)算球面反射鏡(22)的面形誤差F(x,y)。(6)、將球面反射鏡(22)放置于第二聚焦物鏡(20)下方，使球面反射鏡(22)的曲率中心和第二聚焦物鏡(20)的后焦點(diǎn)重合，測(cè)量球面反射鏡(22)在初始位置、旋轉(zhuǎn)45°、90°、135°、180°、225°、270°和315°位置及平移位置的波前T′0(x,y)、T′45(x,y)、T′90(x,y)、T′135(x,y)、T′180(x,y)、T′225(x,y)、T′270(x,y)和T′315(x,y)及T′Shift(x,y)，計(jì)算此時(shí)球面反射鏡(22)的面形誤差F′(x,y)，計(jì)算得系統(tǒng)誤差Wsystem為Wsystem(x,y)＝T′0(x,y)‐2F′(x,y)。(7)、計(jì)算待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的波像差WPO為：WPO＝T0(x,y)‐Wsystem(x,y)‐2F(x,y)。(8)、移動(dòng)第二聚焦物鏡(20)到待測(cè)深紫外光學(xué)系統(tǒng)(21)的其他視場(chǎng)點(diǎn)上，調(diào)整球面反射鏡(22)到相應(yīng)位置，重復(fù)步驟(7)，直到完成所有視場(chǎng)點(diǎn)處的波像差測(cè)量。以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本
技術(shù)領(lǐng)域：
：的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求所述的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3