專利名稱：Pvc生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氣體在線檢測，特別涉及一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的撿測
方法及裝置。
背景技術(shù)：
PVC(Polyvinylchlorid，主要成分是聚氯乙烯)是一種很重要的塑料，應(yīng)用也 很廣泛，其生產(chǎn)主要分三個步驟-
氯氣和氫氣反應(yīng)生成氯化氫；
氯化氫與乙炔反應(yīng)生成氯乙烯；
氯乙烯經(jīng)聚合反應(yīng)后生成聚氯乙烯。
在目前的生產(chǎn)工藝中，氯氣和氫氣的反應(yīng)往往不充分，氯化氫中還含有一 些未經(jīng)反應(yīng)的或過量的氯氣，這會給PVC生產(chǎn)帶來嚴(yán)重影響在氯乙烯反應(yīng)爐 內(nèi)，氯化氫中的氯氣會與乙炔發(fā)生劇烈反應(yīng)，生成不穩(wěn)定、易分解的氯乙炔， 氯乙炔又分解生成氯化氫和碳，在反應(yīng)過程中釋放出大量的熱量，導(dǎo)致爆炸燃 燒事故，此類事故易發(fā)、頻發(fā)，對裝置的安全生產(chǎn)和穩(wěn)定運(yùn)行造成了很大的威 脅。
為了防止爆炸事故的發(fā)生，可以采用如下解決方案在合成氯化氫氣體時， 向反應(yīng)爐內(nèi)通入過量的氫氣，減少反應(yīng)爐內(nèi)氯氣的殘余量；這樣，進(jìn)入氯乙烯 反應(yīng)爐中的氯化氫中不再含有氯氣。這種解決方案在一定程度上防止了爆炸事 故的產(chǎn)生，但降低了氯化氫氣體的合成率，并浪費(fèi)了大量的氫氣，同時也降低 了氯化氫氣體的純度。這也是許多企業(yè)不愿采用這種技術(shù)的原因。
基于以上原因，就有必要實(shí)時監(jiān)測氯化氫、氯氣的濃度，進(jìn)而去調(diào)整PVC 的生產(chǎn)工藝，對PVC的生產(chǎn)有重要的指導(dǎo)意義。
中國專利CN101210900A公開了一種氯化氫合成過程中游離氯在線檢測工 藝與裝置，應(yīng)用在PVC生產(chǎn)中。檢測的基本原理為將氯化氫反應(yīng)爐中的氯化 氫通過取樣口和閥門進(jìn)入檢測裝置內(nèi)，檢測裝置內(nèi)裝有電解液和電極。當(dāng)氯化氫氣體中含有微量氯氣時，在電極間產(chǎn)生的電位超過基準(zhǔn)電位，電位差信息送
至DCS，通過DCS發(fā)出警報，并自動增大氯化氫生產(chǎn)時氫氣的輸入量或減小氯 氣的輸入量，以消除氯化氫氣體中的過量或未反應(yīng)的氯氣。
上述檢測技術(shù)能夠在線檢測氯化氫氣體中是否包含氯氣，但還存在諸多不 足，如
1、 上述檢測技術(shù)只是一種定性分析技術(shù)，只能檢測氯化氫氣體中是否含有 氯氣，并不能實(shí)時測量氯化氫中氯氣的濃度，也不能測量氯化氫的濃度，對PVC 生產(chǎn)的指導(dǎo)意義并不大。
2、 響應(yīng)時間長，不能實(shí)現(xiàn)實(shí)時檢測，測量結(jié)果滯后嚴(yán)重，對生產(chǎn)安全預(yù)警 和工業(yè)生產(chǎn)控制提供的幫助很有限。
3、 測量成本高
氯化氫氣體中通常含有一定量的水蒸氣，氯化氫氣體在水蒸氣的環(huán)境下具 有強(qiáng)腐蝕性；而且，在取出并測量的過程中，取樣氣體的溫度處于常溫，氣體 中的水蒸氣會冷凝為液態(tài)水，氯化氫氣體溶于液態(tài)水形成具有強(qiáng)烈腐蝕性的鹽 酸。因此，檢測裝置容易被腐蝕壞，顯著地降低了檢測裝置的使用壽命。
每次檢測后都要更換電解液，還需使用水去清洗電極，提高了測量成本。
4、 每次檢測后排出的電解液污染環(huán)境。
目前，基于OMA (Optical Multi-channel spectral Analysis)技術(shù)的分光光譜 氣體分析儀應(yīng)用在氣體測量中，如石化化工、污染源排放監(jiān)測、大氣環(huán)保監(jiān)測 等領(lǐng)域中的氣體濃度測量。
