微型注漿封口裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種微型注漿封口裝置,包括塞在注漿孔口的橡膠塞,其特征是橡膠塞上設有注漿管和排氣管,所述排氣管伸至注漿孔的孔底。其功能是在石窟窟頂注漿修復時,不產(chǎn)生附加壓力,修復過程中,節(jié)理裂縫不會因劈裂應力而擴展,能有效保護砂巖石窟窟頂在加固修復過程中因施工擾動而導致窟頂文物信息(雕刻或壁畫)的損害。
【專利說明】微型注漿封口裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種砂巖石窟窟頂剝落病害修復裝置,尤其涉及一種微型注漿封口裝置。
【背景技術】
[0002]石窟窟頂、窟壁出現(xiàn)裂縫時,如不及時加固,容易剝離脫落,造成傷人事件。特別是部分砂巖石窟上有壁畫,如敦煌石窟,它們是文物,也是旅游景點,游客多,人流大,如不及時修復補強石窟窟頂,一旦出現(xiàn)石塊掉落,不但損壞文物,而且易造成人身傷害。
[0003]目前的巖體修復技術,一般采用鉆孔后壓力注漿的方式向注漿孔和裂縫中灌注粘結材料,灌衆(zhòng)壓力一般為0.2Mpa?0.6Mpa。由于注衆(zhòng)壓力大,在應用于砂巖石窟淺層剝落病害的治理,由于注漿在裂隙中增加了劈裂壓力,往往易導致片狀剝落病害的加劇甚至脫落,造成修補損害。特別是對于作為文物的石窟或雕刻來說,表層出現(xiàn)裂縫易造成片狀剝落病害,因為體積和重量小,對施工擾動敏感度高,即使不采用壓力注漿,只要在注漿過程中,注漿孔中的空氣無法排出,在裂縫中形成附加劈裂應力,易造成注漿不飽滿和裂隙擴展損壞。
【發(fā)明內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種可使在砂巖石窟窟頂剝落病害修復的注漿過程中不產(chǎn)生附加劈裂應力、裂縫不會擴展的微型注漿封口裝置。
[0005]本實用新型是這樣來實現(xiàn)的。一種微型注漿封口裝置,包括塞在注漿孔口的橡膠塞,其特征是橡膠塞上設有注漿管和排氣管,所述排氣管伸至注漿孔的孔底。
[0006]進一步優(yōu)選,所述排氣管連接一個負壓裝置。
[0007]進一步優(yōu)選,所述注漿管連接手工推進注射槍。
[0008]進一步優(yōu)選,所述手工推進注射槍包括一個上側開口的槍架,槍架的一端裝有手工推進桿,另一端安裝注漿針管;槍架內安裝可拆卸的漿液管,手工推進桿的活塞端位于漿液管內,注漿針管與漿液管相通,所述注漿針管的管腳處設有橡膠套,橡膠套緊貼密封注漿管。
[0009]本實用新型的技術效果是:在石窟窟頂修復時,不會產(chǎn)生附加劈裂應力,修復過程中,節(jié)理裂縫不會擴展,能有效保護砂巖石窟巖體表層的雕刻或壁畫。通過負壓裝置,可以進一步改善修復效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的示意圖。
[0011]圖2為本實用新型所述手工推進注射器的示意圖。
[0012]在圖中1.石窟巖體2.橡膠塞3.注漿管4.排氣管5.負壓裝置 6.橡膠套7.槍架8.漿液管9.手工推進桿10.注漿針管。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型作進一步闡明。
[0014]如圖1所示,一種微型注漿封口裝置,包括橡膠塞2,橡膠塞2塞緊石窟巖體I的注漿孔孔口,其特征是橡膠塞2上設有Φ =6.0mm的注漿管3和Φ =2.0mm的排氣管4,所述排氣管4伸至注漿孔的孔底,所述排氣管4連接一個負壓裝置5。
[0015]所述注漿管4可連接如圖2所示的手工推進注射槍,所述手工推進注射槍包括一個上側開口的槍架7,槍架7的一端裝有手工推進桿9,另一端安裝注漿針管10 ;槍架7內安裝可拆卸的漿液管8,手工推進桿9的活塞端位于漿液管8內,注漿針管10與漿液管8相通,所述注漿針管10的管腳處設有橡膠套6。
【權利要求】
1.一種微型注漿封口裝置,包括塞在注漿孔口的橡膠塞,其特征是橡膠塞上設有注漿管和排氣管,所述排氣管伸至注漿孔的孔底。
2.根據(jù)權利要求1所述的微型注漿封口裝置,其特征是所述排氣管連接一個負壓裝置。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的微型注漿封口裝置,其特征是所述注漿管連接手工推進注射槍。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的微型注漿封口裝置,其特征是所述排氣管的直徑Φ =2.0mm0
5.根據(jù)權利要求1或2所述的微型注漿封口裝置,其特征是所述注漿管的直徑Φ =6.0mm。
6.根據(jù)權利要求3所述的微型注漿封口裝置,其特征是所述手工推進注射器包括一個上側開口的槍架,槍架的一端裝有手工推進桿,另一端安裝注漿針管;槍架內安裝可拆卸的漿液管,手工推進桿的活塞端位于漿液管內,注漿針管與漿液管相通,所述注漿針管的管腳處設有橡膠套,橡膠套緊貼密封注漿管。
【文檔編號】E21D11/10GK203961331SQ201420365308
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月4日 優(yōu)先權日:2014年7月4日
【發(fā)明者】柴新軍, 何春鋒, 高金賀, 李愛飛, 陳士軍, 鹿慶蕊, 吉植強 申請人:東華理工大學