專利名稱：基體表面上的有機(jī)被膜的除去方法及除去裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及以電子設(shè)備用基板等的表面清潔化為目的的、基體表面上 附著的有機(jī)被膜的除去方法、及除去裝置。具體來(lái)說(shuō)，本發(fā)明尤其涉及半 導(dǎo)體用晶片或液晶用基板等的加工時(shí)使用的光敏抗蝕劑被膜的除去中有 用的使用了剝離液的光敏抗蝕劑被膜的除去方法、及除去裝置。
背景技術(shù)：
在氧化膜或多晶硅膜的微細(xì)加工中使用的光敏抗蝕劑的除去中，以往 開始知道的有使用剝離液的方法。作為所述剝離液，使用了苛性鈉或苛性
鉀等無(wú)機(jī)強(qiáng)堿水溶液、硫酸及過(guò)氧化氫的混合物、IPA (異丙醇)或NMP (正甲基吡咯烷酮)等有機(jī)溶劑、單乙醇胺或TMAH (氫氧化四甲基銨) 等有機(jī)堿性物質(zhì)等。
但是，在使用了這些剝離液的剝離方法中，不僅不能忽視剝離液自身 的危險(xiǎn)性或有害性，而且已使用剝離液中混入光敏抗蝕劑樹脂，導(dǎo)致抗蝕 劑剝離能力降低，因此，難以再利用剝離液，故不得不廢棄，從而存在產(chǎn) 生大量廢棄物，污染環(huán)境的問(wèn)題。
作為解決這樣的問(wèn)題的解決對(duì)策，提出了為了再生使用混入有光敏抗 蝕劑的剝離液，進(jìn)行臭氧處理的方法。例如，公開了通過(guò)使臭氧作用于由 醋酸及/或丙酸構(gòu)成的剝離液，有選擇性地只分解剝離液中的有機(jī)物，由此 再生剝離液的方法(特開2001—345304號(hào)公報(bào))。另外，公開有將由碳酸 亞乙酯及/或碳酸亞丙酯構(gòu)成的剝離液進(jìn)行臭氧處理，將剝離液中的有機(jī)被 膜構(gòu)成物質(zhì)分解，由此再生利用剝離液的方法(特幵2003—330206號(hào)公 報(bào))。尤其，由碳酸亞乙酯及/或碳酸亞丙酯構(gòu)成的剝離液幾乎不被臭氧處 理分解，能夠由臭氧處理有選擇性地只分解來(lái)源于有機(jī)被膜的成分，因此， 能夠構(gòu)筑可循環(huán)再利用剝離液的剝離工序，而且還公開有若干個(gè)用于實(shí)施
該工序的剝離裝置(特開2003—305418號(hào)公報(bào))。
專利文獻(xiàn)1:特開2001—345304號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:特開2003—330206號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:特開2003—305418號(hào)公報(bào)
但是，在臭氧處理中，發(fā)現(xiàn)不是所有的來(lái)源于有機(jī)被膜的成分被完全 氧化至水和二氧化碳， 一部分變成羧酸及其酯而殘留在剝離液中。這樣的 羧酸或其酯可能對(duì)剝離裝置的材質(zhì)產(chǎn)生不良影響，進(jìn)而還發(fā)現(xiàn)降低剝離液 剝離有機(jī)被膜的速度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供在剝離液中不積蓄有機(jī)被膜的薄片或分解成 分，因此能夠在不降低有機(jī)被膜的剝離速度的情況下長(zhǎng)期反復(fù)再使用剝離 液，且對(duì)剝離裝置的材質(zhì)不產(chǎn)生不良影響的有機(jī)被膜的除去方法及除去裝置。
根據(jù)本發(fā)明可知，為了消除臭氧處理引起的這樣的缺陷而不使用臭氧 處理，利用膜濾處理含有來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的剝離液，由此，能夠除 去來(lái)源于有機(jī)被膜的成分。