OMA技術(shù)的基本原理為以具有一定波長范圍的光作為測量光，測量光穿 過待測氣體，并在特定波段被吸收；采用分光技術(shù)，對被吸收的光光進(jìn)行分光， 獲取對應(yīng)各波長的多通道光譜能量序列；分析測量光在選定波段的吸收，利用 比爾-朗伯定律得到待測氣體的濃度等參數(shù)。OMA技術(shù)具有諸多優(yōu)點(diǎn)，如響應(yīng) 時間很短，可以達(dá)到毫秒級，可以實(shí)現(xiàn)實(shí)時、連續(xù)測量；可以同時測量多個氣 體組分，動態(tài)范圍大，支持自動量程切換；測量精度高。
目前，在應(yīng)用0MA技術(shù)測量HC1中，如污染源排放中HC1的監(jiān)觀!，選擇 的吸收波段通常在185-200nm范圍內(nèi)。在應(yīng)用OMA技術(shù)測量Cl2中，如大氣環(huán)保中Cl2的監(jiān)測，選擇的吸收波段 通常在270-450nm范圍內(nèi)。
在氯堿行業(yè)的PVC生產(chǎn)工藝中，需要實(shí)時分析HCl及微量Cl2的濃度，然而測 量環(huán)境較為惡劣
1、 由于微量水的存在，測量氣有強(qiáng)烈腐蝕性；
2、 待測氣體HCl和Cl2濃度差異極大，HC1濃度范圍在86 96X，而Cl2
濃度僅若干ppm。
為了同時測量PVC生產(chǎn)工藝中HC1及微量Cl2的濃度，申請人使用了基于 OMA技術(shù)的分光光譜氣體分析儀，并且還使用185-450nm內(nèi)的測量光；但在應(yīng) 用當(dāng)中，出現(xiàn)了諸多技術(shù)難點(diǎn)，如
1、 高濃度HCl對185-200nm波段的測量光吸收非常強(qiáng)，即使測量光程設(shè)計 為lcm，吸收也超過50%，造成吸收后的光譜能量非常微弱，增加了測量難度， 甚至無法測量。
2、 微量Cl2對波段270-450nm內(nèi)測量光的吸收非常弱，即使測量光程設(shè)計 為100cm，最大吸收波長上吸收也不足1%，吸收前后的光譜能量變化非常小， 增加了測量的難度。
由上可見，高濃度HCl和微量Cl2對測量光程的需求相差大，增加了測量難度。
3、 由于測量氣含有微量水分，因此具有強(qiáng)烈腐蝕性，嚴(yán)重縮短了分析儀的 使用壽命，相應(yīng)地提高了測量成本。
4、 在測量過程中還發(fā)現(xiàn)測量氣中還攜帶一些不明顆粒物進(jìn)入測量室，經(jīng)分 析研究發(fā)現(xiàn)這些顆粒物不僅吸收了測量光，而且還污染、腐蝕測量室，大大縮 短測量室的使用壽命。
5、 在185-450nm范圍內(nèi)，常規(guī)分光元件在這么寬的波段使用，都會出現(xiàn)二 級光譜與一級光譜間的重疊，從而引入HCl及微量Cl2測量間的交叉干擾，嚴(yán)重 影響了測量精度。
基于上述技術(shù)難點(diǎn)的存在，常規(guī)的基于OMA技術(shù)的分光光譜氣體分析儀還 沒能應(yīng)用在氯堿行業(yè)PVC生產(chǎn)工藝中HC1及微量Cl2濃度的同時檢測中。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明提供了一種響應(yīng)速度高、測量精度高、
能實(shí)現(xiàn)在線連續(xù)檢測、測量成本低的PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，以
及一種響應(yīng)速度高、測量精度高、能實(shí)現(xiàn)在線連續(xù)檢測、測量成本低、結(jié)構(gòu)簡
單的PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案 一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，包括以下步驟
a、 譜段選擇步驟
根據(jù)PVC生產(chǎn)的具體工況，選擇檢測HC1用的測量波段i A ，該波段處于 紫外/可見波段；
選擇檢測Cl2用的測量波段*￡2 ，該波段處于紫外/可見波段；
b、 取樣步驟
