專利名稱：X射線成像裝置和x射線成像方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及χ射線成像裝置和χ射線成像方法。
背景技術(shù)：
利用放射線的非破壞性檢查在工業(yè)、醫(yī)學(xué)治療等中被廣泛地進(jìn)行。
例如作為一種類型的放射線的X射線是具有約0.01人至10歷(10_12至10_8m)的范圍中的波長(zhǎng)的電磁射線。具有較短波長(zhǎng)的X射線(約^eV或更高)被稱為硬X射線，并且，具有較長(zhǎng)波長(zhǎng)的X射線(約0. IkeV至約^eV)被稱為軟X射線。
通過利用高度穿透性X射線的吸收能力的差異，X射線吸收襯度(contrast)方法在實(shí)踐上被采用以例如用于鐵和鋼中的內(nèi)部裂紋的檢查或行李安全檢查。
另一方面，對(duì)于密度與周圍介質(zhì)具有較小差異并導(dǎo)致較小的X射線吸收襯度的被檢體(object)的檢測(cè)，檢測(cè)由被檢體導(dǎo)致的X射線的相位偏移(shift)的X射線相位襯度成像方法是有效的。正在對(duì)于共混聚合物的成像以及對(duì)于醫(yī)學(xué)治療等研究這種X射線相位襯度成像方法。
在各種X射線相位襯度成像方法之中，在以下的專利文獻(xiàn)1中公開的折射襯度方法利用由被檢體導(dǎo)致的相位偏移所產(chǎn)生的折射效果。
該折射襯度方法在將檢測(cè)器放置得離被檢體距離大的情況下通過微細(xì)焦點(diǎn)的X 射線源來拾取圖像。該折射襯度方法通過被檢體的X射線折射效果獲得被檢體的邊緣增強(qiáng)圖像。
并且，利用折射效果的該折射襯度方法不一定需要像同步加速器放射線 (synchrotron radiation)那樣的高度相干X射線，這與通常的X射線成像方法不同。
另一方面，專利文獻(xiàn)2公開了具有在檢測(cè)器的像素的邊緣部分處遮蔽X射線的遮蓋件(mask)的成像裝置。通過在不存在被檢體的情況下放置要被X射線部分照射的遮蓋件，由被檢體的折射效果導(dǎo)致的X射線的位置偏移可被檢測(cè)作為X射線的強(qiáng)度變化。
[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)] [專利文獻(xiàn)] [專利文獻(xiàn)1]日本專利申請(qǐng)公開No.2002-102215 [專利文獻(xiàn)2]國(guó)際專利申請(qǐng)公開No.2008/029107

發(fā)明內(nèi)容
但是，在專利文獻(xiàn)1中公開的折射襯度方法中，由被檢體的折射效果導(dǎo)致的X射線折射的角度非常小，使得檢測(cè)器應(yīng)被放置得離被檢體距離足夠大，以獲得邊緣增強(qiáng)的被檢體圖像。因此，折射襯度方法不可避免地需要較大尺寸的檢測(cè)裝置。
本發(fā)明意在提供用于克服折射率襯度方法的以上缺點(diǎn)的X射線成像裝置和X射線成像方法。
本發(fā)明針對(duì)一種X射線成像裝置，用于獲得關(guān)于由被檢體導(dǎo)致的X射線的相位偏移的信息，所述X射線成像裝置包括 分離元件，用于將從X射線產(chǎn)生器單元發(fā)射的X射線在空間上分離成X射線束 (X-ray beam)； 衰減器單元，具有用于接收被分離元件分離的X射線束的衰減元件的布置；以及 強(qiáng)度檢測(cè)器單元，用于檢測(cè)被衰減器單元衰減的X射線束的強(qiáng)度；并且 衰減元件依賴于該元件上的X射線入射位置連續(xù)改變X射線的透射量。
所述裝置可具有計(jì)算單元，用于從由強(qiáng)度檢測(cè)器單元檢測(cè)到的X射線強(qiáng)度信息計(jì)算被檢體的微分相位襯度圖像或相位襯度圖像。
衰減元件可具有在與入射的X射線垂直的方向上連續(xù)改變的厚度。
衰減元件可具有三角棱柱的形狀。
衰減元件可具有在與入射的X射線垂直的方向上連續(xù)變化的密度。
衰減元件可具有使衰減元件中的光路長(zhǎng)度對(duì)于X射線入射位置的二階微分值為正的形狀。
