技術(shù)特征：
1.一種基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：S1、將待測樣品放置在樣品放置區(qū)，并將力學(xué)感應(yīng)器固定于掃描電子顯微鏡原位檢測裝置的X軸移動平臺頂部的樣品放置區(qū)一側(cè)，將待測樣品放置于樣品放置區(qū)，并將硅晶片固定于Z軸移動平臺頂端的近樣品放置區(qū)端；其中，掃描電子顯微鏡原位檢測裝置包括設(shè)置在基座上的Y軸移動平臺，設(shè)置在Y軸移動平臺上的X軸移動平臺，及設(shè)置在基座上的Z軸移動平臺，所述樣品放置區(qū)設(shè)置在X軸移動平臺頂端的近Z軸移動平臺端；S2、通過聚焦離子束在力學(xué)感應(yīng)器上蝕刻第一T型凹槽，并在硅晶片上蝕刻出第二T型凹槽，所述第一T型凹槽與所述第二T型凹槽組成I型凹槽；通過聚焦離子束在待測樣品上蝕刻出與所述I型凹槽相適配的I型凸起狀樣品；S3、將鎢探針與I型凸起狀樣品粘接后，將I型凸起狀樣品運輸至I型凹槽中固定，并通過電子束照射將鎢探針與I型凸起狀樣品分離；S4、啟動電子顯微鏡的錄像，并以指定移動速度移動X軸移動平臺，直至將I型凸起狀樣品拔斷；S5、根據(jù)錄像中的多幀連續(xù)圖像、及力學(xué)感應(yīng)器測得的拉力數(shù)據(jù)，得到待測樣品的力學(xué)性能、及應(yīng)力-應(yīng)變曲線。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述步驟S2具體包括：S21、通過聚焦離子束在力學(xué)感應(yīng)器上蝕刻第一T型凹槽；S22、通過聚焦離子束在硅晶片上蝕刻第二T型凹槽；S23、通過聚焦離子束在待測樣品上蝕刻出與所述I型凹槽相適配的I型凸起狀樣品。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述步驟S3具體包括：S31、將鎢探針與I型凸起狀樣品接觸后，通過鉑金沉積法將鎢探針與I型凸起狀樣品粘接，并移動鎢探針將I型凸起狀樣品運輸至一端固定于所述第二T型凹槽；S32、通過聚焦離子束照射鎢探針與I型凸起狀樣品的粘接處，將鎢探針與I型凸起狀樣品分離；S33、通過鉑金沉積法將I型凸起狀樣品固定于所述第二T型凹槽；S33、移動X軸移動平臺和Y軸移動平臺，將I型凸起狀樣品的另一端固定于所述第一T型凹槽，并通過鉑金沉積法將將I型凸起狀樣品的領(lǐng)域段固定于所述第一T型凹槽。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述移動速度為0.3-0.7nm/s。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述移動速度為0.5nm/s。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述第一T型凹槽的頂部長度為15微米、底部長度為2微米、寬度為6微米，深度為4微米。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述第二T型凹槽的頂部長度為15微米、底部長度為2微米、寬度為6微米，深度為4微米。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述基于力學(xué)感測器的力學(xué)性能測試方法，其特征在于，所述I型凸起狀樣品的長度為20微米、寬度為4微米、厚度小于1微米。