專利名稱：承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及微電子裝備，尤其涉及一種承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體集成電路集成度的提高，集成電路的特征尺寸越來越小，而集成電路的特征尺寸將最終由光學(xué)投影裝置決定，光學(xué)投影裝置作為集成電路制造工藝中的重要設(shè)備，其精度對(duì)光刻工藝有著非常重要的影響。實(shí)現(xiàn)高精度光刻工藝的關(guān)鍵技術(shù)之一是曝光，其精度直接影響光刻機(jī)的套刻精度與良率，而實(shí)現(xiàn)高精度的曝光必須精確地控制承物臺(tái)的位置。通常，光刻機(jī)采用平面鏡干涉儀測(cè)量承物臺(tái)在水平面內(nèi)的位置，平面鏡干涉儀發(fā) 出測(cè)量光束入射承物臺(tái)側(cè)壁上的反射面，并經(jīng)反射面反射回平面鏡干涉儀的接收器，由多普勒原理算出承物臺(tái)的位置變化并實(shí)時(shí)反饋到運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，以確保曝光位置的準(zhǔn)確。但是承物臺(tái)工作在高溫環(huán)境下，其在工作過程中會(huì)發(fā)生形變，為精確獲得承物臺(tái)上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置變化，需要對(duì)平面鏡干涉儀測(cè)得的承物臺(tái)的位置變化進(jìn)行誤差補(bǔ)償，現(xiàn)有技術(shù)的誤差補(bǔ)償方法是第一，承物臺(tái)選用超低膨脹系數(shù)的材料制作；第二，在承物臺(tái)附近布置高精度溫度傳感器測(cè)出承物臺(tái)區(qū)域的溫度變化，然后根據(jù)經(jīng)驗(yàn)公式進(jìn)行補(bǔ)償。現(xiàn)有技術(shù)的誤差補(bǔ)償方法有以下缺點(diǎn)I、由于光刻機(jī)內(nèi)部空間的限制，溫度傳感器測(cè)量的只是某一點(diǎn)處的溫度變化，而不是承物臺(tái)整個(gè)區(qū)域的溫度變化，這種以點(diǎn)帶面的測(cè)量結(jié)果存在誤差；2、計(jì)算承物臺(tái)熱變形使用的是經(jīng)驗(yàn)公式，膨脹系數(shù)為理想值，而不是該材料膨脹系數(shù)的真實(shí)值，從而引入計(jì)算誤差；3、超低膨脹系數(shù)的材料非常昂貴，制造成本高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法，對(duì)承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變進(jìn)行精確測(cè)量，并根據(jù)精確測(cè)得的形變對(duì)承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化進(jìn)行誤差補(bǔ)償，大大減小了誤差。為了達(dá)到上述的目的，本發(fā)明提供一種承物臺(tái)，包括本體、第一長(zhǎng)條反射鏡和第二長(zhǎng)條反射鏡；所述本體設(shè)有第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面，所述第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面依次首尾相連；所述第一長(zhǎng)條反射鏡設(shè)置在所述第一反射面的一端，所述第二長(zhǎng)條反射鏡設(shè)置在所述第二反射面的一端，且與所述第一長(zhǎng)條反射鏡相鄰；所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面平行于所述第三反射面，且與所述第三反射面的朝向相同；所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面平行于所述第四反射面，且與所述第四反射面的朝向相同。上述承物臺(tái)，其中，所述第三反射面與所述第一反射面相互平行，所述第四反射面與所述第二反射面相互平行。上述承物臺(tái)，其中，所述承物臺(tái)采用玻璃或者陶瓷材料制成。上述承物臺(tái)，其中，所述本體、第一長(zhǎng)條反射鏡和第二長(zhǎng)條反射鏡均為長(zhǎng)方體。本發(fā)明提供的另一技術(shù)方案是一種誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，包括上述承物臺(tái)、激光器、第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀、第二單軸差分激光干涉儀以及用于分光束的光學(xué)鏡組；所述第一多軸激光干涉儀設(shè)置在所述承物臺(tái)的本體靠近所述第二反射面的一側(cè)，所述第二多軸激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第一反射面的一側(cè)，所述第一單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第三反射面的一側(cè)，所述第二單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第四反射面的一側(cè)；所述光學(xué)鏡組將所述所述激光器發(fā)射的光束分成多束，并分別射入所述第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀。
