專利名稱:基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器及其傳感檢測系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器及其傳感檢測系統(tǒng),能夠測量液體折射率,可應(yīng)用于生物、醫(yī)學(xué)和化工領(lǐng)域。
背景技術(shù):
表面等離子體共振效應(yīng)(Surface Plasmon Resonance)是存在于金屬與非導(dǎo)電介質(zhì)界面處的物理光學(xué)現(xiàn)象,可利用它實(shí)現(xiàn)對金屬層和介質(zhì)層屬性微小變化的測量?;赟PR效應(yīng)的光學(xué)傳感技術(shù)已在生化檢測等多個領(lǐng)域得到應(yīng)用。傳統(tǒng)的光纖SPR傳感器是基于纖芯-金膜-環(huán)境介質(zhì)三層結(jié)構(gòu),由于SPR效應(yīng)其反射光譜會形成一個凹谷。隨著被測環(huán)境介質(zhì)折射率的增加,波形向長波方向偏移,共振波谷位置與折射率存在一定對應(yīng)關(guān)系,所以可通過測量共振波谷的位置得到環(huán)境介質(zhì)的折射率。該方法具有傳輸損耗小、體積小、集成性好等優(yōu)點(diǎn),但是存在靈敏度不高的缺點(diǎn)。為提高傳感器靈敏度,中國科技大學(xué)的陳勇等人研究了以MgF2為外調(diào)制層的光纖表面等離子體共振傳感器。采用纖芯-銀膜-調(diào)制層-環(huán)境介質(zhì)四層結(jié)構(gòu),其中纖芯數(shù)值孔徑為0.37,直徑為0.2mm,銀膜厚度為40nm,調(diào)制層使用氟化鎂,厚度為10nm,折射率為1.377。在分析物的折射率范圍為1.33-1.40時,實(shí)驗(yàn)中取得了 4464nm/RIU的高靈敏度。但該傳感器結(jié)構(gòu)采用的是在線反射式,在線反射式的檢測方法是光源在光纖的一端,經(jīng)過激發(fā)SPR效應(yīng)后的反射光在另一端接收檢測,如圖3所示。由于光纖不宜折的特點(diǎn),所以不便于將這種結(jié)構(gòu)的傳感區(qū)域放入盛裝分析物的容器中,并不適用于實(shí)際測量,目前該結(jié)構(gòu)已不經(jīng)常被使用。(Yong Chen, Rongsheng Zheng, Yonghua Lu, Pei Wang, and HaiMing.Fiber-optic surface plasmon resonant sensor with low-1ndexant1-oxidationcoating[J], Chinese Optics Letters,2011,100605:1 4)。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種具有更優(yōu)的靈敏性和實(shí)用性,能夠更好的滿足對折射率監(jiān)測效果需求的基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器及其傳感檢測系統(tǒng)。為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型設(shè)計了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器,包括光纖接頭1、涂覆層2、包層3和纖芯4,所述包層3、涂覆層2和光纖接頭I由內(nèi)向外依次包裹住纖芯4的一端,所述纖芯4相對于光纖接頭I的另一端由內(nèi)向外依次包裹有內(nèi)調(diào)制層6和金膜5。作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)化結(jié)構(gòu):所述纖芯4的折射率為1.45,直徑為0.6mm ;所述包層3的折射率為1.39,厚度為0.2mm ;所述內(nèi)調(diào)制層6的折射率為3.5,厚度為200nm ;所述金膜5的厚度為50nm。本實(shí)用新型還設(shè)計了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感檢測系統(tǒng),包括寬帶光源、光纖耦合器、基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器、光譜儀和計算機(jī),其中;所述寬帶光源通過多模光纖與光纖耦合器連接,寬帶光源產(chǎn)生入射光,并傳輸至光纖稱合器;所述光纖耦合器的輸出端通過多模光纖分別連接基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器和光譜儀,并將接收到的入射光傳輸至基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器;所述基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器放置在待測液體中,所述光纖耦合器發(fā)出的入射光經(jīng)過基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的SPR效應(yīng)處理后以反射光的形式通過光纖耦合器傳輸至光譜儀;所述光譜儀通過數(shù)據(jù)線與計算機(jī)連接,所述光譜儀將上述反射光以光譜信號的形式傳輸至計算機(jī);所述計算機(jī)從上述光譜信號中采集共振光譜信號,從而得到待測液體折射率與共振波長的關(guān)系。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn):1.本實(shí)用新型通過増覆折射率3.5、厚度200nm的鉻膜,得到的傳感器具有高靈敏度;2.本實(shí)用新型所設(shè)計的內(nèi)置調(diào)制層型SPR傳感器為終端反射式,傳感器伸入盛裝待測物質(zhì)的容器中,便于實(shí)際測量,更加實(shí)用。