根據(jù)本發(fā)明提供一種有機(jī)被膜的除去方法，其中，使剝離液與基體表 面上的有機(jī)被膜接觸，并除去有機(jī)被膜，然后膜濾處理含在剝離液中的來(lái) 源于有機(jī)被膜的成分，由此將所述來(lái)源于有機(jī)被膜的成分從剝離液去除， 根據(jù)需要將去除了來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的剝離液再使用于基體表面上 的有機(jī)被膜的除去中。
另外，根據(jù)本發(fā)明還提供具有有機(jī)被膜的基體表面的有機(jī)被膜的除去
裝置，其特征在于，包括
A. 貯槽，其貯存新剝離液；
B. 導(dǎo)入新剝離液，且導(dǎo)入處理后的剝離液的混合剝離液貯槽；
C. 從混合剝離液貯槽向接觸槽供給剝離液的機(jī)構(gòu)；
D. 基體固定器(holder),其收容具有有機(jī)被膜的基體；
E. 從基體固定器取出具有有機(jī)被膜的基體，并導(dǎo)入接觸槽，在接觸
槽內(nèi)，使剝離液與基體的具有有機(jī)被膜的表面接觸，使有機(jī)被膜溶解于剝離液中，從基體表面除去有機(jī)被膜，從接觸槽撈出除去了有機(jī)被膜的基體
的機(jī)構(gòu)；
F. 從接觸槽排出溶解有機(jī)被膜的剝離液；
G. 導(dǎo)入從接觸槽排出的剝離液的膜濾裝置；
H. 使從膜濾裝置排出的剝離液循環(huán)，并返回到混合剝離液貯槽的機(jī)構(gòu)。


圖1是表示本發(fā)明的有機(jī)被膜的除去裝置的例子的整體圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的基體表面上的有機(jī)被膜的除去方法包括以下工序。
(1) 使剝離液與基體表面上的有機(jī)被膜接觸，剝離、除去有機(jī)被膜 例如，抗蝕劑膜的工序；
(2) 其次，向膜濾裝置導(dǎo)入溶解及/或分散了剝離、除去的來(lái)源于有 機(jī)被膜的成分的剝離液，進(jìn)行過(guò)濾處理，從剝離液過(guò)濾來(lái)源于有機(jī)被膜的 成分的工序；
(3) 將膜濾處理后的剝離液再次再使用于基體表面上的有機(jī)被膜的 剝離、溶解的工序。還有，再利用剝離液時(shí)，通過(guò)所有工序，剝離液發(fā)生 損耗，因此，優(yōu)選向工序補(bǔ)充新的剝離液。
在本發(fā)明中使用的剝離液優(yōu)選以在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有 機(jī)環(huán)狀化合物為主成分。在此，作為主成分是指在剝離液中含有50重量％ 以上的在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物的情況。
作為在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物，可以例示碳酸
亞乙酯、碳酸亞丙酯等碳酸亞烷基酯類、二嗯烷、三嗯垸等環(huán)狀醚類、e
一丙內(nèi)酯、Y—己內(nèi)酯、Y—月桂內(nèi)酯、S—戊內(nèi)酯等內(nèi)酯類。其中，從 沸點(diǎn)或燃點(diǎn)高且毒性小的方面出發(fā)，優(yōu)選碳酸亞烷基酯、從對(duì)有機(jī)被膜的 溶解性大的方面出發(fā)，優(yōu)選碳酸亞乙酯及/或碳酸亞丙酯。
與在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物一同使用的液體 優(yōu)選沸點(diǎn)為6(TC以上的液體。作為所述液體，可以例示乙醇、異丙醇等醇
類、聚乙二醇等醚類、甲苯、二甲苯等芳香族烴類、水等。
從有機(jī)被膜的剝離性和剝離液的安全性的方面出發(fā)，在一個(gè)分子中具
有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物優(yōu)選在剝離液中占70重量％以上，更優(yōu)選 卯重量％以上。