上述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其中，所述光學(xué)鏡組包括第一分光鏡、第二分光鏡、第三分光鏡、第一反射鏡組和第二反射鏡組；所述第一分光鏡設(shè)置在所述激光器的發(fā)射口處，將所述激光器發(fā)射的光束分成第一光束和第二光束；所述第二分光鏡設(shè)置在所述第一光束的前行方向上，將所述第一光束分成第三光束和第四光束，所述第三光束入射所述第一多軸激光干涉儀，所述第四光束經(jīng)所述第一反射鏡組后入射所述第二多軸激光干涉儀；所述第三分光鏡將所述第二光束分成第五光束和第六光束，所述第五光束入射所述第一單軸差分激光干涉儀，所述第六光束經(jīng)所述第二反射鏡組后入射所述第二單軸差分激光干涉儀。上述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其中，所述第一多軸激光干涉儀和第二多軸激光干涉儀測(cè)量所述承物臺(tái)的位置變化，所述第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量所述承物臺(tái)因環(huán)境變化弓I起的形變。上述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其中，所述第一多軸激光干涉儀發(fā)出第一測(cè)量光束，所述第一測(cè)量光束入射到所述第二反射面上，經(jīng)所述第二反射面反射回所述第一多軸激光干涉儀，由所述第一多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在第一方向上的位移量；所述所述第二多軸激光干涉儀發(fā)出第二測(cè)量光束，所述第二測(cè)量光束入射到所述第一反射面上，經(jīng)所述第一反射面反射回所述第二多軸激光干涉儀，由所述第二多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在第二方向上的位移量；所述第一單軸差分激光干涉儀發(fā)出第一參考光束和第三測(cè)量光束，所述第一參考光束入射到所述第三反面上，經(jīng)所述第三反面反射回所述第一單軸差分激光干涉儀，所述第三測(cè)量光束入射到所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面上，經(jīng)所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面反射回所述第一單軸差分激光干涉儀，由所述第一單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在所述第一方向上的形變量；所述第二單軸差分激光干涉儀發(fā)出第二參考光束和第四測(cè)量光束，所述第二參考光束入射到所述第四反面上，經(jīng)所述第四反面反射回所述第二單軸差分激光干涉儀，所述第四測(cè)量光束入射到所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面上，經(jīng)所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面反射回所述第二單軸差分激光干涉儀，由所述第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在所述第二方向上的形變量；所述第二方向垂直于所述第一方向。本發(fā)明還提供一種技術(shù)方案一種確定承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化的誤差補(bǔ)償方法，使用上述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，所述承物臺(tái)位于光刻機(jī)的物鏡下，所述誤差補(bǔ)償方法包括以下步驟測(cè)量所述承物臺(tái)在第一方向及第二方向上的長(zhǎng)度Lj^P Ly，其中，Lx表示所述承物臺(tái)在第一方向上的長(zhǎng)度，Ly表示所述承物臺(tái)在第二方向上的長(zhǎng)度，所述第二方向垂直于所述第一方向；測(cè)量所述承物臺(tái)上的測(cè)量點(diǎn)在初位置處與O點(diǎn)之間的距離，其中，所述O點(diǎn)是光刻機(jī)的物鏡的光軸在所述承物臺(tái)上的投影；所述承物臺(tái)移動(dòng)至末位置，由所述第一多軸激光干涉儀和第二多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)的位置變化，由所述第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的
