專利名稱：用于讀取曝光的成像板的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求l的前序部分的用于讀取曝光的成係41/
存儲薄膜(Speicherfolie)的設(shè)備。
背景技術(shù)：
膝光的成傳教以局部受激的亞穩(wěn)定受激態(tài)色心的形式包含潛藏的X射
線圖像，通過將成像板放在處于x射線源產(chǎn)生的x射線中的對象后面而得 到該x射線圖像。
所述潛像通過用小直徑的讀取光束逐點掃描成像板來讀取。讀取光的 波長選擇成，使得該讀取光將亞穩(wěn)態(tài)受激中心激勵到在熒光下迅速衰變的 較高電子狀態(tài)。
這樣發(fā)出的熒光由檢測設(shè)備測量，該檢測設(shè)備例如可包含作為光敏元 件的光電倍增器。然后可以由檢測設(shè)備的電輸出信號和反映讀取光束瞬時 位置的電信號得到所述對象的由電信號表示的透射圖像。
與常規(guī)的x射線膠片相比，成像板的優(yōu)點在于，成像板可以經(jīng)常重復
利用。因為在讀取過程中由于僅通過讀取光束局部的短暫照射而使中心仍 保留一些受激電子狀態(tài)，所以在進行新的拍撒記錄之前需要通過擦除光強
烈地和長時間地照射成像板來可靠地擦除該成像板。否則，在下一個X射 線圖像上可能顯現(xiàn)出之前一個X射線圖像的陰影。
迄今為止用于成#41的擦除設(shè)備是一些分離的儀器，成^^在離開讀 取設(shè)備后便被送入所述儀器內(nèi)?？紤]到成像板的成本高以及在醫(yī)院和類似
的機構(gòu)中使用的x射線照片的數(shù)量大，如能在潛像被讀取后盡快地再次使
用成像板，則是有利的。

發(fā)明內(nèi)容
為了實現(xiàn)所述目的，通過本發(fā)明提供一種用于讀取曝光的成像板的設(shè) 備，利用該設(shè)備基本上在讀取的同時擦除在讀取后保留的潛像殘留。在權(quán) 利要求1中說明了這種設(shè)備的特征。
本發(fā)明的有利的改進結(jié)構(gòu)是從屬權(quán)利要求的主題。
本發(fā)明的根據(jù)權(quán)利要求2的改進結(jié)構(gòu)實現(xiàn)了在擋光板沿成像板輸送方 向尺寸小的情況下得到非?？煽康呐c讀取頭的光隔離。這種沿成傳教輸送 方向的小尺寸之所以有利，是因為這樣就可以將擦除頭設(shè)置得非常接近讀 取頭。因此，與只用于讀取成像板所需要的時間相比，在所述設(shè)備內(nèi)用于 讀取和擦除所需要的總時間僅#增大。
在擦除潛像殘留時，在擦除頭內(nèi)還產(chǎn)生熒光。本發(fā)明的根據(jù)權(quán)利要求 3的改進結(jié)構(gòu)保證，擦除光以及熒光都不會從擦除頭區(qū)域進入到讀取頭區(qū) 域，在該讀取頭處擦除光可能會干擾下一個圖像區(qū)的讀取。
對于如在權(quán)利要求4中所述的擋光板，得到薄的吸收空間，它背離成 4沐的輸送面延伸，薄板的朝向成像板的自由邊^(qū)f艮小，因此反射很小。
本發(fā)明的根據(jù)權(quán)利要求5的改進結(jié)構(gòu)進一步減小了在薄板自由邊緣上 的反射。
在權(quán)利要求6中所述的擋光板可通過由兩種不同類型薄板形成一疊層 (Stapel)來非常方便地制造。
本發(fā)明的按照權(quán)利要求7的改進結(jié)構(gòu)保證，盡管設(shè)計成吸收式的薄板 表面(例如用黑漆涂覆的表面)仍然反射少許光，但通過在薄板之間的扁 平空腔(Tasche)的深度總體上保證良好的吸收。
對于按照權(quán)利要求8設(shè)計的擋光板，可以給位于薄板之間的扁平空腔 供給冷卻氣體，因此使在吸收光時產(chǎn)生的熱量很好地消散。這樣還可以防 止污物如灰塵沉積在這些扁平空腔內(nèi)，這些污物隨著時間的推移可能形成 光反射中心。
按照權(quán)利要求9，可以通過僅采用一種類型的薄板、以非常簡單的方式制造薄板疊層。
根據(jù)權(quán)利要求IO，保證薄板不會相對于彼此傾斜，并且可以以可生產(chǎn)
的以及可靠的方式前后疊放。
本發(fā)明的按照權(quán)利要求11的改進結(jié)構(gòu)在擋光板很好的散熱方面是有 利的。