為了進(jìn)而提高抗蝕劑等有機(jī)被膜的溶解性，因此，可以加溫使用所述 剝離液。使用溫度的范圍是20(TC以下，考慮燃點(diǎn)以下的使用，優(yōu)選的使 用溫度是30 15(TC。
作為使剝離液與基體表面上的有機(jī)被膜接觸的方法，可以例示將附有 有機(jī)被膜的基體浸漬在剝離液中溶解的方法、向基體上的有機(jī)被膜噴射剝 離液進(jìn)行沖洗的方法、將附有有機(jī)被膜的基體暴露在剝離液的蒸氣中的方 法等。關(guān)于向基體上的有機(jī)被膜噴射剝離液進(jìn)行沖洗的方法，例如在特開 2003—203856號(hào)公報(bào)中有記載。
在本發(fā)明中剝離的有機(jī)被膜是主要在電子材料用基板的光刻法工序 中最后變得不需要的光敏抗蝕劑。即，可以列舉作為正型抗蝕劑的酚醛清 漆樹脂系、作為負(fù)型抗蝕劑的環(huán)化聚異戊二烯系。
在本發(fā)明中所謂的"來(lái)源于有機(jī)被膜的成分"包括上述有機(jī)被膜的薄 片、構(gòu)成有機(jī)被膜的樹脂或交聯(lián)劑等的意思。
若使用所述剝離液，則能夠簡(jiǎn)單地除去作為基板表面上的有機(jī)物的苯 二甲酸二辛酯(DOP)等的油膜，同時(shí)也能夠除去被這些油膜固著在表面 的污染微粒。另外，也適合除去機(jī)械加工后的基體表面上的加工油等的油 膜或金屬表面的涂膜等。
還有，通常加熱處理液進(jìn)行除去處理，但根據(jù)基體的性質(zhì)，也可以在 需要室溫或略微加溫的條件下進(jìn)行處理的情況下使用。在使用碳酸亞乙酯
的情況下，可以在作為熔點(diǎn)的35r以上的溫度下適當(dāng)使用。
根據(jù)本發(fā)明可知，能夠在極短時(shí)間內(nèi)且有效地除去基體表面上的有機(jī) 被膜例如，以往需要磨碎的離子注入抗蝕劑膜，并且能夠長(zhǎng)期反復(fù)再利用 高沸點(diǎn)且毒性小的剝離液，因此，經(jīng)濟(jì)性或安全性來(lái)說(shuō)也優(yōu)選，對(duì)環(huán)境不 產(chǎn)生不良影響。
在本發(fā)明中，為了再利用在基體表面上的有機(jī)被膜的剝離、除去中所 使用的剝離液，將溶解及/或分散了剝離、分散的來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的 剝離液接著導(dǎo)入膜濾裝置中，進(jìn)行過(guò)濾處理，從剝離液過(guò)濾來(lái)源于有機(jī)被 膜的成分。通過(guò)除去來(lái)源于有機(jī)被膜的成分，剝離液恢復(fù)基體表面上的有 機(jī)被膜剝離性能，從而能夠多次再利用。
在本發(fā)明中使用的膜濾包括.，微孔過(guò)濾器、超濾、反滲透、透析。其 中，從基于來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的過(guò)濾的除去性、過(guò)濾速度、膜的成本
的方面出發(fā)，優(yōu)選超濾。超濾是指使用具有5nm 0.2"m的細(xì)孔徑的多孔 膜進(jìn)行分子量為幾百至幾十萬(wàn)的有機(jī)化合物或高分子化合物的分離的過(guò) 濾方法的一種，通常使用模塊(module)化的超濾膜，在0.1 0.2Mpa左 右的正壓或負(fù)壓下進(jìn)行過(guò)濾。
超濾膜具有表面由表皮層和多孔層構(gòu)成的非對(duì)稱結(jié)構(gòu)，作為使用的材 質(zhì)，知道的有，聚丙烯腈、氯乙烯一丙烯腈共聚物、聚砜、聚醚砜、聚偏 氟乙烯、芳香族聚酰胺、乙酸纖維素等高分子材料。從對(duì)剝離液的耐久性、 在高溫下的使用耐久性方面出發(fā)，優(yōu)選聚丙烯腈、聚醚砜、聚偏氟乙烯。 除了上述高分子以外，還可以使用陶瓷膜。
超濾膜的性能用不能透過(guò)膜的最小的溶質(zhì)的分子量表示，將其稱為截 留分子量，截留分子量以上的分子量的溶質(zhì)不透過(guò)，透過(guò)以下的溶質(zhì)。
將所述超濾膜模塊化而使用。膜模塊是平坦膜型、中空系型、螺旋型 等，可以根據(jù)使用溫度或壓力適當(dāng)選擇使用。