形變量；采用公式Lax = L2x -X Llx和Lav = Lly -X Lly計(jì)算所述測(cè)量點(diǎn)
從初位置到末位置的位置變化，其中，表示所述測(cè)臺(tái)點(diǎn)在所述第一方向上的
位移量，L2x表示所述承物臺(tái)在所述第一方向上的位移量，(2 A Lx)表示所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的、在所述第一方向上的形變量，Il x表示所述測(cè)量點(diǎn)與所述O點(diǎn)之間的距離在所述第一方向上的分量，IAy表示所述測(cè)量點(diǎn)在所述第二方向上的位移量，L2y表示所述承物臺(tái)在所述第二方向上的位移量，(2ALy)表示所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的、在所述第二方向上的形變量，Lly表示所述測(cè)量點(diǎn)與所述O點(diǎn)之間的距離在所述第二方向上的分量。本發(fā)明的承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法，在承物臺(tái)上增設(shè)第三反射面和第五反射面、以及第四反射面和第六反射面，采用精密測(cè)量?jī)x器第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量出承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變量，用精密測(cè)量出的形變量進(jìn)行誤差補(bǔ)償，因此，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，誤差大大減小了，計(jì)算精確度大大提聞T ；本發(fā)明的承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法，由于可精確測(cè)量出承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變量，承物臺(tái)可采用玻璃或陶瓷材料制作，節(jié)約了制造成本。


本發(fā)明的承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法由以下的實(shí)施例及附圖給出。圖I是本發(fā)明承物臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖I中的承物臺(tái)翻轉(zhuǎn)180度后的示意圖。圖3是本發(fā)明誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置的示意圖。圖4是圖3中的誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置翻轉(zhuǎn)180度后的示意圖。圖5是對(duì)承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化進(jìn)行誤差補(bǔ)償計(jì)算的理想模型示意圖。
具體實(shí)施例方式以下將結(jié)合圖I 圖5對(duì)本發(fā)明的承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。參見圖I和圖2，本發(fā)明的承物臺(tái)包括本體110、第一長(zhǎng)條反射鏡120和第二長(zhǎng)條反射鏡130 ；所述本體110設(shè)有第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面 114 ；所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114依次首尾相連，形成所述本體110的四個(gè)側(cè)面，即所述第二反射面112與所述第一反射面111相鄰，所述第三反射面113與所述第二反射面112相鄰，所述第四反射面114分別與所述第三反射面113、所述第一反射面111相鄰；所述第三反射面113與所述第一反射面111相互平行,所述第四反射面114與所述第二反射面112相互平行；所述第一長(zhǎng)條反射鏡120設(shè)置在所述第一反射面111的一端，所述第二長(zhǎng)條反射鏡130設(shè)置在所述第二反射面112的一端，且與所述第一長(zhǎng)條反射鏡120相鄰；所述第一長(zhǎng)條反射鏡120的反射面121為本發(fā)明承物臺(tái)的第五反射面，所述第五反射面121平行于所述第三反射面113，且所述第五反射面121的朝向與所述第三反射面113的朝向相同，即所述第五反射面121的法線方向與所述第三反射面113的法線方向相同；