所述裝置可具有移動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于同步移動(dòng)X射線產(chǎn)生器單元、分離元件、衰減器單元和強(qiáng)度檢測(cè)器單元。
本發(fā)明針對(duì)一種用χ射線成像裝置進(jìn)行X射線成像的方法，包括 在空間上分離X射線；以及 通過使用具有衰減元件的布置的衰減器單元，從已透射通過衰減元件的X射線的強(qiáng)度收集關(guān)于由被檢體導(dǎo)致的X射線相位偏移的信息；并且 衰減元件對(duì)應(yīng)于該元件中的X射線入射位置連續(xù)改變X射線的透射量。
本發(fā)明針對(duì)一種X射線成像裝置，包括 X射線產(chǎn)生器單元，用于產(chǎn)生X射線； 衰減器單元，具有多個(gè)衰減元件的布置，所述多個(gè)衰減元件各具有根據(jù)已透射通過被檢體的X射線的強(qiáng)度分布來連續(xù)改變X射線的透射量的吸收能力梯度(absorptive power gradient)；以及 X射線強(qiáng)度檢測(cè)器，用于檢測(cè)已被衰減器單元衰減的X射線的強(qiáng)度。
本發(fā)明針對(duì)一種用X射線成像裝置進(jìn)行X射線成像的方法，所述方法采用具有多個(gè)衰減元件的布置的衰減器單元來檢測(cè)通過衰減元件的X射線的強(qiáng)度分布的變化，所述多個(gè)衰減元件各具有根據(jù)已透射通過被檢體的X射線的強(qiáng)度分布來連續(xù)改變X射線的透射量的吸收能力梯度。
本發(fā)明提供可解決常規(guī)的折射襯度方法中的問題的X射線成像裝置和X射線成像方法。
從參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的以下描述，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征將變得明顯。


圖1示出本發(fā)明實(shí)施例1中的X射線成像裝置的構(gòu)成。
圖2示意性地示出本發(fā)明實(shí)施例1中的衰減器單元的一部分。
圖3示出本發(fā)明實(shí)施例2中的X射線成像裝置的構(gòu)成。
圖4A和圖4B示出本發(fā)明實(shí)施例2中的衰減器單元的一部分。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例2中的計(jì)算處理的流程圖。
圖6示意性地示出實(shí)施例3中的構(gòu)成，其采用另一類型的衰減器單元替代實(shí)施例 2的衰減器單元。
圖7A和圖7B是用于描述本發(fā)明實(shí)施例4中的衰減器單元和衰減元件的示圖。
圖8是用于比較指數(shù)函數(shù)型的光路長(zhǎng)度變化與線性函數(shù)型的光路長(zhǎng)度變化的曲線圖。
圖9A和圖9B是用于比較指數(shù)函數(shù)型的光路長(zhǎng)度變化與線性函數(shù)型的光路長(zhǎng)度變化的曲線圖。
圖10是用于描述實(shí)施例4中的衰減器單元的示圖。
圖11示意性地示出本發(fā)明實(shí)施例5中的計(jì)算層析攝影術(shù)(computed tomography, CT)的構(gòu)成。
圖12是本發(fā)明實(shí)施例5中的計(jì)算處理的流程圖。
圖13示出本發(fā)明例子1中的X射線成像裝置的構(gòu)成。
圖14示出本發(fā)明例子2中的X射線成像裝置的構(gòu)成。
圖15示出物質(zhì)對(duì)于X射線的折射。
圖16A和圖16B是用于描述專利文獻(xiàn)2中的問題的示圖。
具體實(shí)施例方式在本發(fā)明的實(shí)施例中，采用衰減器單元來獲得關(guān)于由折射效果導(dǎo)致的X射線強(qiáng)度分布的變化或X射線束的位置偏移的信息，所述衰減器單元由分別具有吸收能力梯度(或透射率梯度)的多個(gè)衰減元件的布置所構(gòu)成。
這里，具有吸收能力梯度(或透射率梯度)的衰減元件表示X射線的吸收量(或透射量)依賴于χ射線強(qiáng)度分布或χ射線入射位置而連續(xù)變化的元件?？赏ㄟ^連續(xù)或逐步地(stepwise)改變形狀來構(gòu)成這種衰減元件。否則，可通過改變每單位體積的X射線的吸收(或透射)量來構(gòu)成衰減元件。順便說一句，本申請(qǐng)的說明書中的措詞“連續(xù)”可包括措詞“分階段(in stages)”的意思。