本發(fā)明的膜模塊的超濾膜的截留分子量可以使用1， 000-300， 000的 范圍。優(yōu)選選擇與欲除去的抗蝕劑樹脂的分子量一致的截留分子量。在沒 有最佳截留分子量的模塊的情況下，可以通過(guò)向膜模塊通入堿性液，微調(diào) 模塊自身的截留分子量大小。
還有，膜模塊的膜面積也影響處理效率，因此，優(yōu)選選擇與所希望的 處理量匹配的膜面積的模塊。
以下，舉例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。本發(fā)明不限于相關(guān)的實(shí)施例。
實(shí)施例
以下，對(duì)本實(shí)施例的有機(jī)被膜除去裝置及除去方法的概要進(jìn)行說(shuō)明。 首先，參照附圖，說(shuō)明使本發(fā)明的剝離液循環(huán)而除去基體表面的有機(jī) 被膜的裝置。
圖l是表示本發(fā)明的有機(jī)被膜的除去裝置的例子的整體圖，在新剝離
液貯槽1中，調(diào)制本發(fā)明的剝離液并貯存。向混合剝離液的貯槽2供給剝
離液。從混合剝離液的貯槽2經(jīng)由管路3向接觸槽4供給剝離液。若接觸 槽4中積存剝離液，則從基體固定器5取出具有有機(jī)被膜的基體，將其投 入接觸槽4中，使基體浸漬在剝離液中。在接觸槽4中，通過(guò)攪拌、振動(dòng)、 擺動(dòng)、起泡等向接觸槽4內(nèi)的剝離液賦予轉(zhuǎn)動(dòng)，有利于提高有機(jī)被膜的除 去速度，因此有利。尤其，攪拌剝離液不僅促進(jìn)自基體的有機(jī)被膜的剝離， 而且使剝離的有機(jī)被膜微細(xì)化而有助于作為來(lái)源于有機(jī)被膜的成分，且在 剝離液中均勻地溶解或分散來(lái)源于有機(jī)被膜的成分，因此，容易進(jìn)行接下 來(lái)實(shí)施的膜濾處理，也不發(fā)生堵塞，所以是有利的。目測(cè)確認(rèn)基體表面上 的有機(jī)被膜從基體表面除去，然后將基體從剝離液撈出，將其從接觸槽4 取出。作為將具有有機(jī)被膜的基體從基體固定器5取出，并將其浸漬在剝 離液中，然后將基體從剝離液撈出的機(jī)構(gòu)，可以使用能夠夾持基體的器具、 例如鑷子等以手動(dòng)進(jìn)行。另外，還可以使用能夠進(jìn)行這樣的操作的裝置、 例如特開2003—203856號(hào)公報(bào)中記載的機(jī)器人臂以手動(dòng)或自動(dòng)控制進(jìn)行。 其次，將含有來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的剝離液從管路6排出，將其導(dǎo)入膜 濾裝置7中。在此，過(guò)濾剝離液中含有的有機(jī)被膜。為了向膜濾裝置7導(dǎo) 入剝離液，需要施加用于通過(guò)過(guò)濾膜的壓力而導(dǎo)入。另外，膜濾裝置7中， 有機(jī)被膜逐漸堵塞過(guò)濾膜，因此，膜的流入口和流出口間的壓差逐漸增大。 壓差變大而剝離液變得難以通過(guò)過(guò)濾膜時(shí)，中止膜濾裝置7的運(yùn)行，更換 過(guò)濾膜或?qū)^(guò)濾膜進(jìn)行再生處理而再使用。在使過(guò)濾膜再生的情況下，通 常，從與通常的剝離液的流動(dòng)相反的方向?qū)ο礈煲?例如，碳酸亞乙酯(以 下稱為EC)等溶劑)施加壓力而使其通過(guò)過(guò)濾膜，有效進(jìn)行除去捕捉物 的反向洗滌。將分離了有機(jī)被膜的剝離液從管路8排出，使其循環(huán)并返回 到混合剝離液的貯槽2中。將含有來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的剝離液從管路 6向體系外連續(xù)或間歇地抽出一部分，且從新剝離液貯槽1補(bǔ)充新剝離液， 使循環(huán)的剝離液中的來(lái)源于有機(jī)被膜的成分濃度不變高。