在權(quán)利要求12中所述的擋光板在很多情況下是滿足要求的。該擋光板 可特別經(jīng)濟和方l更地制造。
按照權(quán)利要求13的改進結(jié)構(gòu)實現(xiàn)，當擋光板的絨面設(shè)置成距離成#^ 軌跡特別近時，絨圏(Florschlinge)端部的任何偶然接觸都不會在板表面 上留下劃痕。
本發(fā)明的按照權(quán)利要求14的改進結(jié)構(gòu)在盡可能完全地吸收擦除光和 熒光方面是有利的。
如果按照權(quán)利要求15處理各絨纖維，則可在較大程度上消除纖維表面 的殘余反射。
同樣也適用于按照權(quán)利要求16的纖維材料。
按照權(quán)利要求17的擦除光源的優(yōu)點是發(fā)熱少。
按照權(quán)利要求18的擦除光源的優(yōu)點是能量消耗少、尺寸緊湊以及壽命長。
按照權(quán)利要求19和20的改進結(jié)構(gòu)保證成像板被均勻擦除。


下面基于實施例參照附圖詳細說明本發(fā)明。附圖中示出
圖1示出用于讀取和同時擦除成^41光敏層的組合設(shè)備的示意性側(cè)視
圖2示出設(shè)置在按照圖1的組合設(shè)備的擦除頭和讀取頭之間的擋光板 的軸向剖^L圖3示出用于構(gòu)造按照圖2的擋光板的第一種環(huán)形薄板的放大俯視圖； 圖4示出用于構(gòu)造按照圖2的擋光板的第二種環(huán)形薄板的俯視圖；圖5示出另一種改型的環(huán)形薄板的俯視圖，由該薄板可制造(彼此)
隔開的屏蔽薄板的疊層；
圖6示出改型的擋光板的軸向剖視圖； 圖7示出吸收式紡線的橫剖視圖8示出LED擦除光源及其驅(qū)動裝置的局部剖開的側(cè)視圖； 圖9示出一種改型的平板掃描儀式的讀取設(shè)備的側(cè)視圖。
具體實施例方式
在圖1中，用IO總體表示用于讀取和擦除曝光的成像板的組合設(shè)備。 該設(shè)備包括一總體用12表示的讀取單元和一總體用14表示的擦除單元。
讀取單元12包括一筒狀的保持臺/夾緊臺16和三個圍繞該保持臺周向 分布的帶式傳送器18，這些傳送器18相互機械式聯(lián)接并與一電機20的輸 出軸相連接。電機20又與一位置傳感器(Stelhmgsgeber) 22相連接。該 位置傳感器在導線24上提供輸出信號。
保持臺16具有一沿周向方向延伸的環(huán)形間隙26，環(huán)形的讀取光束28 通過該環(huán)形間隙發(fā)出。這里，該讀取光束是指其波長適合于進一步激勵成 像板的亞穩(wěn)態(tài)受激中心的激光。讀取頭的細節(jié)參見WO 01/18796 Al,其內(nèi) 容應(yīng)該視為本申請的一部分。
在附圖中，用30表示曝光的成傳教，該成傳教以光敏層向下的方式設(shè) 置在保持臺16上。在這里，該成像板通過三個沿周向分布的帶式傳送器 18保持成筒狀的幾何形狀。同時，帶式傳送器18使成1象板30在圖1中向 右運動并經(jīng)過環(huán)形間隙26。這時，潛像的恰好位于環(huán)形間隙上的像點/l象素 由環(huán)形光束28讀取。
讀取單元12通過導線32獲得用于為包含于其中的各種負載供電的工 作電壓，并通過導線34輸出與讀取光束28的瞬時角度位置相對應(yīng)的電信 號，而通過導線36輸出包含于其中的光電倍增器的輸出信號。
與電機20聯(lián)接的位置傳感器22發(fā)出與成像板30相對于環(huán)形間隙26 的位置相對應(yīng)的輸出信號?？梢杂墒┘釉趯Ь€24、 34和36上的電信號產(chǎn)生X射線潛像的電子圖 像，如WO 01/19796 Al中所詳細說明的那樣。擦除單元14具有一沿周向延伸的、用于擦除光的、寬的透明發(fā)射窗 40，該發(fā)射窗的外表面是保持臺42平滑的延續(xù)。帶式傳送器44環(huán)繞保持 臺42分布設(shè)置，這些帶式傳送器44相互間以及與帶式傳送器18機械地相 聯(lián)接。從環(huán)形發(fā)射窗40射出環(huán)形擦除光簾。因為擦除光同時作用在成^^的 沿周向方向位于掃描線上的所有點上，由于時間因子H象素與掃描線之比) 而在擦除單元14內(nèi)得到比在讀取單元的環(huán)形間隙26上更強的照度。