以下參照具體實(shí)施例描述本發(fā)明的X射線成像裝置和X射線成像方法。
(實(shí)施例1) 實(shí)施例1描述用于從X射線的相位偏移拾取被檢體圖像的X射線成像裝置的構(gòu)成。
圖15示意性地示出透射通過物質(zhì)所導(dǎo)致的X射線束的折射。這里，物質(zhì)對(duì)于X射線的折射率比1稍低。
因此，在圖15所示的情況下，X射線束1507通過透射通過物質(zhì)1502而從物質(zhì)1502 向外被折射(X射線束1507在圖15中向上折射)。
已透射通過物質(zhì)1502的X射線束與沿物質(zhì)1502的外部行進(jìn)的X射線1501重疊， 以增大重疊位置處的X射線強(qiáng)度，而在要在物質(zhì)上的入射位置處折射的X射線束1507的假想延長(zhǎng)線上，X射線強(qiáng)度較低。因此，如圖15所示，透射的X射線的強(qiáng)度分布1503在物質(zhì) 1502的邊緣處增大。
由于X射線的折射角θ非常小，因此，考慮到檢測(cè)器的像素尺寸，應(yīng)使得物質(zhì)和檢測(cè)器之間的距離較長(zhǎng)，以獲得邊緣增強(qiáng)的輪廓線(profile line)。因此，在以上的專利文獻(xiàn) 1中描述的折射襯度方法中，由于為了放大圖像的在被檢體和檢測(cè)器之間的必要的長(zhǎng)距離， 所以裝置不可避免地較大。
在檢測(cè)器被放置得離被檢體距離較近的情況下，檢測(cè)器1504的一個(gè)像素1505的尺寸比透射X射線強(qiáng)度分布1503中的強(qiáng)度圖案大，以相互抵消，從而使該一個(gè)像素內(nèi)的強(qiáng)度均勻化。這使得不能獲得物質(zhì)的邊緣增強(qiáng)圖像。
因此，該實(shí)施例的特征在于衰減器單元在各衰減元件中具有吸收能力梯度以用于檢測(cè)X射線強(qiáng)度的圖案，被檢體和檢測(cè)器之間距離短。
圖1示出該實(shí)施例的X射線成像裝置的構(gòu)成。
由作為X射線產(chǎn)生器單元的X射線源101產(chǎn)生的X射線通過被檢體104偏移其相位以被折射。折射的X射線被引至衰減器單元105。已透射通過衰減器單元105的X射線被作為強(qiáng)度檢測(cè)器單元的檢測(cè)器106檢測(cè)。由檢測(cè)器106獲得的信息被輸出到像監(jiān)視器那樣的顯示單元108。
被檢體104包含人體以及諸如無(wú)機(jī)材料和無(wú)機(jī)-有機(jī)復(fù)合材料的其它材料。順便說一句，為了移動(dòng)被檢體104，可以另外設(shè)置移動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖中未示出)。通過適當(dāng)?shù)匾苿?dòng)被檢體104，可以獲得被檢體104的特定點(diǎn)(spot)處的圖像。
作為檢測(cè)器106，可以使用各種類型的X射線檢測(cè)器，包括間接型X射線檢測(cè)器和直接型X射線檢測(cè)器，諸如X射線平板檢測(cè)器、X射線CCD照相機(jī)和直接轉(zhuǎn)換型X射線二維檢測(cè)器。
檢測(cè)器106可被放置在衰減器單元105附近或者離它有一定的距離。衰減器單元 105可被并入檢測(cè)器106中。
為了使用單色X射線，單色器單元102可被設(shè)置在X射線源101和被檢體104之間。單色器單元102包含X射線多層反射鏡和狹縫的組合。
接下來，更詳細(xì)地描述衰減器單元105。圖2示意性地示出衰減器單元105的一部分。在該圖中，衰減器單元203由分別具有三角棱柱形狀的衰減元件204構(gòu)成，該三角棱柱形狀具有在與入射的X射線垂直的方向上改變的厚度。
通過這種構(gòu)成，衰減元件204中的透射的X射線的光路長(zhǎng)度在X方向上變化。因此，衰減元件204具有吸收能力梯度，通過該吸收能力梯度，吸收(或透射)依賴于X射線強(qiáng)度分布或X射線入射位置而變化?？赏ㄟ^板狀部件的加工來形成衰減元件204。