其次，例示使用了本發(fā)明的剝離液的有機(jī)被膜的除去方法。
實(shí)施例1
在300mmX300mm尺寸的液晶用玻璃基板的表面用旋涂涂敷酚醛清 漆系抗蝕劑(東京應(yīng)化制造TFR—B)，在H(TC下預(yù)烘培90秒。準(zhǔn)備所述涂敷了抗蝕劑的基板600張，分別將其浸漬在保持于7(TC下溶解的 EC10L中30秒，然后用4(TC的超純水沖洗，反復(fù)進(jìn)行了所述抗蝕劑剝離 操作。第1張至第600張基板能夠良好地進(jìn)行抗蝕劑的剝離。在剝離處理 600張基板后，EC因所溶解的抗蝕劑而著色為深紅色。然后，在以下的條 件下，對(duì)該剝離液進(jìn)行了超濾處理。超濾膜(UF)模塊如下所述旭化成 制造ALC—1050 (中空系類型、材質(zhì)是聚丙烯腈、截留分子量是13， 000、 膜面積0.1m2)、液溫60°C、模塊入口壓力是0.19Mpa、出口壓力是O.lMpa。 經(jīng)GPC測(cè)定超濾前后的剝離液，在超濾前的碳酸亞乙酯剝離液中觀察到 依賴于抗蝕劑樹脂的高分子量成分的波峰，在超濾處理后的EC剝離液中 沒有高分子量成分的波峰，另外，剝離液的顏色也變?yōu)闊o(wú)色。如上所述， 能夠確認(rèn)由于超濾而除去了EC剝離液中的樹脂成分。另外，經(jīng)基于氣相 色譜法分析已超濾處理的EC剝離液的結(jié)果，沒有檢測(cè)到羧酸，通過(guò)GC 一MS法也沒有檢測(cè)到羧酸酯。進(jìn)而，使用剝離液，反復(fù)進(jìn)行了5次同樣 的操作的結(jié)果，沒有問(wèn)題地能夠剝離。還有，在實(shí)施例及比較例中，手動(dòng) 實(shí)施了基板的浸漬及撈出。 比較例1
與實(shí)施例同樣地處理600張基板，對(duì)著色為深紅色的EC剝離液進(jìn)行 了臭氧處理。臭氧處理?xiàng)l件如下所述，即在液溫6(TC下，利用無(wú)聲放電 型臭氧發(fā)生器(小野田cement工業(yè)制造臭氧萊克(才、/y^y夕7) OR 一3Z)，將臭氧濃度200mg/L的氧氣以3L/分鐘起泡10分鐘。起泡后的EC 是無(wú)色透明，經(jīng)GPC分析結(jié)果，在處理后沒有了來(lái)源于在臭氧處理前存 在的抗蝕劑樹脂的高分子量波峰。但是，經(jīng)用離子色譜法分析所述液體的 結(jié)果，檢測(cè)到各種羧酸總計(jì)16.0重量％，另外，通過(guò)GC—MS法檢測(cè)到 各種羧酸酯15.6重量％。進(jìn)而，將剝離液再利用于剝離的結(jié)果，在反復(fù)一 次的時(shí)點(diǎn)，剝離速度降低到一半。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
本發(fā)明以電子設(shè)備用基板等的表面清潔化為目的，可用于除去基體上 附著的有機(jī)被膜。本發(fā)明在加工半導(dǎo)體用晶片或液晶用基板等時(shí)所使用的 抗蝕劑被膜的除去中有用，尤其適合在超微細(xì)圖案設(shè)備中的抗蝕劑剝離。 進(jìn)而，本發(fā)明可以適用于基體上的油膜或涂膜等通常的有機(jī)被膜的除去。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)被膜的除去方法，其中，使剝離液與基體表面上的有機(jī)被膜接觸，并除去有機(jī)被膜，然后膜濾處理含在剝離液中的來(lái)源于有機(jī)被膜的成分，由此將所述來(lái)源于有機(jī)被膜的成分從剝離液中去除，根據(jù)需要將去除了來(lái)源于有機(jī)被膜的成分的剝離液再使用于基體表面上的有機(jī)被膜的除去中。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)被膜的除去方法，其中，剝離液以在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物為主成分。