此夕卜， 擦除光也可以選擇成較寬帶的，并可由一不相干的光源產(chǎn)生。熒光燈48可以是一暖色調(diào)的發(fā)光材料管。用這種熒光燈可以達到 50000 lx的照度。如果希望在短時間內(nèi)與讀取成^41同步地實現(xiàn)擦除，則 需要約500000 lx s的光量(Lichtmenge)來擦除成像板。如果在具有共用輸送裝置的讀取擦除組合設(shè)備內(nèi)進行讀取和擦除，所 述輸送裝置使成像板穿過讀取單元和擦除單元，則擦除時間基本上是讀取 時間與跨越讀取單元與擦除單元之間的距離所需要的時間之和。用于讀取成傳教的時間由磷感屏/成像發(fā)光材料的余輝持續(xù)時間決定。 如果成像板的光敏層包含BaFBr: Eu材料作為磷感屏，則在用于讀取的激 光照射后余輝持續(xù)時間為880ns。由此得到對于應(yīng)用在口腔內(nèi)的成像板的 讀取持續(xù)時間的量級為10s。發(fā)光材料管之所以適合于作為擦除單元14的光源，是因為它具有高的 能量效率。這種發(fā)光材料管的優(yōu)點還有，該發(fā)光材料管發(fā)熱很少，因此成 i綠在擦除時不會由于熱作用而損壞。為了排除在熒光燈48光i脊中對于擦除無用的成分，可以在該熒光燈的 周圍設(shè)置起光學截止濾光片/過濾器作用的塑料薄膜。選擇該塑料薄膜使得 僅允許用于擦除所希望的、波長超過480nm的光鐠成分透過。在這里考察的實施例中，代替這種塑料薄膜，發(fā)射窗40由一種具有合 適的過濾性能的透明材料制造。因為在讀取單元的光電檢測器前方設(shè)置一用于熒光的藍色濾光片，該藍色濾光片僅允許約450nm以下的波長通過，所以這種截止濾光片對于在 擦除單元與讀取單元之間的附加擋光板是有利的。該藍色濾光片阻擋擦除 光。因為發(fā)射窗40的軸向尺寸顯著大于環(huán)形間隙26的軸向尺寸或讀取光 束28的直徑，因此保證4艮好地擦除了在讀取時仍未去活性的成像/存儲中 心(Speicherzentrum )。在實踐中，由于所述原因發(fā)射窗40的軸向尺寸大約是環(huán)形間隙26的 尺寸的20至100倍就完全足夠了 。在移動通過發(fā)射窗40的過程中，在讀取時未去活性的成像中心被擦 除，當成像板30完全通itiL射窗40后，該成像板便可直接用于新的X射 線曝光。為了避免穿it^C射窗40射出的擦除光(和在擦除時產(chǎn)生的熒光)返回 讀取單元12 — _在該讀取單元處，這些光可能會干擾后續(xù)圖像區(qū)的讀 取一一在讀取單元12與擦除單元14之間設(shè)置一環(huán)形擋光板46。為便于表示，在圖中以在成^Nl輸送方向上比實際應(yīng)用中大得多的尺 寸來表示擋光板46。在實際的實施例中，擋光板46選擇成在板輸送方向 上剛好具有為擋光板足夠的效率所需的長度。發(fā)射窗40可被移動至距離環(huán)形間隙26越近，讀取和擦除所需的總時 間與純粹的讀取所需的時間的差別就越小。圖2示出擦除設(shè)備的實際實施例，其中擋光板連接在前面。在^L計成環(huán)形玻璃體或塑料體的發(fā)射窗44后面設(shè)有一環(huán)形熒光燈48。 在該熒光燈后面設(shè)有一環(huán)面形的拋物面鏡50，該拋物面鏡由一旋轉(zhuǎn)對稱的 鏡體52的粗糙/未拋光的表面構(gòu)成。該鏡體52被齊平地插入讀取單元12 和擦除單元14的保持臺16和42端部內(nèi)。擋光板46包括一殼體54,該殼體54在存在徑向間隙的情況下包圍一 筒狀薄板組件56，使得在該薄板組件外面得到一與冷卻氣體供給管路60 相連接的環(huán)形室58。薄板組件56包括交替地相鄰疊放的第一 (組)薄板片62和第二 (組) 薄板片64。所述薄板片具有相同的外徑，但內(nèi)徑差別很大，因此在各薄板 62與64之間得到軸向扁平的環(huán)形空腔66，該環(huán)形空腔66徑向尺寸大于軸 向尺寸。板片62、 64被涂黑或以其它的方式配備有吸收由熒光燈48發(fā)出的 擦除光還有尤其是熒光的表面。圖3和圖4中詳細示出了這兩種薄板組62、 64。具有較小徑向?qū)挾鹊谋“迤謩e在其周向上的一位置處斷開，如在所 示的68處。