一種超低濃度氣體配置裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種超低濃度氣體配置裝置，屬于氣體制備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]—直以來(lái)，市面上較高濃度的有毒有害氣體、有機(jī)氣體等標(biāo)氣很容易購(gòu)買到，且價(jià)格不高。而超低濃度的有毒有害氣體、有機(jī)氣體等標(biāo)氣卻價(jià)格昂貴，且市售少，成為諸多實(shí)驗(yàn)室的一大困擾?，F(xiàn)有技術(shù)中的氣體制備裝置多為低濃度氣體配置，或是氣體制備裝置僅實(shí)現(xiàn)氣體的稀釋，而無(wú)法根據(jù)需求對(duì)指定一種或幾種混合氣體進(jìn)行超低濃度配置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，提出了一種超低濃度氣體配置裝置，所采用的技術(shù)方案如下:
[0004]所述氣體配置裝置包括調(diào)試空間I和實(shí)用氣箱2，所述調(diào)試氣箱I固定安裝于實(shí)用氣箱2的箱蓋內(nèi)表面上;所述調(diào)試氣箱I設(shè)有加熱平臺(tái)12，并通過支撐裝置水平固定安裝于調(diào)試氣箱I內(nèi)部;所述實(shí)用氣箱2設(shè)有注氣孔21。
[0005]優(yōu)選地，所述注氣孔21設(shè)于實(shí)用氣箱2的箱蓋上。
[0006]優(yōu)選地，所述調(diào)試氣箱I和實(shí)用氣箱2均為正方體氣箱。
[0007]優(yōu)選地，所述調(diào)試氣箱I的棱長(zhǎng)小于實(shí)用氣箱2的棱長(zhǎng);所述調(diào)試氣箱I通過箱壁密封安裝于實(shí)用氣箱2的箱蓋內(nèi)表面上，以實(shí)用氣箱2箱蓋未設(shè)有注氣孔21的蓋體作為調(diào)試氣箱I的箱蓋。
[0008]優(yōu)選地，所述調(diào)試氣箱I的箱蓋上設(shè)有氣孔11。
[0009]優(yōu)選地，所述調(diào)試氣箱I的容積為I升;所述實(shí)用氣箱2的容積為30升。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果:
[0011]本實(shí)用新型提供的氣體配置裝置能夠?qū)崿F(xiàn)超低濃度氣體的配置，裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，提高了配氣效率和配氣精度，同時(shí)能夠大大降低了試驗(yàn)成本。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型所述氣體配置裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013](I，調(diào)試氣箱;2，實(shí)用氣箱;11，氣孔;12加熱平臺(tái)；21，注氣孔)。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明，但本實(shí)用新型不受實(shí)施例的限制。
[0015]在本實(shí)用新型的描述中，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”和“豎著”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
[0016]在本實(shí)用新型的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是直接連接，亦可以是通過中間媒介間接連接，可以是兩個(gè)部件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。
[0017]此外，在本實(shí)用新型的描述中，除非另有說(shuō)明，“多個(gè)”、“多組”、“多根”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。
[0018]以下實(shí)施方式中所用材料、儀器和方法，未經(jīng)特殊說(shuō)明，均為本領(lǐng)域常規(guī)材料、儀器和方法，均可通過商業(yè)渠道獲得。
[0019]圖1為本實(shí)用新型所述氣體配置裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，該氣體配置裝置包括調(diào)試空間I和實(shí)用氣箱2，調(diào)試氣箱I固定安裝于實(shí)用氣箱2的箱蓋內(nèi)表面上;調(diào)試氣箱I設(shè)有加熱平臺(tái)12，并通過支撐裝置水平固定安裝于調(diào)試氣箱I內(nèi)部;實(shí)用氣箱2設(shè)有注氣孔21。調(diào)試氣箱I和實(shí)用氣箱2均為正方體氣箱。調(diào)試氣箱I的棱長(zhǎng)小于實(shí)用氣箱2的棱長(zhǎng);調(diào)試氣箱I通過箱壁密封安裝于實(shí)用氣箱2的箱蓋內(nèi)表面上，以實(shí)用氣箱2箱蓋未設(shè)有注氣孔21的蓋體作為調(diào)試氣箱I的箱蓋。調(diào)試氣箱I的箱蓋上設(shè)有氣孔U。調(diào)試氣箱I的容積為I升;所述實(shí)用氣箱2的容積為30升。
[0020]超低濃度氣體配置過程中，調(diào)試氣箱I為容積的氣體配置容器，用于氣體的初步配置，其所配置出的氣體濃度較高。在初步配置過程中，首先，通過調(diào)試氣箱I的氣孔U，利用微量采樣器將已知量的目標(biāo)溶液滴到加熱平臺(tái)12上，通過加熱揮發(fā)，獲得已知濃度的氣體；然后，通過計(jì)算將定量的氣體利用注射器通過注氣孔21注入到實(shí)用氣箱2中，從而得到指定超低濃度值的氣體。
[0021]雖然本實(shí)用新型已以較佳的實(shí)施例公開如上，但其并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉此技術(shù)的人，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，都可以做各種改動(dòng)和修飾，因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種超低濃度氣體配置裝置，其特征在于，所述氣體配置裝置包括調(diào)試氣箱(I)和實(shí)用氣箱(2)，所述調(diào)試氣箱(I)固定安裝于實(shí)用氣箱(2)的箱蓋內(nèi)表面上;所述調(diào)試氣箱(I)設(shè)有加熱平臺(tái)(12)，并通過支撐裝置水平固定安裝于調(diào)試氣箱(I)內(nèi)部;所述實(shí)用氣箱(2)上設(shè)有注氣孔(21)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述氣體配置裝置，其特征在于，所述注氣孔(21)設(shè)于實(shí)用氣箱(2)的箱蓋上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述氣體配置裝置，其特征在于，所述調(diào)試氣箱(I)和實(shí)用氣箱(2)均為正方體氣箱。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述氣體配置裝置，其特征在于，所述調(diào)試氣箱(I)的棱長(zhǎng)小于實(shí)用氣箱(2)的棱長(zhǎng);所述調(diào)試氣箱(I)通過箱壁密封安裝于實(shí)用氣箱(2)的箱蓋內(nèi)表面上，以實(shí)用氣箱(2)箱蓋未設(shè)有注氣孔(21)的蓋體作為調(diào)試氣箱(I)的箱蓋。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述氣體配置裝置，其特征在于，所述調(diào)試氣箱(I)的箱蓋上設(shè)有氣孔(11)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述氣體配置裝置，其特征在于，所述調(diào)試氣箱(I)的容積為I升;所述實(shí)用氣箱(2)的容積為30升。
【專利摘要】本實(shí)用新型提出了一種超低濃度氣體配置裝置，用于氣體制備，屬于氣體制備技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有氣體配置裝置無(wú)法制備超低濃度氣體的問題。該氣體配置裝置包括調(diào)試氣箱和實(shí)用氣箱，所述調(diào)試氣箱固定安裝于實(shí)用氣箱的箱蓋內(nèi)表面上；所述調(diào)試氣箱設(shè)有加熱平臺(tái)，并通過支撐裝置水平固定安裝于調(diào)試氣箱內(nèi)部；所述實(shí)用氣箱設(shè)有注氣孔。該裝置具有裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，提高配氣效率和配氣精度等特點(diǎn)。
【IPC分類】B01F3/20, B01F3/02
【公開號(hào)】CN205216614
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521088474
【發(fā)明人】陳存廣, 劉帥, 王旭明, 白雪, 王玉江
【申請(qǐng)人】哈爾濱盈江科技有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請(qǐng)日】2015年12月24日