1.一種鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于：采用電泳在牙科鈷鉻合金基底材料表面沉積瓷層，再采用激光熔覆將瓷層熔覆，即制得鈷鉻烤瓷義齒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1，將烤瓷粉加入有機(jī)溶劑和水混合的分散介質(zhì)中，并添加三乙醇胺，經(jīng)磁力攪拌、超聲波振蕩制備成懸浮液；
步驟2，通過(guò)電泳反應(yīng)在牙科鈷鉻合金基底材料上沉積瓷層，其中陽(yáng)極為以經(jīng)過(guò)噴砂預(yù)處理的牙科鈷鉻合金基底材料，陰極為鉑片電極；
步驟3，采用激光熔覆的方法，將瓷層熔覆到牙科鈷鉻合金上，即得鈷鉻烤瓷義齒。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-微波燒結(jié)復(fù)合加工方法，其特征在于，步驟1中所述烤瓷粉為維他瓷粉、則武瓷粉、松風(fēng)、賀利式瓷粉、義獲嘉瓷粉、登士柏瓷粉中任一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于，步驟1中所述陶瓷粉在分散介質(zhì)中的濃度為3～200g/L，有機(jī)溶劑和水的體積比為5:95～95:5，所述有機(jī)溶劑為乙醇、甲醇、丙酮、丙醇或異丙醇中任一種，所述三乙醇胺在分散介質(zhì)中的濃度為1～20g/L。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于，步驟2中所述的牙科鈷鉻合金基底材料為牙科鈷鉻合金、鈷鉻鉬合金、鈷鉻鎢合金或鈷鉻鉬鎢合金中任一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于，步驟2中所述電泳沉積電壓為5～100V；電泳沉積時(shí)間為30～180秒；電極間距為1 ～ 5 cm。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷鉻烤瓷義齒的電泳沉積-激光熔覆復(fù)合加工方法，其特征在于，步驟3中所述的激光熔覆的具體工藝參數(shù)為：激光功率100-500 W，掃描速度5-100 mm/min，離焦量0-15 mm，掃描間距0.1-0.5 mm。