從被測環(huán)境中取出待測樣本；
c、 預(yù)處理步驟
對所述待測樣本進(jìn)行除水處理，得到待測樣氣；大大降低了待測樣氣的腐 蝕性，同時也不再生成不明顆粒物，保證了測量光只被待測樣氣吸收；
d、 測量步驟，
光源發(fā)出測量光，測量光的波長范圍覆蓋了所述測量波段i A和及A ; 測量光穿過待測樣氣，測量光經(jīng)吸收后被接收，之后被分光；在分光過程 中消除掉HC1的二級光譜，避免了 HC1和Cl2測量間的交叉干擾；
利用比爾-朗伯定律分析測量波段/^內(nèi)的接收信號，從而得到待測樣氣中 HC1的濃度；
利用比爾-朗伯定律分析測量波段厄2內(nèi)的接收信號，從而得到待測樣氣中
Cl2的濃度。
作為優(yōu)選，所述測量波段i A處于以下范圍內(nèi)210 250nm。 作為優(yōu)選，所述測量波段厄2處于以下范圍內(nèi)270 450nm。 HC1在185nm 250nm波段范圍內(nèi)具有較強(qiáng)吸收，相應(yīng)的二級光譜的波段范圍為370 500nm。 Cl2用測量波段i^ (一級光譜)是從270 450nrn,因此HC1 的二級光譜位置與Cl2的一級光譜位置存在部分重疊，需要在它們重疊的波段范 圍370 450nm范圍內(nèi)消除HCl的二級光譜。
上述選擇的測量波段很好地滿足了 OMA技術(shù)應(yīng)用的需要選擇了新的檢測 HC1用的測量波段，HC1氣體在該波段內(nèi)的吸收率適中，從而使HCl和Cl2的測 量光程設(shè)計為相同；
作為優(yōu)選，待測樣氣被加熱，進(jìn)一步減少待測樣氣中的液態(tài)水。 作為優(yōu)選，待測樣氣的溫度高于待測樣氣中水分的露點(diǎn)50'C以上，進(jìn)一步 降低了待測樣氣的腐蝕性。
為了實(shí)施上述方法，本發(fā)明還提出了這樣一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的 檢測裝置，包括紫外/可見分光光譜氣體分析儀、以及依次相連的采樣裝置、除 水裝置組成；所述紫外/可見分光光譜氣體分析儀包括紫外/可見光源、氣體室、 光譜儀和分析單元，所述檢測裝置還包括二級光譜消除模塊。
作為優(yōu)選，所述紫外/可見光源的輸出光波長范圍覆蓋185 450nm。
作為優(yōu)選，所述除水裝置包括氣液分離器、氣態(tài)水濾除裝置
作為優(yōu)選，所述檢測裝置還包括設(shè)置在氣體室上的加熱裝置。
作為優(yōu)選，所述二級光譜消除模塊是設(shè)置在光譜儀內(nèi)的二級光譜消除件。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果
本發(fā)明克服了 OMA技術(shù)應(yīng)用在PVC工藝中同時測量HC1和Cl2中遇到的 所有技術(shù)難點(diǎn)，如吸收率、HCl和Cb測量間的交叉干擾、強(qiáng)腐蝕性、測量光程 等問題，創(chuàng)造性地將OMA技術(shù)應(yīng)用于PVC工藝中HC1和Cl2濃度的同時檢測 中，實(shí)現(xiàn)了
1、 應(yīng)用的分光光譜氣體分析技術(shù)顯著提高了探測靈敏度以及測量精度，可 同時、連續(xù)地測量HC1和Cl2的濃度。為氯化氫的合成提供準(zhǔn)確及時的技術(shù)參數(shù)， 大大提高了HC1的合成效率和純度，也減少了氫氣的浪費(fèi)。
2、 響應(yīng)時間短，可以達(dá)到毫秒級，實(shí)現(xiàn)了HCl和Cl2濃度的在線連續(xù)測量。 對可能出現(xiàn)的Cl2過量現(xiàn)象及時發(fā)現(xiàn)，并做出有效應(yīng)對，大大提高了生產(chǎn)系統(tǒng)的 安全性，降低了能耗。3、 測量下限低，可以測得濃度為ppm級的氯氣。
4、 所述監(jiān)測系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，可靠性高，可自動檢測HCl和Cl2的濃度，工
程維護(hù)量小。
5、 所述監(jiān)測系統(tǒng)的成本較低，運(yùn)行成本很低，只消耗很低的電能。