圖1是基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感器檢測系統(tǒng)組成示意圖;圖3是在線反射式光纖SPR傳感器結(jié)構(gòu)示意圖;圖4是終端反射式光纖SPR傳感器結(jié)構(gòu)示意圖;圖5是基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感模型沿軸向方向Z=0.8cm(傳輸區(qū)域)的坡印亭矢量圖;圖6是基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感模型沿軸向方向Z=2.22cm(共振區(qū)域)處X-Y截面的坡印亭矢量圖;圖7是金膜與內(nèi)調(diào)制層界面處坡印亭矢量隨內(nèi)調(diào)制層厚度的變化曲線圖;圖8是金膜與內(nèi)調(diào)制層界面處坡印亭矢量隨折射率變化曲線;圖9是傳感器末端功率譜密度隨內(nèi)調(diào)制層折射率變化曲線;圖10是無內(nèi)調(diào)制層光纖SPR探針測量不同液體折射率對應(yīng)的模擬共振光譜曲線圖;圖11是含200nm厚度內(nèi)調(diào)制層的光學(xué)SPR探針測量不同液體折射率對應(yīng)的模擬共振光譜曲線圖。1-光纖接頭,2-涂覆層,3-包層,4-纖芯,5-金膜,6_內(nèi)調(diào)制層。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的具體說明:本實(shí)用新型是基于非線性有限元差分法(FDTD)與MATLAB的數(shù)值模擬。非線性有限元差分法是將Maxwell方程式在時間和空間領(lǐng)域上進(jìn)行差分化,利用空間領(lǐng)域內(nèi)的電場和磁場進(jìn)行交替計算,以達(dá)到數(shù)值計算的目的。傳感器結(jié)構(gòu)采用終端反射式如圖4所示,這種結(jié)構(gòu)方便將傳感器伸入盛裝待測物質(zhì)的容器中,從而能靈敏感知待測物質(zhì)折射率變化情況。纖芯折射率為1.45,直徑為0.6mm ;包層折射率為1.39,厚度為0.2mm ;金膜選用Lorentz Drude模型金膜,厚度為50nm,端面金屬膜厚度為200nm;環(huán)境介質(zhì)為空氣,折射率為1,入射光源選用TM波(即垂直極化波)。為獲得末端的功率譜密度,在末端設(shè)置觀察線?;趶?fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器是在以上模型的基礎(chǔ)上,在纖芯與金膜之間增加一層調(diào)制層。圖5和圖6分別為基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感模型沿軸向方向Z=0.8cm (傳輸區(qū)域)和Z=2.22cm (共振區(qū)域)處X_Y截面的坡印亭矢量圖。在傳輸區(qū)域,光波能量主要集中在纖芯中心即χ=0處。在共振區(qū)域,能量峰值出現(xiàn)在纖芯與調(diào)制層的兩側(cè)分界面。這是由于共振區(qū)域發(fā)生SPR效應(yīng),使得光波能量泄漏到金膜和纖芯的分界面。能量出現(xiàn)峰值后立刻急劇減小,說明在此處發(fā)生了強(qiáng)烈的能量衰減,而這也是由SPR效應(yīng)所引起。令內(nèi)調(diào)制層折射率為3.5,分別對內(nèi)調(diào)制層厚度為100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm和400nm的模型進(jìn)行仿真。在共振區(qū)域沿纖芯徑向X=300um處設(shè)置觀察點(diǎn),得到觀察點(diǎn)處的坡印廷矢量如圖7所示。當(dāng)內(nèi)調(diào)制層厚度為IOOnm時,觀察點(diǎn)處的能量遠(yuǎn)大于其他厚度時該點(diǎn)的能量值。隨著內(nèi)調(diào)制層厚度的增加,觀察點(diǎn)處的能量不斷下降,這主要是由于SPR現(xiàn)象更加明顯,使得更多共振能量發(fā)生轉(zhuǎn)移所致。而當(dāng)厚度大于200nm時,觀察點(diǎn)處能量隨著厚度的增加變化不大,這說明厚度繼續(xù)增加對SPR效應(yīng)的影響不大。令內(nèi)調(diào)制層厚度為200nm,分別對內(nèi)調(diào)制層6折射率為1.5、2.0、2.5、3.0、3.5、4.0和4.5的模型進(jìn)行仿真,在光纖傳 感器末端(Z=5.8cm)及發(fā)生SPR效應(yīng)的金膜與內(nèi)調(diào)制層的分界面處分別設(shè)置觀察點(diǎn)。