在圖2中，附圖標(biāo)記201表示在不存在被檢體104的情況下被引至衰減元件204 的基準(zhǔn)X射線的強(qiáng)度分布，并且，附圖標(biāo)記202表示通過被檢體104造成的折射而被改變并且被弓I至衰減元件204的基準(zhǔn)X射線的強(qiáng)度分布。
通過檢測(cè)器的一個(gè)像素檢測(cè)到的X射線的強(qiáng)度是該一個(gè)像素內(nèi)的積分 (integrated)強(qiáng)度，而不管被引至該一個(gè)像素的X射線的強(qiáng)度分布如何。但是，將在X方向上連續(xù)改變透射X射線強(qiáng)度的衰減元件204使得能夠?qū)⑼ㄟ^被檢體104造成的折射所導(dǎo)致的X射線強(qiáng)度分布變化轉(zhuǎn)換成透射X射線強(qiáng)度的變化。
例如，在圖2中，圖中的增強(qiáng)位置202的向上偏移增大透射X射線的強(qiáng)度，而圖中的增強(qiáng)位置202的向下偏移減小透射X射線的強(qiáng)度。因此，可通過比較在不存在被檢體104 的情況下檢測(cè)到的X射線強(qiáng)度與在存在被檢體104的情況下檢測(cè)到的X射線強(qiáng)度，作為X射線強(qiáng)度分布來檢測(cè)微小的折射效果。
這種構(gòu)成使得能夠?qū)z測(cè)器106的一個(gè)像素內(nèi)的強(qiáng)度分布的微小變化進(jìn)行檢測(cè)。 這使得不必將檢測(cè)器106放置得離被檢體104距離長(zhǎng)，并使得能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的較小尺寸。并且，通過該構(gòu)成，可通過將檢測(cè)器106放置得離被檢體104距離更長(zhǎng)，來檢測(cè)由折射導(dǎo)致的強(qiáng)度分布的更微細(xì)的變化。
通過該技術(shù)，由于通過X射線的折射效果檢測(cè)相位偏移，因此不需要使用較高度相干的X射線。
在以上的描述中，衰減元件具有均勻的有效吸收系數(shù)并具有連續(xù)改變的形狀。但是，衰減元件僅需要具有吸收能力梯度，以在一定的方向上改變X射線的吸收量(透射量)。 例如，對(duì)于本實(shí)施例的X射線成像裝置，如將在后面描述的圖4A和圖4B所示的具有在與入射的X射線垂直的方向上連續(xù)改變的密度的衰減元件也是有用的。
并且，衰減元件的吸收能力梯度不必如圖2所示的那樣是連續(xù)的，而是吸收(透射)量可以逐步改變。例如，元件的形狀可逐步改變，或者，元件的密度可逐步改變。
為了獲得X射線強(qiáng)度分布的變化，可以在兩個(gè)或更多個(gè)方向上形成衰減元件中的吸收能力梯度。例如，可以在一個(gè)衰減元件內(nèi)在X方向和Y方向上形成吸收能力梯度，以測(cè)量?jī)蓚€(gè)方向上的相位梯度。為了兩個(gè)或更多個(gè)方向上的測(cè)量，元件可以具有棱錐(pyramid) 或圓錐(cone)的形狀。
吸收能力梯度不限于在衰減元件之間是均勻的?？梢栽谄矫嫔辖惶娌贾迷赬方向上具有梯度的第一類型的衰減元件和在Y方向上具有梯度的第二類型的衰減元件，以二維地測(cè)量相位梯度。
另外，可以層疊沿X方向具有梯度的衰減元件和沿Y方向具有梯度的衰減元件。 即，第一層可由在X方向上具有吸收能力梯度的第一衰減器單元形成，并且，第二層可由在 Y方向上具有吸收能力梯度的第二衰減器單元形成。
為了防止由于來自衰減器單元105的散射X射線導(dǎo)致的圖像模糊，可以在衰減器單元105和檢測(cè)器106之間放置像常規(guī)上用于倫琴成像中的格柵(grid)那樣的格柵。
(實(shí)施例2采用分離(splitting)元件的構(gòu)成) 該實(shí)施例2描述用于獲得作為X射線相位偏移信息的相位襯度圖像的X射線成像裝置和X射線成像方法。該實(shí)施例與實(shí)施例1的不同在于，采用用于分離X射線的元件。
