本發(fā)明涉及放射線成像裝置和放射線成像系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

稱為電子盒的便攜式放射線成像裝置已經(jīng)投入使用。當(dāng)便攜式放射線成像裝置跌落時(shí)，由此導(dǎo)致的對(duì)放射線成像裝置的沖擊可能使放射線成像裝置的殼體破損或變形。針對(duì)這種破損或變形的各種對(duì)策已被提出。日本專利第4248940號(hào)提出了一種通過(guò)使用外殼和內(nèi)殼并且用減震器填充外殼與內(nèi)殼之間的空間來(lái)形成殼體的技術(shù)。日本專利特開(kāi)第2013-257198號(hào)提出了一種對(duì)殼體的各角(corner)進(jìn)行倒角(chamfer)并且使可拆卸的減震器附接到倒角后的表面的技術(shù)。

在日本專利第4248940號(hào)中公開(kāi)的殼體的外表面僅由外殼形成。當(dāng)該外殼由具有高彈性模量的材料形成時(shí)，可以減輕整個(gè)殼體在其跌落時(shí)的變形。然而，應(yīng)力集中在外殼上。這可能使外殼破損。與此對(duì)照，如果外殼的彈性模量被降低，則難以減輕整個(gè)殼體的變形。此外，如在日本專利特開(kāi)第2013-257198號(hào)中公開(kāi)的，當(dāng)減震器被附接到殼體的外表面時(shí)，放射線成像裝置的跌落沖擊通過(guò)減震器而被傳送到殼體。這可能使整個(gè)殼體扭曲或變形。如上所述，現(xiàn)有方法難以減輕殼體的破損和變形兩者。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一方面提供了一種用于減輕因?qū)Ψ派渚€成像裝置的沖擊所造成的殼體的變形和破損的技術(shù)。

根據(jù)一些實(shí)施例，提供了一種放射線成像裝置，包括：放射線檢測(cè)面板；殼體，被配置成容納放射線檢測(cè)面板；以及緩沖構(gòu)件，其中殼體在角中具有開(kāi)口，緩沖構(gòu)件包括固定在殼體內(nèi)部的第一部分以及從殼體的開(kāi)口向殼體的外部突出的第二部分，并且緩沖構(gòu)件的第二部分的彈性模量比殼體的形成開(kāi)口的部分的彈性模量低。

根據(jù)其他實(shí)施例，提供了一種放射線成像裝置，包括：放射線檢測(cè)面板；殼體，被配置成容納放射線檢測(cè)面板；以及緩沖構(gòu)件，其中殼體在角中具有開(kāi)口，緩沖構(gòu)件包括存在于殼體內(nèi)部的第一部分以及從殼體的開(kāi)口向殼體的外部突出的第二部分，緩沖構(gòu)件的第二部分的彈性模量比殼體的形成開(kāi)口的部分的彈性模量低，并且緩沖構(gòu)件的第一部分具有圍繞放射線檢測(cè)面板的框架形狀。

根據(jù)其他實(shí)施例，提供了一種放射線成像裝置，包括：放射線檢測(cè)面板；殼體，被配置成容納放射線檢測(cè)面板；以及緩沖構(gòu)件，其中緩沖構(gòu)件形成放射線成像裝置的外殼的一部分并且通過(guò)與殼體不同的其他構(gòu)件而被布置在殼體的角處。

根據(jù)其他實(shí)施例，提供了一種放射線成像系統(tǒng)，包括：上面描述的放射線成像裝置中的一個(gè)；以及信號(hào)處理裝置，用于處理由放射線成像裝置得到的信號(hào)。

本發(fā)明的更多特征根據(jù)(參考附圖)對(duì)示例性實(shí)施例的以下描述將變得清楚。

附圖說(shuō)明

圖1A和圖1B例示出根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的放射線成像裝置；

圖2A和圖2B是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的緩沖構(gòu)件的視圖；

圖3A和圖3B是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的緩沖構(gòu)件的視圖；

圖4A和圖4B是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的緩沖構(gòu)件的視圖；

圖5A和圖5B是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的緩沖構(gòu)件的視圖；

圖6A到圖6C是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的緩沖構(gòu)件的視圖；

圖7A和圖7B是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的放射線成像裝置的視圖；

圖8是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些其他實(shí)施例的放射線成像裝置的視圖；并且