6、 測量成本低
在檢測氯氣和氯化氫濃度之前，過濾掉取樣氣體中的液態(tài)水和氣態(tài)水，大 大降低了混合氣體的腐蝕性；
加熱取樣氣體，使取樣氣體的溫度高于氣體中水分的露點(diǎn)5(TC以上， 一方 面防止了水蒸氣的冷凝，另一方面也大大降低了取樣氣體的腐蝕性，從而顯著 地延長了檢測裝置的使用壽命。
無需使用各種電解液、清潔水，只需耗費(fèi)很低的電能。


圖1為實(shí)施例1中檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為實(shí)施例2中檢測裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為光譜儀的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下實(shí)施例對本發(fā)明的結(jié)構(gòu)、功能和應(yīng)用等情況做了進(jìn)一步的說明，是本 發(fā)明幾種比較好的應(yīng)用形式，但是本發(fā)明的范圍并不局限在以下的實(shí)施例。
實(shí)施例1:
如圖1所示， 一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置，包括紫外分光光 譜氣體分析儀，以及依次連接的采樣裝置2、預(yù)處理裝置。 取樣裝置2安裝在工藝管道1上。
預(yù)處理裝置包括除水裝置，除水裝置由氣水分離器41-1、氣態(tài)水濾除裝置 41-2 (使用分子篩濾除氣態(tài)水)和儲水裝置42組成，除去取樣氣體中的液態(tài)水 和氣態(tài)水，氣水分離器41-1與儲水裝置42連通。
紫外分光光譜氣體分析儀由光源61、氣體室62、光譜儀63和分析裝置64 組成。光源61的輸出光波長范圍覆蓋185 450nm，光源61和光譜儀63分別通 過光纖與氣體室62相連，光譜儀63和分析裝置64相連。如圖3所示，所述光譜儀63采用光柵63-1進(jìn)行分光，用陣列探測器63-2 進(jìn)行接收。由于HC1和Cl2形成的整個吸收波段很寬，幾乎涵蓋了整個紫外波段。 因此，HC1的二級光譜位置(區(qū)域A)與Cl2的一級光譜位置(區(qū)域A)將存在 部分重疊，即短波長的二級光譜與特定長波長的一級光譜重疊。本發(fā)明對光譜 儀63進(jìn)行消除二級光譜處理，即在光柵63-l之后、陣列探測器63-2之前，在 需要消除的二級光譜位置上安裝二級光譜消除件63-3， 二級光譜消除件63-3可 以采用帶通濾光器件或鍍帶通膜層。
本實(shí)施例還揭示了一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，包括以下步
驟
a、 譜段選擇步驟
根據(jù)PVC生產(chǎn)的具體工況，經(jīng)過詳細(xì)的比對、分析和論證，選擇檢測HC1 用的測量波段i A，該波段為210 230nm;
選擇檢測Cl2用的測量波段i^ ，該波段為280 440nm;
上述選擇的測量波段很好地滿足了 OMA技術(shù)應(yīng)用的需要選擇了新的檢測 HC1用的測量波段，HC1氣體在該波段內(nèi)的吸收率適中，從而使HC1和Cl2的測 量光程設(shè)計為相同；
b、 取樣步驟
開啟采樣裝置2，從工藝管道1中取出待測樣本；
c、 預(yù)處理步驟
由氣水分離器41-1濾除掉待測樣本中的液態(tài)水(也濾掉一些顆粒物)，并儲 存在儲水裝置42中；之后通過氣態(tài)水濾除裝置41-2除去樣氣中的氣態(tài)水；得到 待測樣氣；
通過除水處理大大降低了待測樣氣的腐蝕性，同時也不再生成不明顆粒物， 保證了測量光只被待測樣氣吸收，也降低了腐蝕性；
d、 測量步驟
光源61發(fā)出測量光，測量光的波長范圍覆蓋所述測量波段i A、及丄2; 測量光穿過氣體室62內(nèi)的待測樣氣，測量光經(jīng)吸收后被送往光譜儀63; 測量光在光譜儀63中被光柵63-1分光，經(jīng)所述二級光譜消除件63-3消除二級光譜(范圍從370 440nm)后被陣列探測器63-2接收，獲取一個按波長排 序的連續(xù)紫外光譜能量序列；