這樣可以在冷卻氣體通入環(huán)形室58時使冷卻氣體從空腔66 的底部流向其開口端。擋光板46起吸收被支持臺16的表面或成傳教反射的光的作用。但是即使染黑的或染成其它吸光顏色的表面仍有一定的殘留反射。因 此，通過使第一薄板片62僅具有非常小的軸向尺寸，從而將環(huán)形開口的位 于徑向內(nèi)側(cè)的表面保持得很小。通常這些薄板可以由類似于剃刀片的材料 制成，亦即只有0.1mm厚。為了進一步減小端面尺寸，如在圖3中的70處所示，可以將薄板62 的內(nèi)邊緣磨銳成類似于切削刃，其中在薄板疊層內(nèi)，磨銳部70的成角度的 一側(cè)朝向擦除單元14。或者，如果薄板如圖5中所示地設(shè)有突起部分，則薄板組件56也可以 由相同類型的薄板構(gòu)成。在這種情況下，在如圖3中所示的薄板片62上軸 向地壓出圓形區(qū)域72。這些壓出部也可以具有大于薄板片62的厚度的軸向尺寸，因此得到具 有較大軸向尺寸的空腔66。在薄板片62和64厚度相同的根據(jù)圖4的實施 例中，壓出的圓形區(qū)域72的軸向尺寸也可以選擇成基本上與薄板62的厚 度相同，這樣便得到如圖2所示的薄板組件56,唯一的區(qū)別在于，除周向 上的較小中斷外，空腔66與環(huán)形室58連續(xù)地相連接。由此實現(xiàn)了所有薄 板在周向上非常均勻的冷卻。當然，以這樣的方式疊放按照圖5的薄板片以形成薄板組件56,即，使薄板片的壓出區(qū)72相互錯開45。。如果希望，也可在支持臺16的內(nèi)側(cè)設(shè)置上述類型的擋光板，如在74 處以虛線所示。薄板片62內(nèi)邊緣的徑向位置(以及相應(yīng)地在擋光板74內(nèi)的類似薄板 片的外邊緣半徑)選擇成，既使所述薄板片盡可能接近于經(jīng)過的成m 30 的外側(cè)，又可靠地避免(二者)直接接觸。在實踐中，各薄板片62的內(nèi)邊緣(或擋光板74的薄板片的外邊緣) 之間的間隔可與成像板30的相鄰表面的距離為0.1至0.5mm。這樣，擋光 板44非接觸地工作，盡管如此仍通過深的吸光腔66確保光線不會從擦除 單元14到達讀取單元12。替代具有如上所述的薄板組件56的擋光板46，也可以采用按照圖6 的制造成^f艮低的擋光板46。在套筒狀殼體54的內(nèi)側(cè)上直接施加一層絨圏織物76。該絨圏織物包 括織物層78和多個由該織物層支承的絨圏80組成。絨圏80的高度選擇成，使它們與經(jīng)過的成像板的相鄰頂面之間僅具有 很小的距離。因為絨圏80是封閉的，所以它們不具有由于纖維的切斷而形成的鋒利 邊緣，這些鋒利邊緣在成像板經(jīng)常經(jīng)過的情況下可能在所述成^41上產(chǎn)生 劃痕或磨損痕跡。如圖可見，絨圏80緊密地靠攏以使各絨圏克服重力作用而相互穩(wěn)定。 因此，各絨圏在殼體54內(nèi)表面的整個圓周上保持基本上徑向?qū)R。絨圏80由整體(im Volumen)染色的柔性材料制成。這里，可考慮 用特別細的炭黑微粒和黑色的塑料微粒作為顏料，如這種微粒例如應(yīng)用在 調(diào)色劑粉末中。另外，為了避免在纖維表面上的反射而使所述纖維表面粗糙，這可以 用在塑料薄膜處理中已知的方式通過化學腐蝕或氣體放電(Gasentladung) 處理來進行?；蛘?，如圖7所示，也可以采用絲線材料82來制造絨圏，該絲線材料1282具有熱塑性芯線和牢固熔接于其上的黑色吸光顆粒86。這種絲線材料例 如可以通過這樣的方法產(chǎn)生，即牽拉該絲線通過由吸光顆粒組成的高溫粉 末床，并在該處理后吹凈未牢固結(jié)合的吸光顆粒86。代替熒光燈48，也可以采用其光線只有很少的藍光和紫外線成分的其 它光源，例如其玻璃管涂有紅色發(fā)光材料的熒光燈。為了能夠?qū)崿F(xiàn)更短的擦除時間，也可以采用棒狀鹵素燈。該卣素燈的 發(fā)射體(燈絲)的面消耗更高的功率并具有更高的發(fā)光強度。擦除單元14的包圍光源的壁優(yōu)選地涂覆有非常好地反射擦除光的材 料，這種材料進行漫反射。例如白色或黃色泡末材料、白色聚四氟乙烯或 良好拋光的鋁板是非常適合的。特別好的反射層由BaS04材料，特別是摻 入黃色顏料的這種材料構(gòu)成?？