圖9是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的放射線成像系統(tǒng)的視圖。

具體實(shí)施方式

下面將參考附圖來(lái)描述本發(fā)明的實(shí)施例。相同的標(biāo)號(hào)遍及各個(gè)實(shí)施例表示相同的要素，并且對(duì)它們的重復(fù)描述將被省略。此外，各個(gè)實(shí)施例可被按需改變和組合。

將參考圖1A和圖1B來(lái)描述根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的放射線成像裝置100的布置。圖1A是放射線成像裝置100的透視圖。圖1B是沿著圖1A中的直線A-A得到的截面圖。放射線成像裝置100包括殼體101和殼體101中容納的組成元件。在以下描述中，放射線成像裝置100的被用放射線照射的面(圖1B中的上側(cè)的面)將被稱作入射面。入射面的相對(duì)側(cè)的面(圖1B中的下側(cè)的面)將被稱作背面，并且使入射面和背面連接的面將被稱作側(cè)面。放射線成像裝置100的入射面、背面和側(cè)面分別對(duì)應(yīng)于殼體101的入射面、背面和側(cè)面。殼體101中的形成入射面的部分將被稱作表側(cè)部分。同樣地，殼體101中的形成背面的部分將被稱作背側(cè)部分，并且形成側(cè)面的部分將被稱作側(cè)壁。側(cè)壁使表側(cè)部分連接到背側(cè)部分。放射線成像裝置100具有四個(gè)角100a。放射線成像裝置100的角100a對(duì)應(yīng)于殼體101的角。

殼體101包括上蓋構(gòu)件102a、下蓋構(gòu)件102b和放射線透過(guò)板103。上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b構(gòu)成殼體的外殼102。上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b在放射線成像裝置100的側(cè)面處相互接觸。上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b在放射線成像裝置100的側(cè)面處可以相互耦接(couple)或者可以通過(guò)其他部分而相互耦接。上蓋構(gòu)件102a具有框架形狀，放射線透過(guò)板103被裝在以框架形狀形成的開(kāi)口中。放射線透過(guò)板103和上蓋構(gòu)件102a的一部分構(gòu)成殼體101的表側(cè)構(gòu)件。下蓋構(gòu)件102b的一部分形成殼體101的背面部分。上蓋構(gòu)件102a的一部分和下蓋構(gòu)件102b的一部分構(gòu)成殼體101的側(cè)壁。

放射線成像裝置100包括下面將要描述的組成元件，諸如殼體101內(nèi)部的傳感器板107和閃爍體層106。閃爍體層106位于傳感器板107與放射線透過(guò)板103之間。閃爍體層106將通過(guò)放射線透過(guò)板103進(jìn)入殼體101的放射線轉(zhuǎn)換為光。傳感器板107包括將由閃爍體層106得到的光轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的傳感器(例如，將光轉(zhuǎn)換為電荷的光電轉(zhuǎn)換元件)以及用于將該電信號(hào)讀出到傳感器板107外部的開(kāi)關(guān)元件(例如，TFT)。傳感器板107可以包括各自由傳感器和開(kāi)關(guān)元件構(gòu)成的多個(gè)像素。這多個(gè)像素可以按照二維陣列模式布置。傳感器板107和閃爍體層106構(gòu)成檢測(cè)放射線的檢測(cè)面板(即，放射線檢測(cè)面板)。閃爍體層106的面被具有防潮性的保護(hù)層105覆蓋。在圖1A和圖1B中示例性地示出的放射線成像裝置100具有所謂的間接式檢測(cè)面板。然而，代替這個(gè)，放射線成像裝置100可以具有將放射線直接轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的直接式檢測(cè)面板。

傳感器板107經(jīng)由柔性線纜114而連接到電路板113。電路板113經(jīng)由柔性線纜112而連接到電路板111。用于從傳感器板107中讀出信號(hào)并且處理讀出信號(hào)的電路和用于控制傳感器板107的操作的電路被分別布置在電路板111和113上。電池110向傳感器板107以及電路板111和113提供電力。代替電池110，放射線成像裝置100可以具有在外部向各組成元件提供電力的電源電路。