在以上引用的專利文獻(xiàn)2中公開的成像裝置采用用于分離X射線的光學(xué)元件和用于遮蔽檢測(cè)器的元件的邊緣部分處的X射線的遮蓋件。圖16A和圖16B示出在專利文獻(xiàn)2 中描述的檢測(cè)器的一部分的例子。圖16A是自X射線引入側(cè)的檢測(cè)器的該部分的視圖，圖 16B是從與X射線引入方向垂直的一側(cè)取得的視圖。
遮蓋件1602被設(shè)置以遮蔽檢測(cè)器的各像素1601的邊緣部分處的X射線束。投影的X射線束1603被引至各像素，X射線束的部分被遮蓋件1602遮蔽。通過這種布置，入射的X射線束1603通過折射效果被偏轉(zhuǎn)以改變像素1601上的入射位置。該偏轉(zhuǎn)通過遮蓋件 1602的遮蔽改變被引至像素的X射線束的強(qiáng)度?？赏ㄟ^檢測(cè)X射線強(qiáng)度的變化來測(cè)量折射效果。
在專利文獻(xiàn)2中公開的方法中，采用遮蓋件1602來遮蔽X射線。因此，當(dāng)X射線 1603的照射的區(qū)域完全在遮蓋件1602上時(shí)，不利地不能檢測(cè)到X射線的偏轉(zhuǎn)。并且，不能檢測(cè)到遮蓋件1602的區(qū)域內(nèi)的入射X射線1603的偏轉(zhuǎn)。即，專利文獻(xiàn)2的方法具有不能感測(cè)的區(qū)域(insensible region)的問題。
因此，該實(shí)施例2描述了與折射襯度方法相比使得能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的較小尺寸并且與專利文獻(xiàn)2中描述的方法相比具有較少的不能感測(cè)的區(qū)域的方法和裝置。
圖3示出該實(shí)施例的X射線成像裝置的構(gòu)成。
從作為X射線產(chǎn)生器單元的X射線源301發(fā)射的X射線在空間上被分離元件303 分離成X射線束。即，X射線用作如專利文獻(xiàn)2中描述的具有開口(aperture)的采樣遮蓋件。透射通過分離元件303的X射線形成X射線的束(flux of X-ray) 0分離元件303可以具有線和間隔(line-and-space)狹縫陣列的形狀或者具有二維孔布置的形狀。
分離元件303中的狹縫不需要穿透通過基板(base plate)，只要狹縫允許X射線通過即可。分離元件303由具有高X射線吸收能力的材料形成，該材料包含Pt、Au、Pb、Ta 和W，以及包含這樣的元素的化合物。
在檢測(cè)器306的位置處由分離元件303分離的X射線的線和間隔的節(jié)距(pitch) 不小于檢測(cè)器306的像素尺寸。即，構(gòu)成X射線檢測(cè)器單元的像素的尺寸不大于被分離元件303分離的X射線的空間節(jié)距。
在空間上被分離元件303分離的X射線束被被檢體304折射。各X射線束被引入衰減器單元305中。已通過衰減器單元305的X射線束通過檢測(cè)器306經(jīng)受X射線強(qiáng)度的測(cè)量。由檢測(cè)器306獲得的關(guān)于X射線的信息利用計(jì)算器單元307在算術(shù)上被處理，并且被輸出到像監(jiān)視器那樣的顯示單元308。
單色器單元302、被檢體304、用于移動(dòng)被檢體304的移動(dòng)機(jī)構(gòu)、檢測(cè)器306、格柵等可以與實(shí)施例1中采用的那些相同。
更具體地描述衰減器單元305。
圖4A示意性地示出衰減器單元305的一部分。
基準(zhǔn)X射線束401是在不存在被檢體304的情況下分離的X射線束，并優(yōu)選被引至X方向上的X射線衰減器元件404的中心。X射線束402表示由于被檢體304的存在所折射的X射線束。衰減器單元403由多個(gè)衰減元件404的布置所構(gòu)成。
如圖4B所示，衰減元件404具有在X方向上(與入射的X射線束垂直)連續(xù)分布的密度。圖4A和圖4B中的衰減元件404的密度變化改變了 X射線的吸收程度(透射率)， 較高密度部分允許較少的X射線穿透。即，衰減元件404具有依賴于X射線的入射位置而連續(xù)改變X射線的吸收(透射)的吸收能力梯度。
已通過衰減元件404的基準(zhǔn)X射線401的強(qiáng)度由以下的式1表示
權(quán)利要求
