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一種內(nèi)齒圈及構(gòu)成該內(nèi)齒圈的單元齒的制作方法

文檔序號:12243725閱讀:408來源:國知局
一種內(nèi)齒圈及構(gòu)成該內(nèi)齒圈的單元齒的制作方法與工藝

本實用新型涉及超細粉末加工領(lǐng)域,尤指一種內(nèi)齒圈及構(gòu)成該內(nèi)齒圈的單元齒。



背景技術(shù):

在超細粉末加工領(lǐng)域中,利用物理方法加工超細粉末的設(shè)備,如機械沖擊粉碎機、風扇磨、攪拌磨、膠體磨以及渦輪粉碎機等,都包含有靜子和轉(zhuǎn)子部分,利用兩者的相對運動,以研磨之間的物料。

不同型式、不同型號粉磨機的靜子部分結(jié)構(gòu)也不同,常見的型式為內(nèi)齒圈結(jié)構(gòu)(見圖1所示),一般為整體加工而成的內(nèi)齒圈,內(nèi)齒圈嵌入到其他部件的套筒內(nèi)(見圖2所示)。

首先,制作上述內(nèi)齒圈的毛胚料直徑大于內(nèi)齒圈的外直徑,通過機械加工,如線切割,將中間部分去除,形成內(nèi)齒圈結(jié)構(gòu),中間取出的部分占整個毛胚料質(zhì)量的大部分,另外,幾何尺寸也較大,因此,材料成本高。

其次,在使用過程中,內(nèi)齒圈受到物料的強高頻度激烈沖擊,產(chǎn)生磨損,會導(dǎo)致齒的破損,但是,每個齒的磨損程度是不均勻的,有些磨損嚴重,已經(jīng)無法使用,需要更換,而有的還可以繼續(xù)使用。但對于上述一體化的內(nèi)齒圈,當某些齒已損壞,達到影響整體性能,需要更換時,即使其余齒還可以繼續(xù)使用,也必須更換整個內(nèi)齒圈,顯然,上述內(nèi)齒圈的使用壽命低,備件成本高。

為解決此問題,需要對內(nèi)齒圈的齒表面進行耐磨性處理,采用噴涂、焊接、熱處理等工藝。而對于一體化設(shè)計的內(nèi)齒圈,由于幾何形狀所限,處理工藝比較復(fù)雜,甚至無法實施。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型的目的是提供一種內(nèi)齒圈,能夠降低加工處理難度,降低生產(chǎn)成本。

本實用新型的另一目的是提供一種構(gòu)成前述內(nèi)齒圈的單元齒,能夠降低加工成本,提高零件的互換性,且較容易地在齒面上實施耐磨措施。

本實用新型提供的技術(shù)方案如下:

一種內(nèi)齒圈,包括:

所述內(nèi)齒圈由多個單元齒拼接構(gòu)成;

每個所述單元齒包括頂面和齒尖面,以及連接所述頂面和所述齒尖面的兩相對的接觸面;

所述兩相對的接觸面分別為第一接觸面和第二接觸面,相鄰所述單元齒的所述第一接觸面與所述第二接觸面互相吻合,且使得每個所述單元齒的所述頂面連接構(gòu)成所述內(nèi)齒圈的外側(cè)面。

優(yōu)選地,所述第一接觸面和所述第二接觸面均為弧形面。

優(yōu)選地,所述第一接觸面和所述第二接觸面均由多個平面拼接構(gòu)成的組合面。

優(yōu)選地,所述頂面為弧形面。

本實用新型還提供了一種構(gòu)成前述內(nèi)齒圈的單元齒,包括:

頂面和齒尖面,以及連接所述頂面和所述齒尖面的兩相對的接觸面;

所述兩相對的接觸面分別為第一接觸面和第二接觸面;

所述齒尖面包括第一齒尖面和第二齒尖面,所述第一齒尖面和所述第二齒尖面互成尖角;

