專利名稱：淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置及施工方法
技術領域：
本發(fā)明涉及建筑工程技術領域，尤其涉及一種淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置及施工方法。
背景技術：
目前,隨著建筑施工向著快節(jié)奏、高復雜性的方向發(fā)展，在基坑施工中，坑中坑、群坑施工廣泛出現(xiàn)。但由于工期普遍緊張，按通常先深后淺的施工流程，顯然已無法滿足現(xiàn)有工期需要。故針對現(xiàn)有技術存在的問題，本案設計人憑借從事此行業(yè)多年的經(jīng)驗，積極研究改良，于是有了發(fā)明淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置及施工方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是針對現(xiàn)有技術中，傳統(tǒng)的基坑施工中工期普遍緊張，無法滿足現(xiàn)有工期需要等缺陷提供一種淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置。本發(fā)明之又一目的是針對現(xiàn)有技術中，傳統(tǒng)的基坑施工中工期普遍緊張，無法滿足現(xiàn)有工期需要等缺陷提供一種淺坑底板與深坑支撐施工方法。為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，所述傳力裝置設置在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間，并位于所述淺坑底板下側，所述傳力裝置具有呈一定預設坡度的附加落低段，以及形成在所述附加落低段底部的底板墊層和形成在所述附加落低段上表面的底板附加元件，所述預設坡度由所述附加落低段的水平段與斜坡段形成?？蛇x的，所述淺坑底板包括設置在所述淺坑底板之淺坑底板面處的第一底板，以及設置在所述淺坑底板之異于所述淺坑底板面一側的第二底板?？蛇x的，所述深坑支撐設置在所述傳力裝置之附加落低段的水平段之異于斜坡段的一側，且所述深坑支撐的頂面與所述淺坑底板的第二底板具有相同的標高。可選的，所述深坑支撐與所述傳力裝置之間進一步設置深坑圍護頂圈梁?？蛇x的，所述第一底板和所述第二底板為鋼筋材質。可選的，所述預設坡度呈135°?？蛇x的，所述底板附加元件為鋼筋材質。為實現(xiàn)本發(fā)明之又一目的，本發(fā)明提供一種淺坑底板與深坑支撐的施工方法，包括以下步驟執(zhí)行步驟SI :將所述淺坑底板挖至第一標高；執(zhí)行步驟S2 :調(diào)整所述深坑支撐的第二標高，并將所述深坑支撐的第二標高調(diào)整至所述淺坑底板的第一標高；執(zhí)行步驟S3 :在所述淺坑底板下側與所述深坑支撐之間設置傳力裝置；執(zhí)行步驟S4 :在所述深坑支撐與所述傳力裝置之間進一步設置深坑圍護頂梁圈。
綜上所述，本發(fā)明通過在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間設置所述傳力裝置，在所述淺坑底板施工階段同步施工，與所述深坑支撐形成有效傳力，同時便于后續(xù)不需鑿除深坑圍護頂梁圈的前提下完成結構銜接，減輕后續(xù)結構銜接的施工難度。
圖I所示為本發(fā)明淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置剖視結構示意圖；圖2所示為本發(fā)明淺坑底板與深坑支撐的施工方法的流程圖。
具體實施例方式為詳細說明本發(fā)明創(chuàng)造的技術內(nèi)容、構造特征、所達成目的及功效，下面將結合實施例并配合附圖予以詳細說明。請參閱圖1，圖I所示為本發(fā)明淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置剖視結構示意圖。所述傳力裝置I設置在所述淺坑底板2與所述深坑支撐3之間。具體地，所述淺坑底板2包括設置在所述淺坑底板2之淺坑底板面20處的第一底板21，以及設置在所述淺坑底板2之異于所述淺坑底板面20 —側的第二底板22 ;所述傳力裝置I設置在所述淺坑底板2下偵牝并具有呈一定預設坡度的附加落低段10，以及形成在所述附加落低段10底部的底板墊層11和形成在所述附加落低段10上表面的底板附加元件12。所述預設坡度由所述附加落低段10的水平段101與斜坡段102形成。所述深坑支撐3設置在所述傳力裝置I之附加落低段10的水平段101之異于斜坡段102的一側，且所述深坑支撐3的頂面30與所述淺坑底板2的第二底板22具有相同的標高，并在所述深坑支撐3與所述傳力裝置I之間進一步設置深坑圍護頂圈梁31。顯然地，所述深坑支撐3的頂面30與所述淺坑底板2的第二底板22的標高也可具有一定的差異，所述差異屬于本領域技術人員施工可接受的范圍。在本發(fā)明中，優(yōu)選地，所述第一底板21和所述第二底板22為鋼筋材質。所述預設坡度呈135°。所述底板附加元件12為鋼筋材質。請參閱圖1，并結合參閱圖2，圖2所示為本發(fā)明淺坑底板與深坑支撐的施工方法的流程圖。