檢測(cè)面板(更具體的說(shuō)，傳感器板107)被底座108支持。底座108是固定的或者通過(guò)支柱109而與下蓋構(gòu)件102b接觸。電路板111和113以及電池110被布置在底座108的背面?zhèn)?檢測(cè)面板的相反側(cè))。由發(fā)泡劑等形成的緩沖層104被布置在檢測(cè)面板(更具體的說(shuō)，保護(hù)層105)與放射線透過(guò)板103之間。

將參考圖2A和圖2B來(lái)描述放射線成像裝置100的角100a的結(jié)構(gòu)。圖2A是放射線成像裝置100的角100a的透視圖。圖2B是沿著圖2A中的直線B-B得到的截面圖。如在圖2B中示出，上蓋構(gòu)件102a的面向殼體101外部的面將被稱作外面102d，上蓋構(gòu)件102a的面向殼體101內(nèi)部的面將被稱作內(nèi)面102e。下蓋構(gòu)件102b的面向殼體101外部的面將被稱作外面102g，下蓋構(gòu)件102b的面向殼體101內(nèi)部的面將被稱作內(nèi)面102f。

如在圖2A和圖2B中示出，殼體101在角100a中具有開(kāi)口102c。參考圖2B，供參考，開(kāi)口102c由虛線指示。開(kāi)口102c被布置在上蓋構(gòu)件102a與下蓋構(gòu)件102b之間。放射線成像裝置100還包括在角100a處的緩沖構(gòu)件200。緩沖構(gòu)件200包括位于殼體101內(nèi)部的部分(在下文中將被稱作內(nèi)部部分200a)以及從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101的外部突出的部分(在下文中將被稱作外部部分200b)。

緩沖構(gòu)件200的內(nèi)部部分200a被耦接到上蓋構(gòu)件102a的內(nèi)面102e和下蓋構(gòu)件102b的內(nèi)面102f中的至少一個(gè)以便不被從殼體101移除。內(nèi)部部分200a可以例如通過(guò)用粘結(jié)劑或粘合劑接合(bond)到內(nèi)面102e和內(nèi)面102f中的至少一個(gè)而被耦接到內(nèi)面102e和內(nèi)面102f中的至少一個(gè)。代替使用這種耦接方法，內(nèi)部部分200a可以通過(guò)與上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b中的一個(gè)一體形成而被耦接到上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b中的一個(gè)。

緩沖構(gòu)件200的外部部分200b不包括與外殼102的外面102d和102g接觸的部分。此外，外部部分200b具有面向殼體101的形成開(kāi)口102c的部分的臺(tái)階(step)200c并且在臺(tái)階200c與此部分之間存在間隔。臺(tái)階200c具有對(duì)應(yīng)于開(kāi)口102c的形狀，并且被形成在外部部分200b的整個(gè)周向(entire circumference)中。臺(tái)階200c與開(kāi)口102c間隔開(kāi)。

外殼102由具有高彈性模量(即，高剛性)的材料形成，該材料例如是鋁合金、鎂合金、纖維增強(qiáng)樹(shù)脂或者纖維增強(qiáng)金屬。上蓋構(gòu)件102a和下蓋構(gòu)件102b可以由相同材料或者不同材料形成。以這種方式使用具有高彈性模量的材料形成外殼102將減輕整體殼體101的變形。這可以抑制以下情形：殼體101的變形使光進(jìn)入放射線成像裝置100因而導(dǎo)致無(wú)法獲得良好圖像，或者放射線成像裝置100的外形的改變使得無(wú)法在機(jī)架等中容納該裝置。

緩沖構(gòu)件200由具有比外殼102的彈性模量低的彈性模量的材料(例如，樹(shù)脂)形成。緩沖構(gòu)件200的外部部分200b在殼體101的角100a處從殼體101突出。因此，當(dāng)放射線成像裝置100跌落時(shí)，突出的緩沖構(gòu)件200首先與地板等碰撞。這可以抑制對(duì)外殼102的沖擊。此外，因?yàn)榫彌_構(gòu)件200被耦接到外殼102的內(nèi)面102e和102f，因此通過(guò)緩沖構(gòu)件200對(duì)外殼102施加的沖擊的影響被減輕。