其中,所述第一接觸面的底端與所述第一齒尖面的頂端連接,所述第一接觸面的頂端與所述頂面的邊緣連接;所述第二接觸面的底端與所述第二齒尖面的頂端連接,所述第二接觸面的頂端與所述頂面的邊緣連接。

優(yōu)選地,所述第一接觸面包括第一平面和第二平面,所述第一平面和所述第二平面拼接構(gòu)成第一夾角;

所述第二接觸面包括第三平面和第四平面,所述第三平面和所述第四平面拼接構(gòu)成第二夾角。

優(yōu)選地,所述第一夾角為位于所述單元齒外的所述第一平面與所述第二平面之間的夾角;

所述第二夾角為位于所述單元齒外的所述第三平面與所述第四平面之間的夾角;

所述第一夾角與所述第二夾角的角度之和為360°。

優(yōu)選地,還包括一對側(cè)壁,分別為第一側(cè)壁和第二側(cè)壁;

所述第一側(cè)壁的邊緣與所述第一接觸面、所述第二接觸面、所述第一齒尖面、所述第二齒尖面的一側(cè)連接;

所述第二側(cè)壁的邊緣與所述第一接觸面、所述第二接觸面、所述第一齒尖面、所述第二齒尖面的另一側(cè)連接;

所述第一側(cè)壁、所述第二側(cè)壁、所述第一接觸面、所述第二接觸面、所述第一齒尖面、所述第二齒尖面,以及所述頂面圍設(shè)成所述單元齒。

優(yōu)選地,所述第一齒尖面和所述第二齒尖面互成尖角度為60-120°。

優(yōu)選地,所述單元齒的表面附著有耐磨層。

通過本實用新型提供的一種內(nèi)齒圈及構(gòu)成該內(nèi)齒圈的單元齒,能夠帶來以下至少一種有益效果:

1、能夠?qū)⒄麄€內(nèi)齒圈的加工,改進成對每個單元齒的加工,可以有效地減少原材料的浪費。

2、能夠通過多個單元齒拼接構(gòu)成一個完整的內(nèi)齒圈,且每個單元齒具有互換性,避免由于某個單元齒磨損嚴重,需要更換整個內(nèi)齒圈,這樣當內(nèi)齒圈使用一端時間后,如有單元齒磨損嚴重,僅需更換損壞的單元齒即可,可以降 低齒圈的使用成本。

3、單元齒的表面采取附著耐磨層的措施。由于耐磨層多為復(fù)合材料制成,其表面光滑,與物料間的摩擦力小,從而減小研磨部件與物料之間的摩擦力,大大降低耐磨層的磨損,并增大了正面的撞擊力,能夠有效提高研磨效果,更優(yōu)的是與整體內(nèi)齒圈相比,較容易地在齒面上實施耐磨措施。

4、相鄰單元齒之間的接合面均由弧形面或由多個平面拼接構(gòu)成具有一定角度的組合面,當多個單元齒拼裝在一起,組成一個齒圈時,每個單元齒均受到兩側(cè)相鄰單元齒的約束力,同時由于整個內(nèi)齒圈會受到所嵌入的其他零件套筒的約束,這樣使得每個單元齒即使受到重力等作用,也無法從內(nèi)齒圈中脫出,保證了齒圈工作時的可靠性,提高了裝配的穩(wěn)定性。

附圖說明

下面將以明確易懂的方式,結(jié)合附圖說明優(yōu)選實施方式,對一種內(nèi)齒圈及構(gòu)成該內(nèi)齒圈的單元齒的上述特性、技術(shù)特征、優(yōu)點及其實現(xiàn)方式予以進一步說明。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中內(nèi)齒圈的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是現(xiàn)有技術(shù)中內(nèi)齒圈的使用狀態(tài)示意圖;

圖3是本實用新型內(nèi)齒圈的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4是本實用新型中構(gòu)成內(nèi)齒圈的一種單元齒的立體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5是本實用新型中構(gòu)成內(nèi)齒圈的一種單元齒的主視圖;