通過分析裝置64對此連續(xù)光譜能量序列的處理，獲得待測樣氣的連續(xù)吸收 信息，通過算法從中分離提取出HC1在測量波段i A內(nèi)的吸收、Cl2在測量波段i Z2 內(nèi)的吸收，根據(jù)Beer-lambert定律可得待測樣氣中氯氣和氯化氫的濃度。
得到的氯氣和氯化氫的濃度信號實(shí)時傳送至DCS, —旦發(fā)現(xiàn)氯氣超標(biāo)，可 以通過DCS控制關(guān)閉乙炔輸送閥門，防止爆炸發(fā)生，保證了生產(chǎn)安全。另外可 以通過濃度信號，及時調(diào)整氫氣和氯氣的配比，改善工藝參數(shù)，提高生產(chǎn)效益， 為用戶工藝流程的優(yōu)化提供及時可靠的參數(shù)。
實(shí)施例2:
如圖2所示， 一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置，與實(shí)施例1不同 的是
1、 所述檢測裝置還包括設(shè)置在氣體室62上的加熱裝置65，使氣體室62內(nèi) 待測樣氣的溫度高于待測樣氣中水分的露點(diǎn)5(TC以上。
2、 不再采用所述二級光譜消除件63-3，而是采用軟件算法濾除二級光譜， 具體為
HC1的二級光譜范圍370 500nm與(312的一級光譜范圍280 440nm存在 部分重疊，因此總的吸收光譜可以由下列線性加合數(shù)學(xué)模型表出
y -qx, +c2x2 +e
式中，y為在210nm-230nm以及280nm-440nm波長范圍的總吸收光譜，Xl 和、分別表示Cb和HC1的在上述波長范圍內(nèi)的吸收截面(x,事實(shí)上是沒有消除 二階光譜情況下實(shí)驗(yàn)得到的HC1吸收截面)，e為測量誤差矢量，c,和c,分別為 Cl2和HCl的未知濃度。如果采用矩陣表示，上式可改寫為
y = Xc + c
式中，X = [xl，x2], c = (cpc2)
對未知濃度c的估算可以采用多元線性回歸(MLR)算法，由此得到的解為 c^(X'X)"XV,按該式進(jìn)行矩陣運(yùn)算，即可濾除HCl的二級光譜產(chǎn)生的干擾，計 算出Cl2禾CI HCl的測量濃度q和q。上述方法當(dāng)Cl2禾口 HCl產(chǎn)生吸收為小吸收和光源光譜能量分布不隨時間變化情況下適用。
一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，與實(shí)施例1不同的是-
1、 待測樣氣通入氣體室內(nèi)，加熱裝置65加熱氣體室62內(nèi)的待測樣氣，待 測樣氣的溫度高于水分的露點(diǎn)5(TC以上，保證待測樣氣中殘余的痕量水蒸汽不 會冷凝，防止了氯化氫溶于冷凝水而形成有強(qiáng)烈腐蝕性的鹽酸；同時也大大降 低了待測樣氣的腐蝕性；
2、 采用軟件算法濾除二級光譜，具體請見上面描述。 實(shí)施例3:
一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置，與實(shí)施例2不同的是
加熱裝置設(shè)置在除水裝置和氣體室之間的氣體管路上，加熱通過氣體管路 內(nèi)的氣體，從而使氣體室內(nèi)待測樣氣的溫度高于待測樣氣中水分的露點(diǎn)50'C以 上，保證待測樣氣中殘余的痕量水蒸汽不會冷凝，防止了氯化氫溶于冷凝水而 形成有強(qiáng)烈腐蝕性的鹽酸；同時也大大降低了待測樣氣的腐蝕性。
一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，與實(shí)施例2不同的是
加熱裝置加熱通過氣體管路內(nèi)的氣體，從而使氣體室內(nèi)待測樣氣的溫度高 于待測樣氣中水分的露點(diǎn)50'C以上，保證氣體中殘余的痕量水蒸汽不會冷凝， 防止了氯化氫溶于冷凝水而形成有強(qiáng)烈腐蝕性的鹽酸；同時也大大降低了取樣 氣體的腐蝕性。
上述實(shí)施方式不應(yīng)理解為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。在不脫離本發(fā)明精神