如果，例如，外殼102由諸如預(yù)浸料(prepreg)之類的使用長(zhǎng)纖維的片狀纖維增強(qiáng)樹(shù)脂形成，則角有時(shí)在切割部分被形成在該材料中的情況下被模制以將其形成為近乎矩形形狀。這種切割部分會(huì)變成破損開(kāi)始點(diǎn)。然而，該實(shí)施例的布置可以抑制沖擊被施加到切割部分。

當(dāng)外殼102由纖維增強(qiáng)樹(shù)脂形成時(shí)，緩沖構(gòu)件200可以由容易允許與外殼102的一體成型的樹(shù)脂形成。當(dāng)例如外殼102由使用環(huán)氧樹(shù)脂的碳纖維增強(qiáng)樹(shù)脂形成時(shí)，緩沖構(gòu)件200可以由與環(huán)氧樹(shù)脂相容的樹(shù)脂或者包含短碳纖維的樹(shù)脂形成。以這種方式形成外殼102和緩沖構(gòu)件200可以將它們形成為與它們相互接合的情況相比具有更高界面強(qiáng)度的所謂的一體成型產(chǎn)品。當(dāng)外殼102由金屬合金形成時(shí)，緩沖構(gòu)件200可以由樹(shù)脂或其他材料形成。此外，為了增加金屬與樹(shù)脂之間的接合強(qiáng)度，機(jī)械或化學(xué)的面處理可被施加于各耦接面。

放射線成像裝置100可以在所有四個(gè)角100a處或者在一些角100a處具有緩沖構(gòu)件200。當(dāng)放射線成像裝置100在一些角100a處具有緩沖構(gòu)件200時(shí)，角100a處的抗沖擊性增大。

將參考圖3A和圖3B來(lái)描述放射線成像裝置100的變型例。圖3A是放射線成像裝置100的角100a的透視圖。圖3B是沿著圖3A中的直線C-C得到的截面圖。此變型例具有代替緩沖構(gòu)件200的緩沖構(gòu)件300。因?yàn)槠渌c(diǎn)與上面描述的那些相同，因此重復(fù)描述將被省略。緩沖構(gòu)件300在形狀上與緩沖構(gòu)件200不同，并且諸如外殼102的材料和耦接方法之類的其他點(diǎn)可以與關(guān)于緩沖構(gòu)件200的那些相同。緩沖構(gòu)件300也包括殼體101內(nèi)部的內(nèi)部部分300a和從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101外部突出的外部部分300b。

緩沖構(gòu)件300的外部部分300b不包括與外殼102的外面102d和102g接觸的部分。此外，外部部分300b具有臺(tái)階300c，臺(tái)階300c以一間隔面向殼體101的形成開(kāi)口102c的部分。臺(tái)階300c具有與開(kāi)口102c的位于入射面?zhèn)鹊牟糠窒鄬?duì)應(yīng)的形狀，并且被形成在外部部分300b的入射面?zhèn)?。臺(tái)階300c與開(kāi)口102c間隔開(kāi)。

緩沖構(gòu)件300的外部部分300b在殼體101的入射面?zhèn)缺仍诒趁鎮(zhèn)妊由斓秒x殼體101更遠(yuǎn)。此外，緩沖構(gòu)件300的內(nèi)部部分300a在殼體101的入射面?zhèn)缺仍诒趁鎮(zhèn)雀嗟匮由煜驓んw101內(nèi)部。當(dāng)放射線成像裝置100跌落時(shí)，外部部分300b的遠(yuǎn)離殼體101而延伸的部分很可能首先與地板等碰撞。當(dāng)此延伸部分首先與地板碰撞時(shí)，大的力被施加到緩沖構(gòu)件300與上蓋構(gòu)件102a之間的耦接部分。因此，增大此耦接部分的面積可以降低緩沖構(gòu)件300將脫離殼體101的可能性。