附圖標號說明:

第一夾角A;第二夾角B;尖角C;

齒尖面100;第一齒尖面101;第二齒尖面102;

第一接觸面200;第一平面201;第二平面202;

第二接觸面300;第三平面301;第四平面302;

第一側(cè)壁400;頂面401;

內(nèi)齒圈500,外側(cè)面501。

具體實施方式

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對照附圖說明本實用新型的具體實施方式。顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖,并獲得其他的實施方式。

為使圖面簡潔,各圖中只示意性地表示出了與本實用新型相關(guān)的部分,它們并不代表其作為產(chǎn)品的實際結(jié)構(gòu)。另外,以使圖面簡潔便于理解,在有些圖中具有相同結(jié)構(gòu)或功能的部件,僅示意性地繪示了其中的一個,或僅標出了其中的一個。在本文中,“一個”不僅表示“僅此一個”,也可以表示“多于一個”的情形。

本實用新型的一種內(nèi)齒圈的實施例一中,參看圖3所示,內(nèi)齒圈500由多個單元齒拼接構(gòu)成,且每個單元齒包括了頂面401和齒尖面100,以及連接頂面401和齒尖面100的兩相對的接觸面。其中,兩相對面的接觸面分別為第一接觸面200和第二接觸面300,實際拼接時,相鄰單元齒的第一接觸面200與第二接觸面300互相吻合,使得相鄰單元齒之間產(chǎn)生一定的約束,同時將整個內(nèi)齒圈500嵌入其他的零件套筒內(nèi)時,整個內(nèi)齒圈500會受到所嵌入的其他零件套筒的約束,這樣能夠保證每個單元齒即使受到重力作用,也無法從內(nèi)齒圈500中脫出,保證了齒圈工作時的可靠性,以及裝配的穩(wěn)定性。同時使得每個單元齒的頂面401相互連接,并構(gòu)成內(nèi)齒圈500的外側(cè)面501,即整個內(nèi)齒圈500圓周的外表面。

應(yīng)說明的是,頂面401為弧形面,將頂面401設(shè)置為弧形面,是為了能夠使得多個單元齒拼接在一起時,多個頂面401連接成一圓形狀。而弧形面弧度的大小可根據(jù)具體內(nèi)齒圈500的大小,以及拼接的單元齒數(shù)量設(shè)定,僅需保證 多個單元齒拼接后,頂面401能夠拼接成一圓形狀即可。

在內(nèi)齒圈的實施例二中,進一步優(yōu)選地,第一接觸面200和第二接觸面300均為弧形面,僅需保證相鄰的單元齒兩個接觸面相互吻合即可。

在內(nèi)齒圈的實施例三中,進一步優(yōu)選地,第一接觸面200和第二接觸面300均由多個平面拼接構(gòu)成的組合面。參看圖4所示,本申請中,第一接觸面200和第二接觸面300均有兩個平面拼接構(gòu)成的組合面。當然在其他實施例中,組合面也可以由三個或四個或更多的平面拼接構(gòu)成,主要能夠保證裝配的穩(wěn)定性和密封性。

本實用新型中還提供了一種構(gòu)成前述內(nèi)齒圈的單元齒,該單元齒包括:

頂面401和齒尖面100,以及連接頂面401和齒尖面100的兩相對的接觸面。其中,兩相對的接觸面分別為第一接觸面200和第二接觸面300。實際拼接時,相鄰單元齒的第一接觸面200與第二接觸面300互相吻合。設(shè)置的齒尖面100包括了第一齒尖面101和第二齒尖面102,優(yōu)選地將第一齒尖面101和第二齒尖面102互成尖角C,該尖角C能夠在提高研磨效果的基礎(chǔ)上,直接關(guān)系到使用壽命。