圖8所示為金膜與內(nèi)調(diào)制層分界面處X-Y截面的坡印廷矢量隨內(nèi)調(diào)制層折射率變化曲線。當(dāng)內(nèi)調(diào)制層折射率為3.5時,坡印亭矢量最大,即此時能量泄露到金膜與調(diào)制層表面最多,SPR效應(yīng)最強(qiáng)烈。圖9為傳感器末端功率譜密度隨內(nèi)調(diào)制層折射率變化曲線;內(nèi)調(diào)制層折射率為3.5時,傳感器末端對應(yīng)的功率譜密度最低,這是由于光纖中激發(fā)的SPR效應(yīng)會導(dǎo)致光波傳輸能量的逐漸泄漏,進(jìn)而使得光纖傳感器末端能量呈現(xiàn)急劇衰減。SPR效應(yīng)越強(qiáng)烈,在光纖傳感器末端觀察點(diǎn)處的能量就越低,相對應(yīng)的平均功率譜密度值也就越小。利用MATLAB對光纖SPR傳感器進(jìn)行仿真時令光纖長度為20mm,纖芯直徑0.6mm,折射率1.45 ;內(nèi)調(diào)制層厚度折射率3.5 ;金膜厚度50nm,介電常數(shù)是隨波長變化的函數(shù),如公式⑴所示:nAU= ((1.8305e-6) X λ 2-0.0029818 X λ +1.2385)+iX ((1.6277e-6) X λ 2+0.010483Χ λ-3.1186)(I)無內(nèi)調(diào)制層和増覆200nm調(diào)制層的光纖SPR傳感器隨環(huán)境介質(zhì)折射率變化的模擬共振光譜曲線圖如圖10所示。由圖所知,增覆200nm厚度的內(nèi)置調(diào)制層后,可以發(fā)現(xiàn)隨著被測液體折射率的增加,共振波形偏移量明顯增加。無內(nèi)調(diào)制層時,共振波長變化范圍為650.47ηπΓ760.13nm。而當(dāng)調(diào)制層為200nm時,共振波長變化范圍是610.81nnT820.36nm,不僅共振光譜偏移范圍發(fā)生變化,而且曲線斜率明顯增大,其斜率即為傳感器靈敏度。經(jīng)過計算,無內(nèi)調(diào)制層的三層光纖SPR傳感器靈敏度為1096.6nm/RIU, 200nm內(nèi)調(diào)制層光纖SPR傳感器靈敏度為2095.5nm/RIU。基于上述分析,本文選擇厚度為200nm、折射率為3.5的材料作為內(nèi)調(diào)制層,研制
基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器。如圖1所示,本實(shí)用新型設(shè)計了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器,包括光纖接頭1、涂覆層2、包層3和纖芯4,所述包層3、涂覆層2和光纖接頭I由內(nèi)向外依次包裹住纖芯4的一端,所述纖芯4相對于光纖接頭I的另一端由內(nèi)向外依次包裹有內(nèi)調(diào)制層6和金膜5。作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)化結(jié)構(gòu):所述纖芯4的折射率為1.45,直徑為0.6mm ;所述包層3的折射率為1.39,厚度為0.2mm ;所述內(nèi)調(diào)制層6的折射率為3.5,厚度為200nm ;所述金膜5的厚度為50nm。在光纖傳感器探針加工環(huán)節(jié),首先使用光纖切割刀截取長度為200mm的光纖,對其兩端面用光纖研磨機(jī)進(jìn)行磨平、拋光。接著將處理過的光纖一部分浸入濃硫酸中浸泡15分鐘,去除光纖的涂覆層2。再將光纖下端插入裝有濃度為40%HF酸溶液的聚四氟乙烯容器中靜置約I小時,去除光纖包層3。最后用蒸餾水和丙酮溶液交替反復(fù)沖洗,這樣就得到除去了涂覆層2和包層3,只有裸纖芯的光纖4。在鍍膜環(huán)節(jié),將光纖探針插入專用夾具中,夾具在電機(jī)的帶動下圍繞爐壁進(jìn)行勻速轉(zhuǎn)動,使光纖外側(cè)可以均勻的鍍上200nm鉻膜(內(nèi)調(diào)制層6)和50nm金膜5。光纖的一頭剝?nèi)ネ扛矊?和包層3,在裸光纖的外側(cè)鍍內(nèi)調(diào)制層6和金膜5,光線從另一頭入射后,在此共振區(qū)域發(fā)生表面等離子體波共振效應(yīng)(SPR),然后被光纖端面的金膜5反射回去。如圖2所示,本實(shí)用新型還設(shè)計了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感檢測系統(tǒng),包括寬帶光源、光纖耦合器、基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器、光譜儀和計算機(jī),其中;所述寬帶光源通過多模光纖與光纖耦合器連接,寬帶光源產(chǎn)生入射光,并傳輸至光纖稱合器;所述光纖耦合器的輸出端通過多模光纖分別連接基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器和光譜儀,并將接收到的入射光傳輸至基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器;所述基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器放置在待測液體中,所述光纖耦合器發(fā)出的入射光經(jīng)過基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的SPR效應(yīng)處理后以反射光的形式通過光纖耦合器傳輸至光譜儀;所述光譜儀通過數(shù)據(jù)線與計算機(jī)連接,所述光譜儀將上述反射光以光譜信號的形式傳輸至計算機(jī);所述計算機(jī)通過軟件從上述光譜信號中采集共振光譜信號,從而得到待測液體折射率與共振波長的關(guān)系。