放射線成像裝置100的另一變型例可被配置成使得緩沖構(gòu)件300被顛倒。就是說(shuō)，緩沖構(gòu)件300的外部部分300b可以在殼體101的背面?zhèn)缺仍谌肷涿鎮(zhèn)妊由斓秒x殼體101更遠(yuǎn)，并且緩沖構(gòu)件300的內(nèi)部部分300a可以在殼體101的背面?zhèn)缺仍谌肷涿鎮(zhèn)雀嗟匮由煜驓んw101內(nèi)部。

將參考圖4A和圖4B來(lái)描述放射線成像裝置100的變型例。圖4A是放射線成像裝置100的角100a的透視圖。圖4B是沿著圖4A中的直線D-D得到的截面圖。此變型例包括代替緩沖構(gòu)件200的緩沖構(gòu)件400。因?yàn)槠渌c(diǎn)與上面描述的那些相同，因此重復(fù)描述將被省略。緩沖構(gòu)件400在形狀上與緩沖構(gòu)件200不同，并且諸如外殼102的材料和耦接方法之類的其他點(diǎn)可以與關(guān)于緩沖構(gòu)件200的那些相同。緩沖構(gòu)件400也包括殼體101內(nèi)部的內(nèi)部部分400a和從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101外部突出的外部部分400b。

緩沖構(gòu)件400的外部部分400b不包括與外殼102的外面102d和102g接觸的部分。此外，外部部分400b具有臺(tái)階400c，臺(tái)階400c以一間隔面向殼體101的形成開(kāi)口102c的部分。臺(tái)階400c具有與開(kāi)口102c的位于入射面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)鹊牟糠窒鄬?duì)應(yīng)的形狀，并且被形成在外部部分400b的入射面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)?。臺(tái)階400c與開(kāi)口102c間隔開(kāi)。

緩沖構(gòu)件400的外部部分400b具有在入射面?zhèn)鹊牟糠峙c背面?zhèn)鹊牟糠种g的凹部。這可以減輕緩沖構(gòu)件400的重量并且使令殼體101膨脹的彎曲力矩難以被施加到殼體101。

將參考圖5A和圖5B來(lái)描述放射線成像裝置100的變型例。圖5A是放射線成像裝置100的角100a的透視圖。圖5B是沿著圖5A中的直線E-E得到的截面圖。此變型例包括代替緩沖構(gòu)件200的緩沖構(gòu)件500。因?yàn)槠渌c(diǎn)與上面描述的那些相同，因此重復(fù)描述將被省略。緩沖構(gòu)件500在形狀上與緩沖構(gòu)件200不同，并且諸如外殼102的材料和耦接方法之類的其他點(diǎn)可以與關(guān)于緩沖構(gòu)件200的那些相同。緩沖構(gòu)件500也包括在殼體101內(nèi)部的內(nèi)部部分500a和從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101外部突出的外部部分500b。

緩沖構(gòu)件500的外部部分500b具有與緩沖構(gòu)件400的外部部分400b的形狀相同的形狀。代替此形狀，緩沖構(gòu)件500的外部部分500b可以具有與上面描述的其他緩沖構(gòu)件的外部部分的形狀相同的形狀。緩沖構(gòu)件500的內(nèi)部部分500a在不與殼體101接觸的面(即，面向殼體101內(nèi)部的面)中具有凹部。這可以在維持緩沖構(gòu)件500與殼體101之間的耦接力的同時(shí)減輕緩沖構(gòu)件500的重量。

將參考圖6A至圖6C來(lái)描述放射線成像裝置100的變型例。圖6A是著眼于角100a的情況下的放射線成像裝置100的平面圖。圖6B是沿著圖6A中的直線F-F得到的截面圖。圖6C示出了從第一構(gòu)件601中移除第二構(gòu)件602的狀態(tài)。此變型例包括代替緩沖構(gòu)件200的緩沖構(gòu)件600。緩沖構(gòu)件600包括在殼體101內(nèi)部的內(nèi)部部分和從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101外部突出的外部部分。

緩沖構(gòu)件600的外部部分不包括與外殼102的外面102d和102g接觸的部分。此外，緩沖構(gòu)件600的外部部分具有臺(tái)階600c，臺(tái)階600c以一間隔面向殼體101的形成開(kāi)口102c的部分。臺(tái)階600c具有對(duì)應(yīng)于開(kāi)口102c的形狀，并且被形成在外部部分600b的整個(gè)周向中。臺(tái)階600c與開(kāi)口102c間隔開(kāi)。