在具體設(shè)置時,將第一接觸面200的底端與第一齒尖面101的頂端連接,第一接觸面200的頂端與頂面401的邊緣連接;第二接觸面300的底端與第二齒尖面102的頂端連接,第二接觸面300的頂端與頂面401的邊緣連接構(gòu)成一單元齒。

應(yīng)說明的是,所謂的頂端和底端僅是以圖4、5顯示的位置而定,是為了便于說明,而實際使用時頂端和底端根據(jù)實際裝配位置發(fā)生改變。

在單元齒的實施例一中,第一接觸面200和第二接觸面300均為弧形面,且弧形的大小相同,僅需保證相鄰的單元齒兩個接觸面相互吻合即可。

在單元齒的實施例二中,參看圖4、5所示,將設(shè)置的第一接觸面200由第一平面201和第二平面202構(gòu)成,且第一平面201和第二平面202拼接構(gòu)成 第一夾角A。同時將設(shè)置的第二接觸面300由第三平面301和第四平面302構(gòu)成,且第三平面301和第四平面302拼接構(gòu)成第二夾角B。

在單元齒的實施例二中,優(yōu)選地,第一夾角A為位于單元齒外的第一平面201與第二平面202之間的夾角;而第二夾角B為位于單元齒外的第三平面301與第四平面302之間的夾角;目的是使得第一夾角A與第二夾角B的角度之和為360°。這樣才能使得裝拼時,相鄰的兩個單元齒之間能夠緊密拼接,保證裝配的穩(wěn)定性和密封性。

當然在其他實施例中,第一接觸面200和第二接觸面300也可以由三個或四個或更多個平面拼接構(gòu)成,僅需滿足拼接構(gòu)成的角度,相鄰接觸面之間能夠互相吻合即可。

在上述單元齒的兩個實施例基礎(chǔ)上,優(yōu)選地,還包括了兩側(cè)壁,分別為第一側(cè)壁400和第二側(cè)壁(在第一側(cè)壁400的相對一側(cè),圖中未顯示出),使得第一側(cè)壁400、第二側(cè)壁、第一接觸面200、第二接觸面300、第一齒尖面101、第二齒尖面102,以及頂面401圍設(shè)成一個完整的單元齒。

在具體設(shè)置時,第一側(cè)壁400的邊緣與第一接觸面200、第二接觸面300、第一齒尖面101、第二齒尖面102的一側(cè)連接;而第二側(cè)壁的邊緣與第一接觸面200、所述第二接觸面300、所述第一齒尖面101、第二齒尖面102的另一側(cè)連接,共同圍設(shè)成單元齒。

在上述單元齒的兩個實施例基礎(chǔ)上,優(yōu)選地,第一齒尖面101和第二齒尖面102互成尖角C,角度為60-120°,相較于現(xiàn)有技術(shù)中角度更小的齒尖來說,不易于在研磨時將齒尖崩壞,同時還能夠為物料顆粒提供撞擊方向更垂直的撞擊面,使得物料顆粒更趨向于從正面撞擊齒面,增大撞擊力,提高研磨效果。

在上述單元齒的兩個實施例基礎(chǔ)上,再次參看圖4、5所示,單元齒包括頂面401和齒尖面100,以及連接頂面401和齒尖面100的兩相對的接觸面。其中,齒尖面100包括第一齒尖面101和第二齒尖面102,具體的在第一齒尖 面101和第二齒尖面102的全部或部分表面附著有耐磨層,耐磨層不僅能夠增強整個單元齒的耐磨損度,而且,由于耐磨層多為復(fù)合材料制成,例如硬質(zhì)合金或聚晶金剛石(簡稱PCD)或聚晶立方氮化硼(簡稱PCBN),耐磨層的表面光滑,與物料間的摩擦力小,從而減小單元齒表面與物料之間的摩擦力,大大降低耐磨層的磨損,并增大了正面的撞擊力,能夠有效提高研磨效果。

應(yīng)當說明的是,上述實施例均可根據(jù)需要自由組合。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式,應(yīng)當指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實用新型原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。

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