技術(shù)特征：

1.一種鋯合金管的鍍鎳裝置，其特征在于：該裝置包括電鍍槽(1)，以及放置在電鍍槽(1)內(nèi)的象形陽(yáng)極(2)、輔助陽(yáng)極(3)、電鍍工裝(5)及鍍液；

電鍍工裝(5)為倒放“U型”結(jié)構(gòu)，電鍍工裝(5)內(nèi)部為空腔，鍍液從電鍍工裝(5)的下部入口進(jìn)入電鍍工裝(5)的空腔內(nèi)，然后從電鍍工裝(5)的上部出口流出；

鋯合金管(4)放置于電鍍工裝(5)中部的空腔內(nèi)，輔助陽(yáng)極(3)穿過電鍍工裝(5)以及鋯合金管(4)的中空內(nèi)腔；

所述的象形陽(yáng)極(2)材料為電解鎳板，共四塊，均勻的分布于電鍍槽(1)內(nèi)并位于鋯合金管(4)周圍；

所述的輔助陽(yáng)極(3)材料為鉑絲或鍍鉑鈦絲，沿鋯合金管(4)的中心貫穿整個(gè)鋯管，其作用為保證鋯管內(nèi)表面電力線分布均勻，保證鎳離子在在鋯管內(nèi)壁均勻沉積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋯合金管的鍍鎳裝置，其特征在于：所述的電鍍工裝(5)由聚四氟乙烯材料加工而成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋯合金管的鍍鎳裝置，其特征在于：所述的鋯合金管(4)的結(jié)構(gòu)為(Φ8～Φ12)mm×(0.3～1)mm×(50～200)mm的結(jié)構(gòu)。

4.一種采用權(quán)利要求1至3所述任意裝置的鋯合金管的鍍鎳方法，其特征在于：該方法包括如下步驟：

a)首先對(duì)鋯合金管(4)采用乙醇或丙酮等有機(jī)溶劑除油，流動(dòng)水洗1～2分鐘；

b)然后進(jìn)行蝕刻，蝕刻溶液成分包括NH₄HF₂和H₂SO₄，其中NH₄HF₂濃度為12～20g/L，H₂SO₄濃度為0.2～0.6ml/L；蝕刻溶液溫度25～35℃，蝕刻時(shí)間2～3min；

c)然后進(jìn)行超聲水洗，時(shí)間為4～6min，溫度為25～35℃；

d)將象形陽(yáng)極(2)、輔助陽(yáng)極(3)、電鍍工裝(5)及鍍液放置在電鍍槽(1)內(nèi)，鋯合金管(4)放置于電鍍工裝(5)中部的空腔內(nèi)，輔助陽(yáng)極(3)穿過電鍍工裝(5)以及鋯合金管(4)的中空內(nèi)腔；象形陽(yáng)極(2)材料為電解鎳板，共四塊，均勻的分布于電鍍槽(1)內(nèi)并位于鋯合金管(4)周圍；鍍液從電鍍工裝(5)的下部入口進(jìn)入電鍍工裝(5)的空腔內(nèi)，然后從電鍍工裝(5)的上部出口流出；

電鍍時(shí)，采用的電鍍液成分包括NiSO₄·6H₂O、NiCl₂·6H₂O、以及H₃BO₃，其中NiSO₄·6H₂O濃度為30～350g/L、NiCl₂·6H₂O濃度為10～20g/L、H₃BO₃濃度為30～50g/L，PH值為3～4，溶液溫度為45～50℃，電流密度為0.5～2A/dm²。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種鋯合金管的鍍鎳方法，其特征在于：所述的鋯合金管(4)內(nèi)、外表面同時(shí)沉積上了均勻完整的鎳層，鎳層厚度為(10±1)μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種鋯合金管的鍍鎳方法，其特征在于：電鍍時(shí)采用的脈沖電源參數(shù)的取值見表1；

表1 雙脈沖電源參數(shù)的取值