權(quán)利要求
1、一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法，包括以下步驟a、譜段選擇步驟根據(jù)PVC生產(chǎn)的具體工況，選擇檢測HCl用的測量波段RL1，該波段處于紫外/可見波段；選擇檢測Cl2用的測量波段RL2，該波段處于紫外/可見波段；b、取樣步驟從被測環(huán)境中取出待測樣本；c、預(yù)處理步驟對所述待測樣本進(jìn)行除水處理，得到待測樣氣；d、測量步驟光源發(fā)出測量光，測量光的波長范圍覆蓋了所述測量波段RL1和RL2；測量光穿過待測樣氣，測量光經(jīng)吸收后被接收，之后被分光；在分光過程中消除掉HCl的二級光譜；利用比爾-朗伯定律分析測量波段RL1內(nèi)的接收信號，從而得到待測樣氣中HCl的濃度；利用比爾-朗伯定律分析測量波段RL2內(nèi)的接收信號，從而得到待測樣氣中Cl2的濃度。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征是所述測量波段i A處于以 下范圍內(nèi)210 250nm。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的檢測方法，其特征是所述測量波段7 丄2處 于以下范圍內(nèi)270 450nm。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征是待測樣氣被加熱。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢測方法，其特征是待測樣氣的溫度被加熱到 高于待測樣氣中水分的露點(diǎn)5CTC以上。
6、 一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置，包括紫外/可見分光光譜氣 體分析儀、以及依次相連的采樣裝置、除水裝置組成；所述紫外/可見分光光譜氣體分析儀包括紫外/可見光源、氣體室、光譜儀和分析單元，所述檢測裝置還 包括二級光譜消除模塊。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測裝置，其特征是紫外/可見光源的輸出光波 長范圍覆蓋185 450nm。
8、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的檢測裝置，其特征是所述除水裝置包括氣 液分離器、氣態(tài)水濾除裝置。
9、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的檢測裝置，其特征是所述檢測裝置還包括 設(shè)置在氣體室上的加熱裝置。
10、 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的檢測裝置，其特征是所述二級光譜消除 模塊是設(shè)置在光譜儀內(nèi)的二級光譜消除件。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測裝置，包括紫外/可見分光光譜氣體分析儀、以及依次相連的采樣裝置、除水裝置組成；所述紫外/可見分光光譜氣體分析儀包括紫外/可見光源、氣體室、光譜儀和分析單元，所述檢測裝置還包括二級光譜消除模塊。本發(fā)明還公開了一種PVC生產(chǎn)中氯氣和氯化氫的檢測方法。本發(fā)明具有可連續(xù)實(shí)時監(jiān)測、測量精度高、響應(yīng)速度高、成本低等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用在聚氯乙烯的生產(chǎn)工藝中。
文檔編號G01N21/31GK101413882SQ20081016254
公開日2009年4月22日 申請日期2008年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月21日
發(fā)明者霞 李, 陳生龍, 韋俊崢, 韓雙來, 顧海濤 申請人:聚光科技(杭州)有限公司