在具體操作時,在室溫下將基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器依次放入乙醇、異丙醇、N,N-二甲基甲酰胺、水、乙酸乙酯、鄰苯二甲基二丁酯(DBP)分析純?nèi)芤?,這些液體折射率依次為1.335,1.341,1.344,1.371,1.381,1.392。圖11為內(nèi)置調(diào)制層型光纖SPR傳感器在6種不同折射率溶液中的共振光譜曲線圖。由圖可知隨著溶液折射率的增加,基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的共振光譜發(fā)生向右偏移,共振波長從617.43nm依次逐漸變化為746.15nm,且共振光譜偏移量較無內(nèi)調(diào)制層時呈現(xiàn)明顯增大。結(jié)果表明,通過在纖芯4與金膜5內(nèi)側(cè)增加內(nèi)置調(diào)制層6,使得光纖SPR傳感器靈敏度得以大幅提高,常規(guī)三層結(jié)構(gòu)光纖SPR傳感器的靈敏度系數(shù)為1140.3nm/RIU,而基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的靈敏度系數(shù)達(dá)到2263.lnm/RIU,靈敏度提高了98.5%。
權(quán)利要求1.一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器,包括光纖接頭(I)、涂覆層(2)、包層(3)和纖芯(4),所述包層(3)、涂覆層(2)和光纖接頭(I)由內(nèi)向外依次包裹住纖芯(4)的一端,其特征在于:所述纖芯(4)相對于光纖接頭(I)的另一端由內(nèi)向外依次包裹有內(nèi)調(diào)制層(6)和金膜(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器,其特征在于,所述纖芯(4)的折射率為1.45,直徑為0.6mm ;所述包層(3)的折射率為1.39,厚度為0.2mm ;所述內(nèi)調(diào)制層(6)的折射率為3.5,厚度為200nm ;所述金膜(5)的厚度為50nm。
3.一種基于權(quán)利要求1所述的基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感檢測系統(tǒng),其特征在于,包括寬帶光源、光纖耦合器、基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器、光譜儀和計算機(jī),其中; 所述寬帶光源通過多模光纖與光纖耦合器連接,寬帶光源產(chǎn)生入射光,并傳輸至光纖耦合器; 所述光纖耦合器的輸出端通過多模光纖分別連接基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器和光譜儀,并將接收到的入射光傳輸至基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器; 所述基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器放置在待測液體中,所述光纖耦合器發(fā)出的入射光經(jīng)過基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的SPR效應(yīng)處理后以反射光的形式通過光纖耦合器傳輸至光譜儀; 所述光譜儀通過數(shù)據(jù)線與計算機(jī)連接,所述光譜儀將上述反射光以光譜信號的形式傳輸至計算機(jī); 所述計算機(jī)從上述光譜信號中采集共振光譜信號,從而得到待測液體折射率與共振波長的關(guān)系。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器,包括光纖接頭1、涂覆層2、包層3和纖芯4,所述包層3、涂覆層2和光纖接頭1由內(nèi)向外依次包裹住纖芯4的一端,所述纖芯4的另一端由內(nèi)向外依次包裹有內(nèi)調(diào)制層6和金膜5;本實(shí)用新型還設(shè)計了一種基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器的傳感檢測系統(tǒng)。本實(shí)用新型所設(shè)計的基于復(fù)合膜層的光纖等離子體波傳感器及其傳感檢測系統(tǒng)能夠更好的滿足對折射率監(jiān)測效果的需求。
文檔編號G01N21/55GK203037578SQ20122069662
公開日2013年7月3日 申請日期2012年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月17日
發(fā)明者孫曉明, 曾捷, 張倩韻, 曹海東, 張先輝, 梁大開 申請人:南京航空航天大學(xué)