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的有機(jī)被膜的除去方法，其中， 剝離液以碳酸亞垸基酯作為主成分。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中任意一項(xiàng)所述的有機(jī)被膜的除去方法，其中， 剝離液以碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、或碳酸亞乙酯和碳酸亞丙酯的混合物為主成分。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項(xiàng)所述的有機(jī)被膜的除去方法，其中， 膜濾為超濾。
6. —種有機(jī)被膜的除去裝置，其是具有有機(jī)被膜的基體表面的有機(jī) 被膜的除去裝置，其特征在于，包括A. 貯槽，其貯存新剝離液；B. 導(dǎo)入新剝離液，且導(dǎo)入處理后的剝離液的混合剝離液貯槽；C. 從混合剝離液貯槽機(jī)構(gòu)向接觸槽供給剝離液的機(jī)構(gòu)；D. 基體固定器，其收容具有有機(jī)被膜的基體；E. 從基體固定器取出具有有機(jī)被膜的基體，并導(dǎo)入接觸槽中，在接 觸槽內(nèi)，使剝離液與基體的具有有機(jī)被膜的表面接觸，使有機(jī)被膜溶解于 剝離液中，從基體表面除去有機(jī)被膜，從接觸槽撈出除去了有機(jī)被膜的基 體的機(jī)構(gòu)；F. 從接觸槽排出溶解有機(jī)被膜的剝離液；G. 導(dǎo)入從接觸槽排出的剝離液的膜濾裝置；H. 使從膜濾裝置排出的剝離液循環(huán)，并使所述剝離液返回到混合剝 離液貯槽的機(jī)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)被膜的除去裝置，其中，膜濾裝置為超濾膜裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在不更換剝離液的情況下將半導(dǎo)體用晶片或液晶用基板等基板表面上的光敏抗蝕劑被膜從基板上除去的方法。使以在一個(gè)分子中具有兩個(gè)以上氧的有機(jī)環(huán)狀化合物例如碳酸亞烷基酯為主成分的剝離液與所述基體表面上的光敏抗蝕劑被膜接觸，除去所述被膜后，對(duì)含在剝離液中的所述被膜成分進(jìn)行超濾處理，由此從剝離液中去除，將去除了所述被膜成分的剝離液循環(huán)再利用于基體表面上的有機(jī)被膜的除去。提供具有有機(jī)被膜的基體表面的有機(jī)被膜的除去裝置，其特征在于，包括導(dǎo)入新剝離液，且導(dǎo)入處理后的剝離液的混合剝離液貯槽；從混合剝離液貯槽機(jī)構(gòu)向接觸槽供給剝離液的機(jī)構(gòu)；收容具有有機(jī)被膜的基體的基體固定器；從基體固定器取出具有有機(jī)被膜的基體，并導(dǎo)入接觸槽中，在接觸槽內(nèi)，使剝離液與基體的具有有機(jī)被膜的表面接觸，使有機(jī)被膜溶解于剝離液中，從基體表面除去有機(jī)被膜，從接觸槽撈出除去了有機(jī)被膜的基體的機(jī)構(gòu)；從接觸槽排出溶解有機(jī)被膜的剝離液；導(dǎo)入從接觸槽排出的剝離液的膜濾裝置；使從膜濾裝置排出的剝離液循環(huán)，并使所述剝離液返回到混合剝離液貯槽的機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的除去方法在經(jīng)濟(jì)性或安全性上出色，對(duì)環(huán)境也不產(chǎn)生不良影響。
文檔編號(hào)H01L21/027GK101199038SQ200680021380
公開日2008年6月11日 申請(qǐng)日期2006年3月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月22日
發(fā)明者新妻裕志, 飯沼和久 申請(qǐng)人:東亞合成株式會(huì)社