梢杂眠@種材料涂覆任何壁材料。除了上述的常規(guī)光源外，固體光源(LED)也適合于擦除成像板。目 前，這種光源僅可作為尺寸較小的、*的單個元件獲得。如圖8中所示， 為了使整個環(huán)形發(fā)射窗40充滿環(huán)形光簾，代替熒光燈48采用環(huán)形LED光 源48，。在支承環(huán)88外側(cè)上設(shè)置沿周向均勻分布的發(fā)光二極管90，這些發(fā)光 二極管的工作波長超過480nm (通常為630nm )，因此它們的光適合于擦 除，而對于成像板的讀取沒有不利影響。考慮到發(fā)射窗發(fā)光的均勻性，優(yōu)選設(shè)置軸向相間隔的兩圏發(fā)光二極管 90，其中各發(fā)光二極管相互錯開半個間距/分度。當然，發(fā)光二極管以合適的距離這樣放置在發(fā)射窗口 40后面，使由所 述發(fā)光二極管發(fā)出的光錐恰好與發(fā)射窗口 40的外表面重疊。為了使發(fā)射窗口 40的照射更均勻，發(fā)射窗口 40可以是粗糙的，和/ 或也可為支承環(huán)88設(shè)置內(nèi)齒并可通過小齒輪92使之轉(zhuǎn)動，使得強度分布 在周向上的殘余波動會由于時間上的平均(zeitliche Mittelung)而降低。 因此，保證了在穿過擦除單元14時良好地、均勻地擦除成像板30。如果要在擦除單元14中擦除尺寸差別很大的成像板，也可以將發(fā)光二 極管90沿周向分成組，每次只起動共同覆蓋成像板10的寬度的那些組來進行擦除。為了改進散熱性，與發(fā)光二極管90—樣，支承環(huán)88也可以由導熱性 好的材料，例如鋁制成。如有必要，支承環(huán)88也可以通過空氣入流或通過 在內(nèi)部冷卻劑通道內(nèi)循環(huán)的液態(tài)冷卻劑來冷卻。如果掃描儀是平面圖像掃描儀，那么(在需要時，除上述使用的遮蔽 措施外)可通過在彼此間隔的、優(yōu)選彼此平行的平面中將成像板導引到讀 取單元前方來為讀取單元12遮蔽擦除光。在圖9中示出這種實施例。讀取和擦BH殳備的與上述實施例中的零件 功能相同的零件也設(shè)置有相同的附圖標記，不需要再在下面對其進行詳細 說明。在圖9中所示的讀取和擦BH殳備10是平面圖像掃描儀。因此成^^ 30以平面的構(gòu)型穿過讀取單元12。在讀取單元12后面設(shè)置三個輥子96、 98、 100，所述輥子使成像板30 從適用于讀取單元12的第一輸送平面Fl偏移到適用于擦除單元14的、 向上間隔開的第二個平行輸送平面F2。通過輸送路徑中的這個臺階，由擦除單元14發(fā)出的在泄漏絲線處到達 外界的擦除光不到達讀取單元12。輥子96至100在成像板30整個寬度上 延伸，此外輥子96、 98、 100還附加地形成實際上無間距地與成傳教30 相接合的隔離光的屏蔽。眾所周知，寬帶的擦除光源如熒光燈、卣素燈或氙燈都經(jīng)受老化過程， 該過程使發(fā)光量減小。對于窄帶擦除光源如LEDs也會出現(xiàn)隨著運行時間 的加長而發(fā)出的光通量下降的情況。為了解決這個問題，如圖9中所示，可在擦除單元14內(nèi)設(shè)置光電二極 管102或其它光敏元件，該元件的輸出信號根據(jù)由燈產(chǎn)生的光通量的變化 而改變。這樣，可以利用光電二極管102的輸出信號，來增加光源的工作 電流從而使所發(fā)射的光通量不變，或者來減小成像板30在擦除單元14的 區(qū)域中的傳送速度，從而即使在光通量減小的情況下也得到相同的照射量。在采用窄帶擦除光源的情況下，可以使峰值波長與發(fā)光材料的F中心的吸收峰值波長相匹配，以特別有效地擦除殘留圖像。在上述實施例的一種改型方案中，通過采用光學元件(反光鏡、透鏡) 可將擦除燈的角度范圍限制在成4綠經(jīng)過擦除單元的空間區(qū)域內(nèi)。這樣便 提高了擦除光的強度，相應(yīng)地也可以縮短擦除時間。
權(quán)利要求
