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用于電鍍槽的高電阻虛擬陽極、電鍍槽及處理基板表面的方法與流程
文檔序號:12585479
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來源:國知局
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用于電鍍槽的高電阻虛擬陽極、電鍍槽及處理基板表面的方法與流程
技術總結
本發(fā)明揭露一種用于電鍍槽的高電阻虛擬陽極、處理槽及處理基板表面的方法。用于電鍍槽的高電阻虛擬陽極包含第一層及第二層。第一層包含多個第一孔洞穿透第一層。第二層位于第一層上,并且包含多個第二孔洞穿透第二層。
技術研發(fā)人員:
王柏偉;張鈞琳
受保護的技術使用者:
臺灣積體電路制造股份有限公司
文檔號碼:
201610689210
技術研發(fā)日:
2016.08.19
技術公布日:
2017.06.09
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