所述第二長(zhǎng)條反射鏡130的反射面131為本發(fā)明承物臺(tái)的第六反射面，所述第六反射面131平行于所述第四反射面114，且所述第六反射面131的朝向與所述第四反射面114的朝向相同，即所述第六反射面131的法線方向與所述第四反射面114的法線方向相同。本發(fā)明一較佳實(shí)施例中，所述本體110為長(zhǎng)方體，所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114為所述長(zhǎng)發(fā)體的四個(gè)側(cè)表面，所述第一長(zhǎng)條反射鏡120和第二長(zhǎng)條反射鏡130均為有一個(gè)表面為反射面的長(zhǎng)方體。本發(fā)明承物臺(tái)中，所述第一反射面111和第二反射面112用于測(cè)量本發(fā)明承物臺(tái)的位置變化，所述第三反射面113、第四反射面114、第五反射面121和第六反射面131用于測(cè)量本發(fā)明承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變，測(cè)得的形變用于誤差補(bǔ)償，以精確獲得承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化。如圖3所示，以與所述第一反射面111、第二反射面112、第三反射面113和第四反射面114均垂直的平面為XY平面，建立三維坐標(biāo)系，將右手拇指指向Z軸正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定義為Rz方向，將右手拇指指向Y軸正方向，其余四指握拳，其余四指握拳的方向定義為Ry方向，將右手拇指指向X軸正方向,其余四指握拳,其余四指握拳的方向定義為Rx方向；所述承物臺(tái)的本體110的第一反射面111、第三反射面113和第五反射面121均平行于X軸，所述第二反射面112、第四反射面114和第六反射面131均平行于Y軸。參見圖3和圖4，一種誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，用于精確測(cè)量承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化，所述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置包括上述承物臺(tái)100、激光器200、第一分光鏡310、第二分光鏡320、第三分光鏡330、第一反射鏡410、第二反射鏡420、第三反射鏡430、第一多軸激光干涉儀510、第二多軸激光干涉儀520、第一單軸差分激光干涉儀610和第二單軸差分激光干涉儀 620 ；所述第一多軸激光干涉儀510設(shè)置在所述承物臺(tái)100的本體110靠近所述第二反射面112的一側(cè)，所述第二多軸激光干涉儀520設(shè)置在所述本體110靠近所述第一反射面111的一側(cè)，所述第一單軸差分激光干涉儀610設(shè)置在所述本體110靠近所述第三反射面113的一側(cè)，所述第二單軸差分激光干涉儀620設(shè)置在所述本體110靠近所述第四反射面114的一側(cè)；所述第一分光鏡310設(shè)置在所述激光器200的發(fā)射口處,所述第一分光鏡310將所述激光器200發(fā)射的光束分成兩束，即第一光束710和第二光束720，所述第一光束710與所述第二光束720相互垂直，且所述第一光束710平行于Y軸，所述第二光束720平行于X軸；所述第二分光鏡320和第一反射鏡410依次設(shè)置在所述第一光束710的前行方向上，所述第二分光鏡320將所述第一光束710分成兩束，即第三光束730和第四光束740，所述第三光束730與所述第四光束740相互垂直，且所述第三光束730平行于Y軸，所述第四光束740平行于X軸；所述第四光束740入射所述第一多軸激光干涉儀510，由所述第一多軸激光干涉儀510發(fā)出第一測(cè)量光束，所述第一測(cè)量光束入射到所述本體110的第二反射面112上，經(jīng)所述第二反射面112反射回所述第一多軸激光干涉儀510，如圖3所示；所述第一多軸激光干涉儀510可測(cè)量出所述承物臺(tái)100在X軸方向、Ry方向及Rz方向的位置變化；而所述第三光束730入射到所述第一反射鏡410上，所述第一反射鏡410用于改變所述第三光束730的傳播方向，使所述第三光束730的傳播方向由平行于Y軸的方向改變?yōu)槠叫杏赬軸的方向；所述第三光束730經(jīng)所述第一反射鏡410作用后入射所述第二多軸激光干涉儀520，由所述第二多軸激光干涉儀520發(fā)出第二測(cè)量光束，所述第二測(cè)量光束入射到所述本體110的第一反射面111上，經(jīng)所述第一反射面111反射回所述第二多軸激光干涉儀520，如圖3所示；所述第二多軸激光干涉儀520可測(cè)量出所述承物臺(tái)100在Y軸方向、Rx方向及Rz方向上的位置變化；所述第三分光鏡330和第二反射鏡420依次設(shè)置在所述第二光束720的前行方向上，所述第三分光鏡330將所述第二光束720分成兩束，即第五光束750和第六光束760，所述第五光束750與所述第六光束760相互垂直,且所述第五光束750平行于Y軸,所述第六光束760平行于X軸；所述第五光束750入射所述第一單軸差分激光干涉儀610，由所述第一單軸差分激光干涉儀610發(fā)出第一參考光束和第三測(cè)量光束,所述第一參考光束入射到所述本體110的第三反面113上，經(jīng)所述第三反面113反射回所述第一單軸差分激光干涉儀610，所述第三測(cè)量光束入射到所述第一長(zhǎng)條反射鏡120的反射面121 (即所述第五反射面121)上，經(jīng)所述第五反射面121反射回所述第一單軸差分激光干涉儀610，如圖4所示；所述第一單軸差分激光干涉儀610可測(cè)量出所述承物臺(tái)在Y軸方向上的形變量；而所述第六光束760入射到所述第二反射鏡420上，經(jīng)所述第二反射鏡420反射后入射到所述第三反射鏡430上，所述第二反射鏡420和第三反射鏡430均用于改變所述第六光束760的傳播方向，所述第二反射鏡420使所述第六光束760的傳播方向由平行于X軸的方向改變?yōu)槠叫杏赮軸的方向，所述第三反射鏡430再使第六光束760的傳播方向由平行于Y軸的方向改變?yōu)槠叫杏赬軸的方向；所述第六光束760經(jīng)所述第二反射鏡420和第三反射鏡430的作用后入射所述第二單軸差分激光干涉儀620，由所述第二單軸差分激光干涉儀620發(fā)出第二參考光束和第四測(cè)量光束，所述第二參考光束入射到所述本體110的第四反面114上，經(jīng)所述第四反面、114反射回所述第二單軸差分激光干涉儀620，所述第四測(cè)量光束入射到所述第二長(zhǎng)條反射鏡130的反射面131 (即所述第六反射面131)上，經(jīng)所述第六反射面131反射回所述第二單軸差分激光干涉儀620，如圖4所示；所述第二單軸差分激光干涉儀620可測(cè)量出所述承物臺(tái)在X軸方向上的形變量。本發(fā)明誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置在承物臺(tái)上增設(shè)第三反射面113和第五反射面121、以及第四反射面114和第六反射面131，采用精密測(cè)量?jī)x器第一單軸差分激光干涉儀610和第二單軸差分激光干涉儀620測(cè)量出承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變量，用精密測(cè)量出的形變量進(jìn)行誤差補(bǔ)償，而現(xiàn)有技術(shù)中，用承物臺(tái)某一點(diǎn)處的溫度變化代替承物臺(tái)整個(gè)區(qū)域的溫度變化，用經(jīng)驗(yàn)公式計(jì)算形變量，用經(jīng)驗(yàn)公式計(jì)算得到的形變量進(jìn)行誤差補(bǔ)償，因此，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，誤差大大減小了，計(jì)算精確度大大提高了 ；由于本發(fā)明誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置可精確測(cè)量出承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變量，承物臺(tái)可采用玻璃或陶瓷材料制作，節(jié)約了制造成本。 如圖5所示，所述承物臺(tái)100位于光刻機(jī)的物鏡下，光刻機(jī)的物鏡的光軸在所述承物臺(tái)100上的投影為0點(diǎn)，設(shè)所述承物臺(tái)100上的A點(diǎn)為測(cè)量點(diǎn)，以精確測(cè)量出的所述承物臺(tái)100的形變量進(jìn)行誤差補(bǔ)償?shù)姆椒òㄒ韵虏襟E步驟1，測(cè)量所述承物臺(tái)100在X軸及Y軸方向上的長(zhǎng)度Lx和Ly ；步驟2，測(cè)量所述測(cè)量點(diǎn)A在初位置處與所述0點(diǎn)之間的距離；步驟3，所述承物臺(tái)100移動(dòng)至末位置，由所述第一多軸激光干涉儀510和第二多軸激光干涉儀520測(cè)量出所述承物臺(tái)100的位置變化，由所述第一單軸差分激光干涉儀610和第二單軸差分激光干涉儀620測(cè)量出所述承物臺(tái)100因環(huán)境變化引起的形變量；所述第一多軸激光干涉儀510測(cè)量所述承物臺(tái)100在X軸方向上的位移量L2x,所述第二多軸激光干涉儀520測(cè)量所述承物臺(tái)100在Y軸方向上的位移量L2y,所述第一單軸差分激光干涉儀610測(cè)量所述承物臺(tái)100因環(huán)境變化引起的、在Y軸方向上的形變量(2 ALy)，所述第二單軸差分激光干涉儀620測(cè)量所述承物臺(tái)100因環(huán)境變化引起的、在X軸方向上的形變量(2 A Lx)；步驟4，計(jì)算所述測(cè)量點(diǎn)A從初位置到末位置的位置變化；
.采用公式Z4x =L -(2alX)XL1^+算所述測(cè)量點(diǎn)A在X軸方向上的位移量Lax，采用公式L4y = L2y - (2fLy) X Lly計(jì)算所述測(cè)量點(diǎn)A在Y軸方向上的位移量LAy，
即獲得所述測(cè)量點(diǎn)A從初桂置到末位置的位置變化，其中，Zbc表示所述測(cè)量點(diǎn)