1.一種用于讀取曝光的成像板(30)的設(shè)備，該設(shè)備包括保持裝置(16，42)、讀取單元(12)以及驅(qū)動裝置(18，44)，其中所述保持裝置用于以規(guī)定的幾何形狀保持待讀取的成像板(30)，所述讀取單元產(chǎn)生沿第一掃描方向移動的讀取光束(28)以及具有用于檢測由讀取光束在成像板(30)中釋放出的熒光的檢測元件，所述驅(qū)動裝置用于在與第一掃描方向不同的第二掃描方向上產(chǎn)生在成像板(30)與讀取單元(12)之間的相對運動，其特征在于，沿第二掃描方向在讀取單元(12)后面并與該讀取單元對齊地設(shè)置擦除單元(14)，驅(qū)動裝置(18，44)設(shè)計成使得該驅(qū)動裝置也延伸經(jīng)過擦除單元(14)，以及在讀取單元(12)與擦除單元(14)之間設(shè)置有擋光板(44，46，74)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述擋光板(46)具 有并行地、間隔地設(shè)置的吸收擦除光的薄板(62)的組件(56),所述薄 板(62)的朝向成像板(30)的邊緣與成像板(30)的軌i^目間隔。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述薄板(62 )也吸 收熒光。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備，其特征在于，所述薄板(62) 中的至少幾個的朝向成l象板(30)的邊緣之間的間隙約為0.05至0.2mm, 優(yōu)選為約O.lmm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述薄 板(62)中的至少幾個的朝向成像板(30)的軌跡的邊緣被磨銳(70)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，位于所 述薄板(62)之間的第二薄板(64)使所述薄板(62)相間隔，所述第二 薄板(64)的面向成像板(30)的邊緣到成像板(30)的距離比第一薄板(62)的相應(yīng)邊緣大。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述第二薄板的自由 邊緣與成像板軌跡之間的間距至少是第一薄板(62)的自由邊緣與成像板(30)的軌跡之間的距離的IO倍，優(yōu)選是50至200倍。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的設(shè)備，其特征在于，第二薄板(64 ) 具有與冷卻氣體分配室(58)相連通的中斷部(68)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述薄 板(62)具有從其平面中壓出的區(qū)域(72),通過這些區(qū)域(72)使所述 薄板(62)相互間隔。
10. 才艮據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，所述薄板(62)在周 向上對稱地設(shè)置有從其平面中壓出的區(qū)域(72)，相鄰薄板(62)的壓出 的區(qū)域(72)相互錯開。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，薄板組 件(56)的周向表面與用于冷卻氣體的分配室(58)相連通。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述擋光板(46)包 括由吸光的紡織材料構(gòu)成的絨面(80)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述絨面(80)是一 種絨圏。
14. 根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的設(shè)備，其特征在于，所述絨面(80) 由整體吸光的材料制成。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，所述吸光材料在外側(cè) 上是粗糙的。