為減少后續(xù)地下結構施工工作量，現(xiàn)場結合結構形式，確定所述第二底板22在挖至標高后即與所述深坑支撐3開始同步施工的工況，并使所述第二底板22與所述深坑支撐3形成有效傳力過度。在本發(fā)明中，所述淺坑底板2與所述深坑支撐3的施工方法包括以下步驟執(zhí)行步驟SI :將所述淺坑底板2挖至第一標高；執(zhí)行步驟S2 :調(diào)整所述深坑支撐3的第二標高，并將所述深坑支撐3的第二標高調(diào)整至所述淺坑底板2的第一標高；執(zhí)行步驟S3 :在所述淺坑底板2下側與所述深坑支撐3之間設置傳力裝置I ;執(zhí)行步驟S4 :在所述深坑支撐3與所述傳力裝置I之間進一步設置深坑圍護頂梁圈31。 通過執(zhí)行所述淺坑底板2與所述深坑支撐3的施工步驟，即適當調(diào)整所述深坑支撐3的第二標高，將所述深坑支撐3的頂面第二標高調(diào)整至所述第二底板23的第一標高，并在所述淺坑底板2與所述深坑支撐3之間設置傳力裝置I，在所述淺坑底板2施工階段同步施工，與所述深坑支撐3形成有效傳力，同時便于后續(xù)不需鑿除深坑圍護頂梁圈31的前提下完成結構銜接，減輕后續(xù)結構銜接的施工難度。綜上所述，本發(fā)明通過在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間設置所述傳力裝置，在所述淺坑底板施工階段同步施工，與所述深坑支撐形成有效傳力，同時便于后續(xù)不需鑿除深坑圍護頂梁圈的前提下完成結構銜接，減輕后續(xù)結構銜接的施工難度。
本領域技術人員均應了解，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，可以對本發(fā)明進行各種修改和變型。因而，如果任何修改或變型落入所附權利要求書及等同物的保護范圍內(nèi)時，認為本發(fā)明涵蓋這些修改和變型。
權利要求
1.一種淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述傳力裝置設置在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間，并位于所述淺坑底板下側，所述傳力裝置具有呈一定預設坡度的附加落低段，以及形成在所述附加落低段底部的底板墊層和形成在所述附加落低段上表面的底板附加元件，所述預設坡度由所述附加落低段的水平段與斜坡段形成。
2.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述淺坑底板包括設置在所述淺坑底板之淺坑底板面處的第一底板，以及設置在所述淺坑底板之異于所述淺坑底板面一側的第二底板。
3.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述深坑支撐設置在所述傳力裝置之附加落低段的水平段之異于斜坡段的一側，且所述深坑支撐的頂面與所述淺坑底板的第二底板具有相同的標高。
4.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述深坑支撐與所述傳力裝置之間進一步設置深坑圍護頂圈梁。
5.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述第一底板和所述第二底板為鋼筋材質。
6.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述預設坡度呈 135° 。
7.如權利要求I所述的淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，其特征在于，所述底板附加元件為鋼筋材質。
8.一種淺坑底板與深坑支撐的施工方法，其特征在于，包括以下步驟 執(zhí)行步驟SI :將所述淺坑底板挖至第一標高； 執(zhí)行步驟S2 :調(diào)整所述深坑支撐的第二標高，并將所述深坑支撐的第二標高調(diào)整至所述淺坑底板的第一標聞; 執(zhí)行步驟S3 :在所述淺坑底板下側與所述深坑支撐之間設置傳力裝置； 執(zhí)行步驟S4 :在所述深坑支撐與所述傳力裝置之間進一步設置深坑圍護頂梁圈。
全文摘要
一種淺坑底板與深坑支撐之傳力裝置，設置在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間，并位于所述淺坑底板下側，所述傳力裝置具有呈一定預設坡度的附加落低段，以及形成在所述附加落低段底部的底板墊層和形成在所述附加落低段上表面的底板附加元件，所述預設坡度由所述附加落低段的水平段與斜坡段形成。本發(fā)明通過在所述淺坑底板與所述深坑支撐之間設置所述傳力裝置，在所述淺坑底板施工階段同步施工，與所述深坑支撐形成有效傳力，同時便于后續(xù)不需鑿除深坑圍護頂梁圈的前提下完成結構銜接，減輕后續(xù)結構銜接的施工難度。
文檔編號E02D17/02GK102704493SQ20121020589
公開日2012年10月3日 申請日期2012年6月20日 優(yōu)先權日2012年6月20日
發(fā)明者劉亞濤, 吳亦樂, 朱佳君 申請人:上海建工二建集團有限公司