專(zhuān)利名稱(chēng)：一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置，屬于電鍍技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
真空滅弧室是輸配電裝置和電力系統(tǒng)的主要控制與保護(hù)設(shè)備核心部件，廣泛應(yīng)用于電力、機(jī)械、冶金、石工、礦山、電氣鐵路等領(lǐng)域。真空滅弧室中間部位為陶瓷殼，兩端為裸露的金屬組件，由于真空滅弧室使用環(huán)境比較復(fù)雜，通常在高溫和低溫持續(xù)交替的情況下使用，或者在環(huán)境濕度較大的情況下使用，使得金屬組件容易被腐蝕，影響真空滅弧室的使用壽命，所以通常在真空滅弧室金屬部分電鍍鎳，以增加金屬部件的抗腐蝕和耐磨能力，并且使得外觀更加統(tǒng)一；隨著真空滅弧室的發(fā)展，真空滅弧室的管型不斷增多，形狀復(fù)雜的導(dǎo)電桿不容易刷鍍，一次通過(guò)率低，有的甚至刷鍍不上鎳。由于刷鍍只能對(duì)形狀簡(jiǎn)單的平 面、圓形表面進(jìn)行刷鍍鎳。有臺(tái)階和板手槽的導(dǎo)電桿不容易刷鍍，其臺(tái)階端面及板手槽端面需較長(zhǎng)時(shí)間刷鍍才能刷鍍上鎳，工作效率低，而外螺紋和有凹槽的導(dǎo)電桿不僅不容易刷鍍，有的甚至刷鍍不上鎳，刷鍍的一次通過(guò)率比較低，為50%左右，且勞動(dòng)強(qiáng)度增大。現(xiàn)有對(duì)真空滅弧室的刷鍍鎳多使用手工操作，對(duì)兩端的金屬部件進(jìn)行刷鍍鎳需要多人重復(fù)勞動(dòng)，人工刷鍍?nèi)菀自斐慑兡ず穸炔灰恢拢叶嗳瞬僮魅菀自斐慑儗颖荒p造成露銅現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置。新型電鍍鎳裝置在對(duì)導(dǎo)電桿進(jìn)行局部電鍍的過(guò)程中，同時(shí)用已包裹的刷鍍電極蘸取電鍍液對(duì)導(dǎo)電塊進(jìn)行刷鍍，只需要一次即將兩端電鍍完成，中間不需要對(duì)真空滅弧室進(jìn)行旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，減少旋轉(zhuǎn)移動(dòng)對(duì)鍍層造成的損傷，而且電鍍的質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)效率得到提高。本實(shí)用新型是這樣構(gòu)成的包括杯形電極，環(huán)形定位盤(pán)，環(huán)形電極和刷鍍電極，所述杯形電極固定于電鍍槽內(nèi)，環(huán)形定位盤(pán)固定于杯形電極上方，環(huán)形電極固定于環(huán)形定位盤(pán)上方。上述杯形電極上連接有電極連接條一，電極連接條一與直流電源的正極相連，刷鍍電極與直流電源的正極相連。上述環(huán)形電極連接有電極連接條二，環(huán)形電極與被刷鍍的金屬表面相連，電極連接條二與直流電源的負(fù)極相連。與現(xiàn)有技術(shù)相比，新型電鍍鎳裝置在對(duì)導(dǎo)電桿進(jìn)行局部電鍍的同時(shí)也對(duì)導(dǎo)電塊進(jìn)行刷鍍，當(dāng)導(dǎo)電桿鍍好鎳時(shí)，導(dǎo)電塊也刷鍍好鎳了，只需要一次即將兩端電鍍完成，中間不需要對(duì)真空滅弧室進(jìn)行旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，減少旋轉(zhuǎn)移動(dòng)對(duì)鍍層造成的損傷，而且電鍍的質(zhì)量比較穩(wěn)定，生產(chǎn)效率提高了一倍，這樣就降低了刷鍍一半的工作量，且刷鍍一次通過(guò)率達(dá)95%以上。
附圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖中標(biāo)記為1_杯形電極，2-環(huán)形定位盤(pán)，3-環(huán)形電極，4-刷鍍電極，5-電極連接條一，6-電極連接條二
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型在使用時(shí)，如圖I將真空滅弧室放置于環(huán)形電極3上，有導(dǎo)電桿的一端向下放置，導(dǎo)電桿穿過(guò)環(huán)形電極3和環(huán)形定位盤(pán)2中心的孔伸入電鍍液中，杯形電極I通過(guò)電極連接條一 5和電線與電源的正極相連；環(huán)形電極3連接真空滅弧室的金屬表面，環(huán)形電極3上的電極連接條二 6通過(guò)電線與電源的負(fù)極相連；刷鍍電極4通過(guò)電線與電源的正極相連，為方便刷鍍，刷鍍電極4用如海綿或者類(lèi)似的物體進(jìn)行包裹；接通電源，用已包裹的 刷鍍電極4蘸取電鍍液對(duì)真空滅弧室上方的導(dǎo)電塊端面進(jìn)行刷鍍，待電鍍時(shí)間到后取下已電鍍好的真空滅弧室，放置到專(zhuān)用的存放架上晾干，即可對(duì)另一個(gè)真空滅弧室進(jìn)行電鍍。
權(quán)利要求1.一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置，其特征在于包括杯形電極(1)，環(huán)形定位盤(pán)(2)，環(huán)形電極(3)和刷鍍電極(4)，所述杯形電極(I)固定于電鍍槽內(nèi)，環(huán)形定位盤(pán)(2)固定于杯形電極(I)上方，環(huán)形電極(3)固定于環(huán)形定位盤(pán)(2)上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求書(shū)I所述的真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置，其特征在于所述杯形電極(I)上連接有電極連接條一(5)，電極連接條一(5)與直流電源的正極相連，刷鍍電極(4)與直流電源的正極相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求書(shū)I所述的真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置，其特征在于所述環(huán)形電極(3)連接有電極連接條二(6)，環(huán)形電極(3)與被刷鍍的金屬表面相連，電極連接條二(6)與直流電源的負(fù)極相連。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時(shí)進(jìn)行的裝置，其特征在于包括杯形電極(1)，環(huán)形定位盤(pán)(2)，環(huán)形電極(3)和刷鍍電極(4)，所述杯形電極(1)固定于電鍍槽內(nèi)，環(huán)形定位盤(pán)(2)固定于杯形電極(1)上方，環(huán)形電極(3)固定于環(huán)形定位盤(pán)(2)上方。本實(shí)用新型簡(jiǎn)化了真空滅弧室進(jìn)行電鍍鎳的過(guò)程，真空滅弧室兩端金屬部件同時(shí)電鍍和刷鍍，節(jié)約了操作時(shí)間，整個(gè)過(guò)程只需要一人就可獨(dú)立完成，節(jié)約了人力資源，且電鍍過(guò)程中真空滅弧室不需要旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，避免了真空滅弧室旋轉(zhuǎn)移動(dòng)對(duì)鍍層的損傷。
文檔編號(hào)C25D7/00GK202705523SQ20122044233
公開(kāi)日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2012年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月31日
發(fā)明者王政江 申請(qǐng)人:中國(guó)振華電子集團(tuán)宇光電工有限公司(國(guó)營(yíng)第七七一廠)