1.一種X射線成像裝置，用于獲得關(guān)于由被檢體導(dǎo)致的X射線的相位偏移的信息，所述 X射線成像裝置包括分離元件，用于將從X射線產(chǎn)生器單元發(fā)射的X射線在空間上分離成X射線束；衰減器單元，具有用于接收被分離元件分離的X射線束的衰減元件的布置；以及強(qiáng)度檢測(cè)器單元，用于檢測(cè)被衰減器單元衰減的X射線束的強(qiáng)度；并且衰減元件依賴于衰減元件上的X射線入射位置連續(xù)改變X射線的透射量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的X射線成像裝置，其中，所述裝置具有計(jì)算單元，用于從由強(qiáng)度檢測(cè)器單元檢測(cè)到的X射線強(qiáng)度信息計(jì)算被檢體的微分相位襯度圖像或相位襯度圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的X射線成像裝置，其中，衰減元件具有在與入射的X射線垂直的方向上連續(xù)改變的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的X射線成像裝置，其中，衰減元件具有三角棱柱的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2的X射線成像裝置，其中，衰減元件具有在與入射的X射線垂直的方向上連續(xù)變化的密度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的X射線成像裝置，其中，衰減元件具有使衰減元件中的光路長(zhǎng)度對(duì)于X射線入射位置的二階微分值為正的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)的X射線成像裝置，其中，所述裝置具有移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 用于同步移動(dòng)X射線產(chǎn)生器單元、分離元件、衰減器單元和強(qiáng)度檢測(cè)器單元。
8.一種用X射線成像裝置進(jìn)行X射線成像的方法，包括在空間上分離X射線；以及通過使用具有衰減元件的布置的衰減器單元，從已透射通過衰減元件的X射線的強(qiáng)度收集關(guān)于由被檢體導(dǎo)致的X射線相位偏移的信息；并且衰減元件對(duì)應(yīng)于所述元件中的X射線入射位置連續(xù)改變X射線的透射量。
9.一種X射線成像裝置，包括X射線產(chǎn)生器單元，用于產(chǎn)生X射線；衰減器單元，具有多個(gè)衰減元件的布置，所述多個(gè)衰減元件各具有根據(jù)已透射通過被檢體的X射線的強(qiáng)度分布來連續(xù)改變X射線的透射量的吸收能力梯度；以及X射線強(qiáng)度檢測(cè)器，用于檢測(cè)已被衰減器單元衰減的X射線的強(qiáng)度。
10.一種用X射線成像裝置進(jìn)行X射線成像的方法，所述方法采用具有多個(gè)衰減元件的布置的衰減器單元來檢測(cè)通過衰減元件的X射線的強(qiáng)度分布的變化，所述多個(gè)衰減元件各具有根據(jù)已透射通過被檢體的X射線的強(qiáng)度分布來連續(xù)改變X射線的透射量的吸收能力梯
全文摘要
用于獲得關(guān)于由被檢體導(dǎo)致的X射線的相位偏移的信息的X射線成像裝置包括分離元件，用于將從X射線產(chǎn)生器單元發(fā)射的X射線在空間上分離成X射線束；衰減器單元，具有用于接收被分離元件分離的X射線束的衰減元件的布置；以及強(qiáng)度檢測(cè)器單元，用于檢測(cè)被衰減器單元衰減的X射線束的強(qiáng)度；并且衰減元件依賴于該元件上的X射線入射位置連續(xù)改變X射線的透射量。
文檔編號(hào)G01N23/04GK102187207SQ200980141289
公開日2011年9月14日 申請(qǐng)日期2009年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月24日
發(fā)明者向出大平, 高田一廣, 福田一德, 渡邊壯俊 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社