緩沖構(gòu)件600由第一構(gòu)件601和第二構(gòu)件602構(gòu)成。第一構(gòu)件601由與緩沖構(gòu)件200的材料相同的材料形成，并且像緩沖構(gòu)件200一樣被耦接到上蓋構(gòu)件102a的內(nèi)面102e和下蓋構(gòu)件102b的內(nèi)面102f中的至少一個(gè)以便不被從殼體101中移除。緩沖構(gòu)件600的外部部分由第一構(gòu)件601的一部分和第二構(gòu)件602的一部分構(gòu)成。第二構(gòu)件602由具有比第一構(gòu)件601的彈性模量低的彈性模量的材料(例如，泡沫或凝膠材料)形成。第二構(gòu)件602具有凸部602a，凸部602a具有與第一構(gòu)件601的凹部601a相對(duì)應(yīng)的形狀。將凸部602a插入凹部601a將使第二構(gòu)件602附接到第一構(gòu)件601。第二構(gòu)件602可以用粘結(jié)劑或粘合劑接合到第一構(gòu)件601或者機(jī)械地接合到第一構(gòu)件601。當(dāng)放射線成像裝置100跌落時(shí)，緩沖構(gòu)件600的第二構(gòu)件602首先與地板等碰撞。因?yàn)榈诙?gòu)件602具有比第一構(gòu)件601低的彈性模量，因此緩沖構(gòu)件600的緩沖能力增大得更多。

將參考圖7A和圖7B來(lái)描述根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的放射線成像裝置700的布置。圖7A是放射線成像裝置700的平面圖。圖7B是沿著圖7A中的直線G-G得到的截面圖。除了放射線成像裝置700包括代替緩沖構(gòu)件200的緩沖構(gòu)件701之外，放射線成像裝置700可以與放射線成像裝置100相同。緩沖構(gòu)件701在形狀上與緩沖構(gòu)件200不同，并且諸如外殼102的材料和耦接方法之類的其他點(diǎn)可以與關(guān)于緩沖構(gòu)件200的那些相同。緩沖構(gòu)件701也包括在殼體101內(nèi)部的內(nèi)部部分和從殼體101的開(kāi)口102c向殼體101外部突出的外部部分。緩沖構(gòu)件701的外部部分的形狀可以與上面描述的任意緩沖構(gòu)件的形狀相同。

緩沖構(gòu)件701具有圍繞由傳感器板107和閃爍體層106構(gòu)成的檢測(cè)面板的框架形狀。緩沖構(gòu)件701可以是整體構(gòu)件或者可以通過(guò)使多個(gè)構(gòu)件相互耦接而形成。此外，緩沖構(gòu)件701可以具有在框架形狀的一部分中的切斷部分。緩沖構(gòu)件701的內(nèi)部部分沿著外殼102的側(cè)壁102h(即，殼體101的側(cè)壁)延伸。緩沖構(gòu)件701通過(guò)外殼102而被定位，因此可以或者可以不耦接到外殼102。在具有框架形狀的情況下，緩沖構(gòu)件701不僅可以盡可能多地抑制由跌落沖擊造成的放射線成像裝置700的變形，而且可以提高整個(gè)放射線成像裝置700的抗彎剛性。

如在圖7B中示出，底座108可以與緩沖構(gòu)件701接觸。這可以使放射線成像裝置700減小尺寸。此外，緩沖構(gòu)件701在不與殼體101接觸的面(即，面向殼體101內(nèi)部的面)中可以具有凹部。此凹部可被布置在具有框架形狀的緩沖構(gòu)件701的整個(gè)周向中。底座108的邊緣可被裝在緩沖構(gòu)件701的凹部中。

緩沖構(gòu)件701可以部分地包括諸如金屬之類的導(dǎo)體或者可以由諸如纖維增強(qiáng)樹(shù)脂之類的具有導(dǎo)電性的材料形成。圍繞放射線檢測(cè)面板布置框架形導(dǎo)電構(gòu)件可以降低從放射線成像裝置700的外部傳入到放射線檢測(cè)面板的噪聲。

