一種電鍍廢水處理綜合沉淀池的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于廢水處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種電鍍廢水處理綜合沉淀池。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著國家經(jīng)濟的迅速發(fā)展，環(huán)保要求也越來越嚴(yán)格，電鍍工廠也不得不開始重視廢水處理問題了，而且越是國內(nèi)較發(fā)達地區(qū)環(huán)保部門對于偷排或不符合污水排放標(biāo)準(zhǔn)的工廠處罰越嚴(yán)格，以前很多工廠將廢水給廢水處理廠回收，由于廢水濃度高、有毒，每年要承擔(dān)十幾萬甚至幾十萬的廢水外運成本，現(xiàn)在很多工廠自己進行廢水處理，成套水處理設(shè)備需要絮凝設(shè)備、沉淀設(shè)備、斜板沉淀設(shè)備、曝氣生化設(shè)備、活性污泥沉淀設(shè)備、污泥回流設(shè)備、廢水過濾設(shè)備、污泥處理設(shè)備等等，其中在最后一道沉淀出水時經(jīng)常會出現(xiàn)污泥上浮，造成出水的水質(zhì)不達標(biāo)，需要二次處理，勞動時間長、電耗、設(shè)備損耗大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決上述問題，本實用新型公開了一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，結(jié)構(gòu)科學(xué)，使用方便，出水時無雜質(zhì)上浮，水質(zhì)達到國標(biāo)一級排放標(biāo)準(zhǔn)，重金屬離子符合第一類污染物最高允許排放濃度。
[0004]為達到上述目的，本實用新型的技術(shù)方案如下:
[0005]一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:包括上方開口的池體，池體內(nèi)部被隔板一、隔板二分為進料區(qū)、引流區(qū)、過濾區(qū)，進料區(qū)的上方設(shè)有進料口，隔板二與池體下方之間設(shè)有進水口，引流區(qū)下方設(shè)有穩(wěn)流筒，過濾區(qū)上方設(shè)有過濾板，下方設(shè)有過濾層，過濾板上方設(shè)有出料口，所述出料口、隔板二高于隔板一，所述引流區(qū)、過濾區(qū)的底部往引流區(qū)傾斜，進料區(qū)、引流區(qū)下方設(shè)有出污口。
[0006]作為本實用新型的一種改進，所述引流區(qū)上方設(shè)有斜流板，斜流板的下端設(shè)有鋸齒形的小孔。
[0007]作為本實用新型的一種改進，所述斜流板從隔板一往隔板二向下傾斜，所述小孔緊貼隔板二。
[0008]作為本實用新型的一種改進，所述過濾板為斜板。
[0009]作為本實用新型的一種改進，所述過濾層為細石子層。
[0010]本實用新型的有益效果是:
[0011 ] 本實用新型所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，增加了進料區(qū)、引流區(qū)，使得沉淀池沿邊緣進水，這種獨特的進水方式能夠保證水流均勻，控制較小的流速，減少擾動，并且引流區(qū)下方設(shè)有穩(wěn)流筒，污水會在沉淀池內(nèi)形成螺旋環(huán)流，這種環(huán)流的形式加長了污水在沉淀池停留的時間，增強了污水的沉淀效果；另外，在過濾區(qū)上方設(shè)有過濾板，下方設(shè)有過濾層，多層過濾，增加了污泥沉淀面積，大大提高了沉淀效率，出水時無雜質(zhì)上浮，水質(zhì)達到國標(biāo)一級排放標(biāo)準(zhǔn)，重金屬離子符合第一類污染物最高允許排放濃度；所述引流區(qū)、過濾區(qū)的底部往引流區(qū)傾斜，進料區(qū)、引流區(qū)下方設(shè)有出污口，排污簡單，工作效率提高。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2為本實用新型所述的斜流板不意圖。
[0014]附圖標(biāo)記列表:
[0015]1、池體，2、隔板一，3、隔板二，4、進料區(qū)，5、引流區(qū)，6、過濾區(qū)，7、進料口，8、進水口，9、穩(wěn)流筒，10、過濾板，11、過濾層，12、出料口，13、過濾區(qū)的底部，14、出污口，15、斜流板，16、小孔。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】，進一步闡明本實用新型，應(yīng)理解下述【具體實施方式】僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。
[0017]如圖所示，本實用新型所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，包括上方開口的池體1，池體I內(nèi)部被隔板一 2、隔板二 3分為進料區(qū)4、引流區(qū)5、過濾區(qū)6，進料區(qū)4的上方設(shè)有進料口 7，隔板二 3與池體I下方之間設(shè)有進水口 8，引流區(qū)5下方設(shè)有穩(wěn)流筒9，過濾區(qū)6上方設(shè)有過濾板10，下方設(shè)有過濾層11，過濾板10上方設(shè)有出料口 12，所述出料口 12、隔板二 3高于隔板一 2，所述引流區(qū)5、過濾區(qū)的底部13往引流區(qū)5傾斜，進料區(qū)4、引流區(qū)5下方設(shè)有出污口 14。
