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光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置和方法與流程

文檔序號:12118719閱讀:654來源:國知局
光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置和方法與流程

本發(fā)明涉及平板顯示屏背光源檢測,具體地,涉及光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置和方法。



背景技術(shù):

光學(xué)檢測技術(shù)是指利用光學(xué)方式取得成品的表面狀態(tài),采集圖像,經(jīng)過圖像處理來檢查出異物或圖案異常等瑕疵。平板顯示屏或背光源檢測過程中,某些缺陷在通常情況下觀測不出,只有在受到一定壓力的條件下,缺陷才顯現(xiàn)出來,因此平板顯示屏或背光源光學(xué)檢測過程中需要對工件施加一定的壓力。

隨著平板顯示技術(shù)的發(fā)展,平板顯示屏或背光源的自動光學(xué)檢測儀器需求市場不斷擴(kuò)大。目前,國內(nèi)只有少數(shù)企業(yè)具有平板顯示屏自動光學(xué)檢測儀器設(shè)計(jì)研發(fā)以及全套生產(chǎn)技術(shù)外,而且全球僅有少數(shù)幾家國外廠商具有平板顯示屏自動光學(xué)檢測儀器的研制能力。國內(nèi)目前使用該項(xiàng)儀器全部依靠進(jìn)口,高度壟斷使平板顯示屏自動光學(xué)檢測儀器缺乏有效競爭,國外廠家占有90%左右的市場份額。國外廠商憑借壟斷地位賺取高額壟斷利潤,銷售凈利率最近兩年甚至達(dá)到50%左右。所以,開發(fā)國產(chǎn)平板顯示屏自動光學(xué)檢測儀器十分有必要,發(fā)展我國平板顯示屏自動光學(xué)檢測儀器可以打破國外壟斷,實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代。

手機(jī)背光源檢測過程中,某些缺陷在通常情況下觀測不出,只有在受到一定壓力的條件下,缺陷才顯現(xiàn)出來,因此手機(jī)背光源光學(xué)檢測過程中需要對工件施加一定的壓力。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置,該裝置結(jié)構(gòu)簡單、使用方便,能夠快速便捷地對平板顯示屏背光源進(jìn)行檢測。

本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的方法,使用該方法能夠在不影響正面檢測的情況下對手機(jī)背光源施加壓力,提高了平板顯示屏背光源檢測準(zhǔn)確度。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置,裝置包括工位、光學(xué)膜、光學(xué)膜裝置、抽氣孔、檢測平臺和抽真空裝置;

工位為矩形框型且工位的底端面密封固接在檢測平臺上,光學(xué)膜裝置設(shè)置在工位的上方并將光學(xué)膜密封罩設(shè)在工位的頂端面上以使得工位內(nèi)部形成密閉空間;

檢測平臺的中心位置開設(shè)有貫穿的抽氣孔,抽氣孔與抽真空裝置相連接以使得抽真空裝置能夠抽走密閉空間中的空氣;其中,

工位內(nèi)設(shè)有水平設(shè)置的工件槽,工件槽的深度與平板顯示屏背光源工件厚度相同;工件槽下方與工位底面之間具有一空腔且工件槽四周設(shè)有多個(gè)通孔以使得空腔與工件槽相通。

優(yōu)選地,光學(xué)膜裝置為一矩形框,矩形框的外部長寬與工位的長寬相等,矩形框的內(nèi)部長比平板顯示屏背光源工件的長大3-5mm,矩形框的內(nèi)部寬比平板顯示屏背光源工件的寬大3-5mm。

優(yōu)選地,抽氣孔的直徑為6mm。

本發(fā)明還提供了一種光學(xué)檢測中使用上述裝置對平板顯示屏背光源施加壓力的方法,包括:

步驟1:將工位安裝在檢測平臺上并對工位與檢測平臺之間的連接處進(jìn)行密封處理;

步驟2:先將平板顯示屏背光源工件點(diǎn)亮并放置在工件槽中,再將光學(xué)膜粘貼在光學(xué)膜裝置下方,然后將光學(xué)膜裝置按壓在工位上方并使得光學(xué)膜密封覆蓋在平板顯示屏背光源工件上;

步驟3:開啟氣閥對抽真空裝置通氣使得抽真空裝置對工位中的空腔進(jìn)行抽氣;

步驟4:使用光學(xué)設(shè)備從工位上方進(jìn)行拍照。

優(yōu)選地,當(dāng)所述空腔中的氣壓達(dá)到-80~-90kPa時(shí)使用光學(xué)設(shè)備進(jìn)行拍照。

根據(jù)上述技術(shù)方案,本發(fā)明將平板顯示屏背光源工件放置在工件槽中點(diǎn)亮,將光學(xué)膜裝置按壓在工位上方,保持四周對齊,密封良好。打開氣閥對抽真空裝置通氣,使抽真空裝置對工位下方腔體進(jìn)行抽氣,由于工位下方腔體氣壓變低,大氣壓對光學(xué)膜有向下的壓力,從而使背光源表面受到力的作用,而光學(xué)膜是透明的,不影響檢測裝置對背光源受壓下暴露缺陷的識別,并且能夠在不影響正面檢測的情況下對手機(jī)背光源施加壓力,提高了平板顯示屏背光源檢測準(zhǔn)確度。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明,但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。在附圖中:

圖1是根據(jù)本發(fā)明提供的一種實(shí)施方式中的光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是根據(jù)本發(fā)明提供的一種實(shí)施方式中的光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置中的光學(xué)膜裝置與工件槽的裝配示意圖。

附圖標(biāo)記說明

1-工位 2-光學(xué)膜

3-光學(xué)膜裝置 4-抽氣孔

5-檢測平臺 6-抽真空裝置

7-工件槽 8-光學(xué)設(shè)備

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是,此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明,并不用于限制本發(fā)明。

在本發(fā)明中,在未作相反說明的情況下,“上、下、內(nèi)、外”等包含在術(shù)語中的方位詞僅代表該術(shù)語在常規(guī)使用狀態(tài)下的方位,或?yàn)楸绢I(lǐng)域技術(shù)人員理解的俗稱,而不應(yīng)視為對該術(shù)語的限制。

參見圖1,本發(fā)明提供一種光學(xué)檢測中對平板顯示屏背光源施加壓力的裝置,裝置包括工位1、光學(xué)膜2、光學(xué)膜裝置3、抽氣孔4、檢測平臺5和抽真空裝置6;

工位1為矩形框型且工位1的底端面密封固接在檢測平臺5上,光學(xué)膜裝置3設(shè)置在工位1的上方并將光學(xué)膜2密封罩設(shè)在工位1的頂端面上以使得工位1內(nèi)部形成密閉空間;

檢測平臺5的中心位置開設(shè)有貫穿的抽氣孔4,抽氣孔4與抽真空裝置6相連接以使得抽真空裝置6能夠抽走密閉空間中的空氣;其中,

工位1內(nèi)設(shè)有水平設(shè)置的工件槽7(如圖2所示),工件槽7的深度與平板顯示屏背光源工件厚度相同;工件槽7下方與工位1底面之間具有一空腔且工件槽7四周設(shè)有多個(gè)通孔以使得空腔與工件槽7相通。

光學(xué)膜裝置3為一矩形框,矩形框的外部長寬與工位1的長寬相等,矩形框的內(nèi)部長比平板顯示屏背光源工件的長大3-5mm,矩形框的內(nèi)部寬比平板顯示屏背光源工件的寬大3-5mm。

抽氣孔4的直徑為6mm。

本發(fā)明還提供一種光學(xué)檢測中使用上述裝置對平板顯示屏背光源施加壓力的方法,包括:

步驟1:將工位1安裝在檢測平臺5上并對工位1與檢測平臺5之間的連接處進(jìn)行密封處理;

步驟2:先將平板顯示屏背光源工件點(diǎn)亮并放置在工件槽7中,再將光學(xué)膜2粘貼在光學(xué)膜裝置3下方,然后將光學(xué)膜裝置3按壓在工位1上方并使得光學(xué)膜2密封覆蓋在平板顯示屏背光源工件上;

步驟3:開啟氣閥對抽真空裝置6通氣使得抽真空裝置6對工位1中的空腔進(jìn)行抽氣;

步驟4:使用光學(xué)設(shè)備8從工位1上方進(jìn)行拍照。

在步驟4中,當(dāng)空腔中的氣壓達(dá)到-80~-90kPa時(shí)使用光學(xué)設(shè)備8進(jìn)行拍照。

在一種實(shí)施方式中,包括以下步驟:

首先,制作一個(gè)工位1,該工位安裝在檢測平臺5上,用于放置背光源工件,工件槽7尺寸65mm×120mm(與工件一致),工件槽7深度與背光源工件厚度一致為1mm,工件槽7下方掏空,工件槽7四周銑成通孔使上方與下方相通,工位1與檢測平臺5連接處進(jìn)行密封處理。

然后,制作一矩形框,尺寸與工位四周一致,內(nèi)部矩形孔尺寸為70mm×125mm。在矩形框下方粘貼一層光學(xué)膜2。保證光學(xué)膜裝置3壓至工位1上方時(shí),密封性良好。

接著,在檢測平臺上打一個(gè)直徑6mm的抽氣孔4,在下方安裝抽真空裝置6,用軟管鏈接抽氣孔4與抽真空裝置6,通過抽氣孔4對工位1下方腔體抽氣,此過程對抽真空裝置6將腔體氣壓抽到-90kPa。

最后,將背光源工件放置在工件槽7中點(diǎn)亮,將光學(xué)膜裝置3按壓在工位1上方,保持四周對齊,密封良好。打開氣閥對抽真空裝置6通氣,使抽真空裝置6對工位1下方腔體進(jìn)行抽氣,由于工位1下方腔體氣壓變低,大氣壓對光學(xué)膜2有向下的壓力,從而使背光源表面受到力的作用,而光學(xué)膜是透明的,不影響檢測裝置對背光源受壓下暴露缺陷的識別。腔體內(nèi)氣壓達(dá)到-90kPa時(shí),光學(xué)設(shè)備8進(jìn)行拍照。

以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡單變型,這些簡單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

另外需要說明的是,在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合,為了避免不必要的重復(fù),本發(fā)明對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外,本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合,只要其不違背本發(fā)明的思想,其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。

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