1.一種固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，包括γ輻射源、防護(hù)準(zhǔn)直模塊、輻射調(diào)檔模塊、定位模塊以及支撐調(diào)節(jié)模塊，其中：
γ輻射源，提供一個(gè)4π方向的輻射場(chǎng)；
防護(hù)準(zhǔn)直模塊，在校準(zhǔn)時(shí)將4π方向的輻射場(chǎng)約束為準(zhǔn)直輻射場(chǎng)，在非校準(zhǔn)時(shí)將4π方向的輻射場(chǎng)均防護(hù)?。?/p>
輻射調(diào)檔模塊，位于防護(hù)準(zhǔn)直模塊的開(kāi)口的正前方，用于調(diào)節(jié)輻射場(chǎng)強(qiáng)度，以實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)空氣比釋動(dòng)能率范圍內(nèi)的多點(diǎn)校準(zhǔn)，同時(shí)改善輻射場(chǎng)均勻性；
定位模塊，確定輻射源與待校準(zhǔn)儀器之間的相對(duì)空間關(guān)系；
支撐調(diào)節(jié)模塊，將γ輻射源、防護(hù)準(zhǔn)直模塊、輻射調(diào)檔模塊、定位模塊水平地固定于特定高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，γ輻射源包括豁免源強(qiáng)度輻射源或者V類強(qiáng)度輻射源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，防護(hù)準(zhǔn)直模塊由屏蔽材料制成，防護(hù)準(zhǔn)直模塊為球形，且在某一方向開(kāi)口且開(kāi)口可封閉。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，防護(hù)準(zhǔn)直模塊在關(guān)閉情況下，4π方向的輻射場(chǎng)均被防護(hù)準(zhǔn)直模塊屏蔽，球外任意防偽的劑量率控制在安全范圍內(nèi)；防護(hù)準(zhǔn)直模塊在打開(kāi)情況下，4π方向的輻射場(chǎng)被約束為準(zhǔn)直輻射場(chǎng)，準(zhǔn)直方向外的輻射場(chǎng)被屏蔽，劑量率控制在安全范圍內(nèi)，準(zhǔn)直方向內(nèi)的輻射場(chǎng)用于校準(zhǔn)儀器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，輻射調(diào)檔模塊包括安裝于一轉(zhuǎn)盤上的不同厚度的輻射屏蔽板，通過(guò)轉(zhuǎn) 動(dòng)轉(zhuǎn)盤將不同厚度的輻射屏蔽板依次置于防護(hù)準(zhǔn)直模塊的開(kāi)口正前方，以改變輻射場(chǎng)的強(qiáng)度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，輻射屏蔽板以蒙特卡洛模擬為探索方法，通過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)成曲面型輻射屏蔽板，以改善劑量場(chǎng)均勻性。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，定位模塊由至少一個(gè)激光測(cè)距儀和激光接收板組合而成，其中激光測(cè)距儀的發(fā)光點(diǎn)與γ輻射源位于同一平面，該平面與校準(zhǔn)方向垂直，激光接收板固定于待校準(zhǔn)儀器表面，且與理想校準(zhǔn)方向垂直。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，支撐調(diào)節(jié)模塊由三腳架配合伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)的云臺(tái)實(shí)現(xiàn)，能夠調(diào)節(jié)裝置的高度與角度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置，其特征在于，校準(zhǔn)裝置還包括：
遠(yuǎn)程控制模塊，以便實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操作校準(zhǔn)裝置。
10.一種固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置的校準(zhǔn)方法，其特征在于，固定式環(huán)境γ輻射劑量率監(jiān)測(cè)儀現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)如權(quán)利要求1所述，校準(zhǔn)方法包括：
在使用前，對(duì)校準(zhǔn)裝置在使用各種γ輻射源、各種輻射檔位以及各種校準(zhǔn)距離下的空氣比釋動(dòng)能率參考值進(jìn)行刻度，再以蒙特卡洛模擬方法，將不同條件下的刻度值擴(kuò)展為刻度曲線，計(jì)算包括劑量均勻性、地面反散射因子的參數(shù)，以提高空氣比釋動(dòng)能率參考值的準(zhǔn)確性；
在使用過(guò)程中，將校準(zhǔn)裝置置于待校準(zhǔn)儀器前，校準(zhǔn)方向正對(duì)待校準(zhǔn)儀器，利用定位模塊測(cè)量數(shù)據(jù)調(diào)節(jié)校準(zhǔn)裝置的位置、高度與角度，然后打開(kāi)防護(hù)準(zhǔn)直模 塊開(kāi)始校準(zhǔn)，在校準(zhǔn)期間通過(guò)調(diào)節(jié)輻射調(diào)檔模塊改變輻射場(chǎng)強(qiáng)度以實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)校準(zhǔn)，通過(guò)更換γ輻射源來(lái)改變輻射場(chǎng)射線能量，以實(shí)現(xiàn)能量響應(yīng)校準(zhǔn)。