用于將液體連續(xù)施涂到基底的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于將液體連續(xù)施涂到基底的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，已知通過各種各樣的裝置和方法(擦拭、刮涂、噴射……)將液體直接施涂到相應(yīng)基底上。這些措施的成功直接取決于所使用的液體和該液體或基底的相應(yīng)邊界條件。概括來說，在已回火的基底中直接噴射到該基底上可能是有問題的，因?yàn)橛糜诎谝后w中的物質(zhì)的施涂效果在液體的蒸發(fā)部分的情況下是不足的。例如在用于壓板的脫模劑的情況下，物質(zhì)溶解在液體中，這允許以更容易或完整的方式從壓力機(jī)的壓板釋放被壓制的材料。如果沒有脫模劑，則不得不在壓制過程后以笨重的方式清潔壓板，并且待制造的產(chǎn)品的表面可能會是不規(guī)則或者被損壞。
[0003]從DE 103 37 594 A1中已知一種用于將液體(脫模劑)施涂到基底的裝置。它涉及一種用于連續(xù)工作壓力機(jī)的壓帶的脫模劑施涂裝置，包括施涂輥和配量輥，其中施涂輥可以借由壓緊力抵靠于壓帶進(jìn)行移動，該壓緊力由待施涂到壓帶的脫模劑量限定，并且該申請公開了一種閉環(huán)控制裝置，用于根據(jù)相應(yīng)所需的脫模劑施涂量來控制壓緊力。在該公開中相關(guān)的是施涂輥通過配量輥接納它的脫模劑，該配量輥收集浸池中的脫模劑并將脫模劑轉(zhuǎn)移到施涂輥，以轉(zhuǎn)移到壓帶。該裝置在原理上證明了其與轉(zhuǎn)移到壓帶上的低耗能相關(guān)的價(jià)值，而且也示出了各種系統(tǒng)相關(guān)的缺陷。
[0004]在隨后的公開DE 10 2010 049 777 A1中提供了一種替代的潤濕裝備，其接近于與該主題相關(guān)的上述公開，并且示出了用于將液體施涂到基底的相同或相似的特征。在該案中，公開的不是壓帶作為基底，而是待在壓力機(jī)中壓緊并硬化以獲得平坦材料面板的材料塊作為基底。在該案中，也意圖使用液體作為脫模劑，以防止固化期間在壓帶上結(jié)塊。由該系統(tǒng)引起的各種缺陷也可以在該案中看到。
[0005]這些缺陷之一是不能調(diào)整與待壓材料相關(guān)的寬度。如果壓力機(jī)中的該材料的最大寬度是例如4m，并且如果在壓力機(jī)中制造寬度為3.25m的產(chǎn)品，那么會得到的0.75m的區(qū)域不需要施涂脫模劑。在該案中也不可能將不同強(qiáng)度的脫模劑在基底的寬度上適應(yīng)性地施涂到基底上。由此，不能靈活地分別施涂到基底的整個(gè)寬度上或者壓帶的寬度上或者材料塊的寬度上，也不能參照數(shù)量進(jìn)行施涂。
[0006]其它缺陷是浸池由雜質(zhì)污染。在該案中，包含污染物并來自回流的用過的液體通過施涂輥轉(zhuǎn)回到浸輥，然后到達(dá)新鮮液體。也需要捕獲不被壓帶吸收并到達(dá)入口間隙(在施涂輥和基底之間的間隙)的邊界區(qū)的過量液體。常規(guī)地也將該液體經(jīng)清潔后導(dǎo)引回到浸池。明顯地，所述液體的再生過程也會引起過濾器的不利磨損和撕裂，使得最終消耗比使用還要多的液體。
[0007]非限制性地，其它缺陷是，浸池需要特定的安裝位置，并且從技術(shù)的角度來講不可能實(shí)施復(fù)雜的安裝位置和高處浸池，由于該原因，在機(jī)器中的已知設(shè)備的可用性被限制?！緦?shí)用新型內(nèi)容】
[0008]本實(shí)用新型的目的是提供一種通用裝置，該裝置用于將液體施涂到基底以使得總體上消耗更少液體，并且根據(jù)基底的寬度，甚至在特定情形下根據(jù)在寬度上的基底的不同屬性可以調(diào)整液體的施涂。在該目的的擴(kuò)展中，具體地，液體的配量能力得以提高，并且特別在不同生產(chǎn)和基底條件的高端措施的情形下能夠進(jìn)行調(diào)整。
[0009]本實(shí)用新型的提供一種用于將液體連續(xù)施涂到基底的裝置，該裝置特別是用于壓力機(jī)中制造材料的過程，液體藉由施涂裝置轉(zhuǎn)移到基底，施涂裝置包括施涂輥，所述施涂輥繞施涂輥的軸旋轉(zhuǎn)。針對裝置的措施是配量裝置布置成將液體施涂到施涂裝置的正在旋轉(zhuǎn)的施涂輥上，其中該配量裝置適于將液體滴到、噴射到或灌注到施涂輥上。
[0010]有利地，施涂裝置或施涂輥相對于基底可動地布置。配量裝置適用于根據(jù)基底的寬度設(shè)定待施涂的液體的寬度。
[0011]特別在用一個(gè)或多個(gè)噴嘴噴射液體時(shí)，有利的是，可根據(jù)基底的寬度來調(diào)整待施涂的液體，并且僅為在實(shí)際上設(shè)置有基底的區(qū)域中向施涂輥提供液體。