將參考圖8來(lái)描述根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的放射線成像裝置800的布置。放射線成像裝置800的殼體具有六邊形形狀和握持部。放射線成像裝置800包括上面描述的任意緩沖構(gòu)件。緩沖構(gòu)件具有從放射線成像裝置800的角部800a中的至少一個(gè)中的開(kāi)口突出的部分。

圖9是示出根據(jù)本發(fā)明的放射線成像裝置到X射線診斷系統(tǒng)(放射線成像系統(tǒng))的應(yīng)用示例的視圖。由X射線管6050(放射線源)作為放射線生成的X射線6060透射通過(guò)對(duì)象或者患者6061的胸部區(qū)域6062并且進(jìn)入作為以上放射線成像裝置之一的檢測(cè)裝置6040。入射的X射線包括關(guān)于患者6061的身體內(nèi)部的信息。閃爍體隨著X射線進(jìn)入而發(fā)光，并且電信息通過(guò)光電轉(zhuǎn)換而被得到。此信息被轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)。用作信號(hào)處理單元的圖像處理器6070對(duì)該信號(hào)執(zhí)行圖像處理?？梢栽诳刂剖抑械挠米黠@示單元的顯示器6080上觀察由此得到的圖像。注意，放射線成像系統(tǒng)至少包括檢測(cè)裝置和處理來(lái)自檢測(cè)裝置的信號(hào)的信號(hào)處理單元。

此外，可以經(jīng)由諸如電話線6090之類的傳輸處理單元將此信息傳送到遠(yuǎn)程地點(diǎn)。該信息在諸如醫(yī)生室之類的另一地點(diǎn)可被顯示在作為顯示單元的顯示器6081上或者可被存儲(chǔ)在諸如光盤之類的記錄單元中。這使得遠(yuǎn)程地點(diǎn)的醫(yī)生可以執(zhí)行診斷。此外，作為記錄單元的膠片處理器6100可以將信息記錄在作為記錄介質(zhì)的膠片6110上。

其他實(shí)施例

本發(fā)明的實(shí)施例也可以由系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)，其中計(jì)算機(jī)讀出并執(zhí)行記錄在存儲(chǔ)介質(zhì)(其也可以被更完整地稱為“非臨時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)”)上的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令(例如，一個(gè)或多個(gè)程序)，以執(zhí)行上述一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的功能，和/或計(jì)算機(jī)包括用于執(zhí)行上述一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的功能的一個(gè)或多個(gè)電路(例如，專用集成電路(ASIC))，并且由系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)通過(guò)例如從存儲(chǔ)介質(zhì)中讀出并執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令以便執(zhí)行上述一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的功能和/或控制一個(gè)或多個(gè)電路執(zhí)行上述一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例的功能所執(zhí)行的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。計(jì)算機(jī)可以包括一個(gè)或多個(gè)處理器(例如，中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU))并且可以包括獨(dú)立計(jì)算機(jī)或獨(dú)立處理器的網(wǎng)絡(luò)來(lái)讀出和執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令。計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令可以從例如網(wǎng)絡(luò)或存儲(chǔ)介質(zhì)中提供給計(jì)算機(jī)。存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括例如硬盤、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、分布式計(jì)算系統(tǒng)的儲(chǔ)存裝置、光盤(諸如壓縮盤(CD)、數(shù)字多樣化盤(DVD)或藍(lán)光盤(BD)^TM)、閃存存儲(chǔ)器設(shè)備、存儲(chǔ)卡等等當(dāng)中的一種或多種。

其它實(shí)施例

本發(fā)明的實(shí)施例還可以通過(guò)如下的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，即，通過(guò)網(wǎng)絡(luò)或者各種存儲(chǔ)介質(zhì)將執(zhí)行上述實(shí)施例的功能的軟件(程序)提供給系統(tǒng)或裝置，該系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)或是中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU)讀出并執(zhí)行程序的方法。

雖然本發(fā)明已經(jīng)參考示例性實(shí)施例進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的示例性實(shí)施例。以下權(quán)利要求的范圍是要符合最廣泛的解釋，從而涵蓋所有此類修改和等同結(jié)構(gòu)及功能。