[0018]本實用新型所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，用于廢水處理的最后一道工序，其出來的清水可以直接使用了，本實用新型在池體內(nèi)增加了進料區(qū)4、引流區(qū)5，使得廢水從連接口 7進入到進料區(qū)4，將雜質(zhì)先沉淀一下，然后廢水沿邊緣進水到引流區(qū)5，這種獨特的進水方式能夠保證水流均勻，控制較小的流速，減少擾動，并且引流區(qū)5下方設(shè)有穩(wěn)流筒9，污水會在引流區(qū)5下方形成螺旋環(huán)流，這種環(huán)流的形式加長了污水在過濾區(qū)6停留的時間，增強了污水的沉淀效果；另外，在過濾區(qū)6上方設(shè)有過濾板10，下方設(shè)有過濾層11，多層過濾，增加了污泥沉淀面積，大大提高了沉淀效率，出水時無雜質(zhì)上浮，水質(zhì)達到國標(biāo)一級排放標(biāo)準(zhǔn)，重金屬離子符合第一類污染物最高允許排放濃度；所述出料口 12、隔板二 3高于隔板一 2，廢水可以順利從進料區(qū)4流入引流區(qū)5，所述引流區(qū)5、過濾區(qū)6的底部往引流區(qū)傾斜，進料區(qū)、引流區(qū)下方設(shè)有出污口 14，排污簡單，工作效率提高。
[0019]為了保證水流均勻，減少流速，減少擾動，本實用新型在所述引流區(qū)5上方設(shè)有斜流板15，斜流板15的下端設(shè)有鋸齒形的小孔16，廢水慢慢從小孔16往下流，不會將下方的污泥、雜質(zhì)攪起，減少雜質(zhì)上浮的幾率，其所述斜流板15從隔板一 2往隔板二 3向下傾斜，所述小孔16緊貼隔板二 3，使廢水只能沿隔板二 3的側(cè)面流下，更加輕柔，少波動。
[0020]本實用新型所述過濾板10為斜板，過濾效果好。
[0021]本實用新型所述過濾層11為細石子層，能夠最大程度的攔截上浮的雜質(zhì)，確保出來的水質(zhì)達標(biāo)。
[0022]本實用新型方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述實施方式所公開的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【主權(quán)項】
1.一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:包括上方開口的池體，池體內(nèi)部被隔板一、隔板二分為進料區(qū)、引流區(qū)、過濾區(qū)，進料區(qū)的上方設(shè)有進料口，隔板二與池體下方之間設(shè)有進水口，引流區(qū)下方設(shè)有穩(wěn)流筒，過濾區(qū)上方設(shè)有過濾板，下方設(shè)有過濾層，過濾板上方設(shè)有出料口，所述出料口、隔板二高于隔板一，所述引流區(qū)、過濾區(qū)的底部往引流區(qū)傾斜，進料區(qū)、引流區(qū)下方設(shè)有出污口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:所述引流區(qū)上方設(shè)有斜流板，斜流板的下端設(shè)有鋸齒形的小孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:所述斜流板從隔板一往隔板二向下傾斜，所述小孔緊貼隔板二。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:所述過濾板為斜板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，其特征在于:所述過濾層為細石子層。
【專利摘要】本實用新型公開了一種電鍍廢水處理綜合沉淀池，包括上方開口的池體，池體內(nèi)部被隔板一、隔板二分為進料區(qū)、引流區(qū)、過濾區(qū)，進料區(qū)的上方設(shè)有進料口，隔板二與池體下方之間設(shè)有進水口，引流區(qū)下方設(shè)有穩(wěn)流筒，過濾區(qū)上方設(shè)有過濾板，下方設(shè)有過濾層，過濾板上方設(shè)有出料口，所述出料口、隔板二高于隔板一，所述引流區(qū)、過濾區(qū)的底部往引流區(qū)傾斜，進料區(qū)、引流區(qū)下方設(shè)有出污口，本實用新型所述的電鍍廢水處理綜合沉淀池，結(jié)構(gòu)科學(xué)，使用方便，出水時無雜質(zhì)上浮，水質(zhì)達到國標(biāo)一級排放標(biāo)準(zhǔn)，重金屬離子符合第一類污染物最高允許排放濃度。
【IPC分類】B01D36-04
【公開號】CN204601823
【申請?zhí)枴緾N201520312884
【發(fā)明人】張雷, 趙海, 姜廣彪, 劉江, 馬思遠, 何西東
【申請人】安徽深澤電子科技有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請日】2015年5月15日