[0012]因此，如果在特別優(yōu)選的實(shí)施例中，基底的行進(jìn)由傳感器跟蹤并且配量裝置跟隨該基底行進(jìn)，則是有利的。在傳送帶上的材料塊可以與例如特定區(qū)域中的理想線偏離。該裝置的構(gòu)造任務(wù)是:在邊界區(qū)中的單獨(dú)的配量裝置(例如多個(gè)彼此相鄰的噴嘴)是否停用或致動。配量裝置也可以進(jìn)行單獨(dú)地移位，并且可以根據(jù)它們的適用外形(如噴射霧錐)按需要來進(jìn)行調(diào)整。
[0013]最終，可以考慮機(jī)械噴射限制，其可以根據(jù)基底的邊界區(qū)來主動地(致動器)或者被動地(由基底本身)移位。機(jī)械邊界提供這樣的優(yōu)勢，即液體而不受由于沖擊在邊界上而導(dǎo)致的污染，并且一般可以直接在邊界處沒有任何過濾作用的情況下導(dǎo)引回到配量裝置(例如藉由收集槽)。
[0014]根據(jù)該實(shí)施例，基底和/或施涂裝置或施涂輥可以運(yùn)動以根據(jù)相應(yīng)條件來調(diào)整施涂方式或質(zhì)量。具體地，也可以根據(jù)機(jī)器或基底來調(diào)整該裝置，而不考慮安裝位置。
[0015]該基底優(yōu)選地是材料帶或者平坦的機(jī)械元件，特別地是壓力機(jī)的鋼帶或壓板。該方法和裝置能以特別優(yōu)選的方式應(yīng)用于連續(xù)工作雙帶式壓力機(jī)或者輥壓機(jī)中。
[0016]作為替代或者以組合方式，可以至少僅部分地沿著施涂輥來施涂液體，并且可以沿著施涂輥在基底和施涂輥之間的入口間隙中分布液體。
[0017]作為替代或者以組合方式，施涂到施涂輥的液體的寬度根據(jù)基底的寬度進(jìn)行設(shè)定，特別地通過沿著施涂輥的軸停用或者調(diào)整外側(cè)的配量裝置。
[0018]作為替代或者以組合方式，當(dāng)使用多個(gè)配量裝置時(shí)，它們可以沿著施涂輥的軸進(jìn)行布置，并且它們可以特別地以單獨(dú)和/或成組的方式受控或受調(diào)節(jié)。此也特別地包括可以停止單獨(dú)的各配量裝置。
[0019]作為替代或者以組合方式，可以在施涂輥的回流中和/或在施涂輥與基底接觸后，在基底上和/或在配量裝置和液體薄膜的入口間隙之間確定液體膜，并且該液體膜可以用以藉由開環(huán)或閉環(huán)控制裝置來控制配量裝置或液體的施涂量。
[0020]也能以特別優(yōu)選的方式監(jiān)測入口間隙，以確定是否有太少或者太多液體，以因此控制或調(diào)節(jié)配量裝置。
[0021]作為替代或者以組合方式，可以沿著施涂輥的軸使用可移位(噴射)邊界，優(yōu)選地，該可移位(噴射)邊界具有用于液體的收集槽。所述邊界主動或被動地移位，并且應(yīng)當(dāng)跟隨基底的邊界區(qū)。當(dāng)配量裝置藉由例如噴射霧錐來覆蓋施涂輥的預(yù)定局部區(qū)域時(shí)，此可以是特別有用的，但配量裝置不能夠足夠精密地調(diào)整以關(guān)于所設(shè)定的寬度來進(jìn)行改變，或者技術(shù)努力會太大。
[0022]作為替代或者以組合方式，配量裝置可以特別優(yōu)選地根據(jù)表面屬性和/或基底密度而在基底的整個(gè)寬度上進(jìn)行不同的調(diào)整。
[0023]作為替代或者以組合方式，配量裝置可以適用于根據(jù)基底的寬度設(shè)定待施涂的液體的寬度。
[0024]作為替代或者以組合方式，當(dāng)使用多個(gè)配量裝置時(shí)，它們可以沿著施涂輥的軸進(jìn)行設(shè)置，其中配量裝置也可以布置成能夠關(guān)于施涂輥的軸進(jìn)行軸向和/或徑向地調(diào)整。
[0025]作為替代或者以組合方式，多個(gè)配量裝置可以單獨(dú)或成組的方式進(jìn)行受控或受調(diào)
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[0026]作為替代或者以組合方式，至少一個(gè)噴嘴可以布置為配量裝置。
[0027]可以特別是規(guī)定，在施涂輥回流中和/或施涂輥和基底接觸之后，多個(gè)傳感器可以布置在基底上，以檢測液體膜，并且這些傳感器與開環(huán)或閉環(huán)控制裝置進(jìn)行有效連接，以控制液體或者配量裝置的施涂量。
[0028]作為替代或者以組合方式，可以沿著施涂輥的軸布置可移位噴射邊界，優(yōu)選地，該可移位噴射邊界具有用于液體的收集槽。具體地，該可移位噴射邊界可以布置成能夠主動或被動地進(jìn)行移位。
[0029]作為替代或者以組合方式，至少外側(cè)的配量裝置可以布置成使得它們沿施涂輥的軸可被停用。
[0030]如果該裝置用在壓力機(jī)中，并且材料帶或平坦機(jī)械元件布置為基底，則是特別有