A與0點(diǎn)之間的距離在X軸上的分量，Lly表示所述測(cè)量點(diǎn)A與0點(diǎn)之間的距離在Y軸上的分量。所述承物臺(tái)100因環(huán)境變化引起的形變由精密測(cè)量?jī)x器測(cè)得，利用精確測(cè)得的形變量對(duì)測(cè)量點(diǎn)的位置變化進(jìn)行誤差補(bǔ)償，誤差小，計(jì)算精度高，據(jù)此可對(duì)承物臺(tái)的位置進(jìn)行精確控制，有利于提聞光刻機(jī)曝光精度。
權(quán)利要求
1.一種承物臺(tái)，其特征在于，包括本體、第一長(zhǎng)條反射鏡和第二長(zhǎng)條反射鏡； 所述本體設(shè)有第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面，所述第一反射面、第二反射面、第三反射面和第四反射面依次首尾相連； 所述第一長(zhǎng)條反射鏡設(shè)置在所述第一反射面的一端，所述第二長(zhǎng)條反射鏡設(shè)置在所述第二反射面的一端，且與所述第一長(zhǎng)條反射鏡相鄰； 所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面平行于所述第三反射面，且與所述第三反射面的朝向相同； 所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面平行于所述第四反射面，且與所述第四反射面的朝向相同。
2.如權(quán)利要求I所述的承物臺(tái)，其特征在于，所述第三反射面與所述第一反射面相互平行，所述第四反射面與所述第二反射面相互平行。
3.如權(quán)利要求I所述的承物臺(tái)，其特征在于，所述承物臺(tái)采用玻璃或者陶瓷材料制成。
4.如權(quán)利要求I所述的承物臺(tái)，其特征在于，所述本體、第一長(zhǎng)條反射鏡和第二長(zhǎng)條反射鏡均為長(zhǎng)方體。
5.一種誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求I 4中任一權(quán)利要求所述的承物臺(tái)、激光器、第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀、第二單軸差分激光干涉儀以及用于分光束的光學(xué)鏡組； 所述第一多軸激光干涉儀設(shè)置在所述承物臺(tái)的本體靠近所述第二反射面的一側(cè)，所述第二多軸激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第一反射面的一側(cè)，所述第一單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第三反射面的一側(cè)，所述第二單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第四反射面的一側(cè)； 所述光學(xué)鏡組將所述所述激光器發(fā)射的光束分成多束，并分別射入所述第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀。
6.如權(quán)利要求5所述的誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其特征在于，所述光學(xué)鏡組包括第一分光鏡、第二分光鏡、第三分光鏡、第一反射鏡組和第二反射鏡組； 所述第一分光鏡設(shè)置在所述激光器的發(fā)射口處，將所述激光器發(fā)射的光束分成第一光束和第二光束； 所述第二分光鏡設(shè)置在所述第一光束的前行方向上，將所述第一光束分成第三光束和第四光束，所述第三光束入射所述第一多軸激光干涉儀，所述第四光束經(jīng)所述第一反射鏡組后入射所述第二多軸激光干涉儀； 所述第三分光鏡將所述第二光束分成第五光束和第六光束，所述第五光束入射所述第一單軸差分激光干涉儀，所述第六光束經(jīng)所述第二反射鏡組后入射所述第二單軸差分激光干涉儀。
7.如權(quán)利要求6所述的誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其特征在于，所述第一多軸激光干涉儀和第二多軸激光干涉儀測(cè)量所述承物臺(tái)的位置變化，所述第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變。
8.如權(quán)利要求6所述的誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，其特征在于，所述第一多軸激光干涉儀發(fā)出第一測(cè)量光束，所述第一測(cè)量光束入射到所述第二反射面上，經(jīng)所述第二反射面反射回所述第一多軸激光干涉儀，由所述第一多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在第一方向上的位移量； 所述所述第二多軸激光干涉儀發(fā)出第二測(cè)量光束，所述第二測(cè)量光束入射到所述第一反射面上,經(jīng)所述第一反射面反射回所述第二多軸激光干涉儀，由所述第二多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在第二方向上的位移量； 