16. 根據(jù)權(quán)利要求12至15中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述 紡織材料(82)的外表面具有吸光顆粒(86)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1至16中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，擦除單 元(14)的光源包括熒光燈(48)，特別是發(fā)暖色光的或涂覆有發(fā)紅光材 料的熒光燈。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1至16中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，擦除單 元(14)的光源具有多個相間隔的發(fā)光二極管(90)，使得所述發(fā)光二極 管(卯)的光錐與所g的表面重疊。
19. 根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)光二極管(90 )排成沿成像板(10)的輸送方向相間隔的多個行，相鄰行的二極管相互錯開。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18或19所述的設(shè)備，其特征在于，所述發(fā)光二極 管(卯)安裝在支承體(88)上，該支承體(88)沿垂直于成像板輸送方 向的方向-皮驅(qū)動(92、 94)。
21. 根據(jù)權(quán)利要求1至20中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，在讀取 單元(12 )和擦除單元(14 )之間的區(qū)域內(nèi)設(shè)置有導向單元(96、 98、 100 )， 該導向單元在成像板(30)的輸送路徑中預先設(shè)定臺階。
22. 根據(jù)權(quán)利要求1至21中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè) 備具有被施加擦除光的光敏元件(102)。
23. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的設(shè)備，其特征在于，設(shè)有用于調(diào)節(jié)由擦除 光源(48 )發(fā)射的光通量的裝置，該裝置根據(jù)被施加擦除光的光敏元件(102 ) 的輸出信號工作。
24. 根據(jù)權(quán)利要求1至23中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，光源(48 ) 的光鐠特別是峰值波長被調(diào)整到成^41 (30 )的成像中心的吸收最大值上。
25. 根據(jù)權(quán)利要求1至24中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，設(shè)有用 于使擦除單元(14)發(fā)出的擦除光匯集在成像板(30)從擦除單元(14) 旁經(jīng)過的各區(qū)域上的裝置。
26. 根據(jù)權(quán)利要求1至25中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述擦 除單元(14)的包圍擦除光源(48)的壁設(shè)計成漫反射式的。
27. 根據(jù)權(quán)利要求1至26中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述擦 除單元(14)的包圍擦除光源(48)的壁配備有良好地反射擦除光的涂層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于讀取和擦除成像板(30)的組合設(shè)備(10)，該設(shè)備包括一設(shè)置在讀取單元(12)下游很小距離處的擦除單元(14)，所述擦除單元通過一擋光板(46)與所述讀取單元(12)隔開。
文檔編號G01T1/00GK101317131SQ200680044219
公開日2008年12月3日 申請日期2006年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月27日
發(fā)明者M·湯姆斯 申請人:杜爾牙科器械兩合公司