所述第一單軸差分激光干涉儀發(fā)出第一參考光束和第三測(cè)量光束，所述第一參考光束入射到所述第三反面上，經(jīng)所述第三反面反射回所述第一單軸差分激光干涉儀，所述第三測(cè)量光束入射到所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面上，經(jīng)所述第一長(zhǎng)條反射鏡的反射面反射回所述第一單軸差分激光干涉儀，由所述第 一單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在所述第一方向上的形變量； 所述第二單軸差分激光干涉儀發(fā)出第二參考光束和第四測(cè)量光束，所述第二參考光束入射到所述第四反面上，經(jīng)所述第四反面反射回所述第二單軸差分激光干涉儀，所述第四測(cè)量光束入射到所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面上，經(jīng)所述第二長(zhǎng)條反射鏡的反射面反射回所述第二單軸差分激光干涉儀，由所述第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)在所述第二方向上的形變量； 所述第二方向垂直于所述第一方向。
9.一種確定承物臺(tái)上測(cè)量點(diǎn)的位置變化的誤差補(bǔ)償方法，使用如權(quán)利要求5所述的誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置，所述承物臺(tái)位于光刻機(jī)的物鏡下，其特征在于，所述誤差補(bǔ)償方法包括以下步驟 測(cè)量所述承物臺(tái)在第一方向及第二方向上的長(zhǎng)度Lx和Ly，其中，Lx表示所述承物臺(tái)在第一方向上的長(zhǎng)度，Ly表示所述承物臺(tái)在第二方向上的長(zhǎng)度，所述第二方向垂直于所述第一方向； 測(cè)量所述承物臺(tái)上的測(cè)量點(diǎn)在初位置處與O點(diǎn)之間的距離，其中，所述O點(diǎn)是光刻機(jī)的物鏡的光軸在所述承物臺(tái)上的投影； 所述承物臺(tái)移動(dòng)至末位置，由所述第一多軸激光干涉儀和第二多軸激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)的位置變化，由所述第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀測(cè)量出所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的形變量； 采用公式Zte =Z21XXLly計(jì)算所述測(cè)量點(diǎn)從初位置LxLy到末位置的位置變化，其中，Lax表示所述測(cè)量點(diǎn)在所述第一方向上的位移量，L2x表示所述承物臺(tái)在所述第一方向上的位移量，(2ALX)表示所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的、在所述第一方向上的形變量，Llx表示所述測(cè)量點(diǎn)與所述O點(diǎn)之間的距離在所述第一方向上的分量，LAy表示所述測(cè)量點(diǎn)在所述第二方向上的位移量，L2y表示所述承物臺(tái)在所述第二方向上的位移量，(2ALy)表示所述承物臺(tái)因環(huán)境變化引起的、在所述第二方向上的形變量，Lly表示所述測(cè)量點(diǎn)與所述O點(diǎn)之間的距離在所述第二方向上的分量。
全文摘要
本發(fā)明涉及承物臺(tái)、誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置及誤差補(bǔ)償方法，所述誤差補(bǔ)償測(cè)量裝置包括承物臺(tái)、激光器、第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀、第二單軸差分激光干涉儀以及光學(xué)鏡組；所述第一多軸激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第二反射面的一側(cè)，所述第二多軸激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第一反射面的一側(cè)，所述第一單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第三反射面的一側(cè)，所述第二單軸差分激光干涉儀設(shè)置在所述本體靠近所述第四反射面的一側(cè)；所述光學(xué)鏡組將所述所述激光器發(fā)射的光束分成多束，并分別射入所述第一多軸激光干涉儀、第二多軸激光干涉儀、第一單軸差分激光干涉儀和第二單軸差分激光干涉儀。
文檔編號(hào)G01B11/16GK102736423SQ201110084179
公開日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2011年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月2日
發(fā)明者李志丹, 王成才, 金小兵, 魯武旺 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司