本技術(shù)涉及多晶硅精餾除碳設(shè)備,具體為用于電子級(jí)多晶硅精餾的除碳設(shè)備。
背景技術(shù):
1、由干燥硅粉與干燥氯化氫氣體在一定條件下氯化,再經(jīng)冷凝、精餾、還原之后可以得到粗三氯氫硅,目前用于降低三氯氫硅中碳雜質(zhì)含量的方法主要有常規(guī)精餾法、反應(yīng)精餾法、吸附法、萃取精餾法等。
2、常規(guī)精餾法中會(huì)使用吸附柱,吸附柱的內(nèi)部為除硼、磷雜質(zhì)專用吸附劑,用于吸附精餾法中產(chǎn)生的硼、磷雜質(zhì),但是現(xiàn)有的吸附柱內(nèi)部的吸附介質(zhì),一般都是固定安裝,當(dāng)內(nèi)部吸附介質(zhì)在長(zhǎng)時(shí)間使用后失去吸附功能后,需要完整更換吸附柱,難以做到單獨(dú)去更換吸附介質(zhì),會(huì)產(chǎn)生一定經(jīng)濟(jì)成本的浪費(fèi)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,包括高沸回收精餾塔,所述高沸回收精餾塔通過管道連接有第一吸附柱,所述第一吸附柱通過管道連接有固定床,所述固定床頭通過管道連接有三氯氫硅分離精餾塔,所述三氯氫硅分離精餾塔通過管道連接有第二吸附柱,所述第一吸附柱和第二吸附柱的結(jié)構(gòu)均相同,所述第一吸附柱的內(nèi)部陣列安裝有多個(gè)固定半環(huán),多個(gè)所述固定半環(huán)的一端均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)半環(huán),所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)和固定半環(huán)的另一端通過多個(gè)螺絲螺紋連接,所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)和固定半環(huán)之間共同安裝有安裝環(huán),所述安裝環(huán)的內(nèi)部設(shè)置有活性炭吸附劑。
3、優(yōu)選的,所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)的下端固定安裝有半圓形的底板,所述底板的弧度和安裝環(huán)的弧度一致。
4、優(yōu)選的,所述固定半環(huán)和旋轉(zhuǎn)半環(huán)的內(nèi)壁表面均安裝有一個(gè)限位結(jié)構(gòu),所述限位結(jié)構(gòu)和底板之間的間距大于安裝環(huán)的高度。
5、優(yōu)選的,所述限位結(jié)構(gòu)包括凹槽、彈簧和限位板,所述固定半環(huán)和旋轉(zhuǎn)半環(huán)的內(nèi)壁表面均開設(shè)有一個(gè)凹槽,所述凹槽的內(nèi)部安裝有彈簧,所述彈簧的另一端安裝有限位板,所述限位板的另一端延伸至凹槽的外部。
6、優(yōu)選的,所述第一吸附柱或第二吸附柱內(nèi)部的任一安裝環(huán)的上端安裝有溫度感應(yīng)器。
7、優(yōu)選的,所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)的外部表面安裝有把手。
8、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:
9、1、本電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,排出的三氯氫硅進(jìn)入高沸回收精餾塔內(nèi)部精餾,排出含濃縮碳及硼、磷雜質(zhì)進(jìn)入第一吸附柱進(jìn)行吸附,初步吸附后通過管道進(jìn)入固定床進(jìn)行反應(yīng)除碳,反應(yīng)除碳后的物料進(jìn)入三氯氫硅分離精餾塔進(jìn)行分離精餾,精餾后的物料進(jìn)入第二吸附柱進(jìn)行雜質(zhì)吸附,吸附后高純?nèi)葰涔璺祷叵到y(tǒng)使用,當(dāng)需要更換第一吸附柱或者第二吸附柱內(nèi)部的活性炭吸附劑時(shí),先取下螺絲,轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)半環(huán),旋轉(zhuǎn)半環(huán)帶動(dòng)安裝環(huán)和活性炭吸附劑脫離第一吸附柱或者第二吸附柱,此時(shí)可以進(jìn)行活性炭吸附劑的更換,更換完成后,將旋轉(zhuǎn)半環(huán)進(jìn)行復(fù)位,并通過多個(gè)螺絲將旋轉(zhuǎn)半環(huán)和固定半環(huán)進(jìn)行固定,通過可轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)半環(huán)帶動(dòng)活性炭吸附劑脫離第一吸附柱或者第二吸附柱,可以方便使用者進(jìn)行更換,節(jié)約一定的經(jīng)濟(jì)成本。
10、2、本電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,通過限位結(jié)構(gòu)可以限定安裝環(huán)和活性炭吸附劑的位置,避免第一吸附柱或者第二吸附柱在移動(dòng)過程中活性炭吸附劑產(chǎn)生移動(dòng)的現(xiàn)象。
1.一種電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,包括高沸回收精餾塔(1),其特征在于:所述高沸回收精餾塔(1)通過管道(8)連接有第一吸附柱(2),所述第一吸附柱(2)通過管道(8)連接有固定床(3),所述固定床(3)頭通過管道(8)連接有三氯氫硅分離精餾塔(4),所述三氯氫硅分離精餾塔(4)通過管道(8)連接有第二吸附柱(5),所述第一吸附柱(2)和第二吸附柱(5)的結(jié)構(gòu)均相同,所述第一吸附柱(2)的內(nèi)部陣列安裝有多個(gè)固定半環(huán)(10),多個(gè)所述固定半環(huán)(10)的一端均轉(zhuǎn)動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6),所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)和固定半環(huán)(10)的另一端通過多個(gè)螺絲(9)螺紋連接,所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)和固定半環(huán)(10)之間共同安裝有安裝環(huán)(12),所述安裝環(huán)(12)的內(nèi)部設(shè)置有活性炭吸附劑(14)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)的下端固定安裝有半圓形的底板(15),所述底板(15)的弧度和安裝環(huán)(12)的弧度一致。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,其特征在于:所述固定半環(huán)(10)和旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)的內(nèi)壁表面均安裝有一個(gè)限位結(jié)構(gòu)(11),所述限位結(jié)構(gòu)(11)和底板(15)之間的間距大于安裝環(huán)(12)的高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,其特征在于:所述限位結(jié)構(gòu)(11)包括凹槽(1101)、彈簧(1102)和限位板(1103),所述固定半環(huán)(10)和旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)的內(nèi)壁表面均開設(shè)有一個(gè)凹槽(1101),所述凹槽(1101)的內(nèi)部安裝有彈簧(1102),所述彈簧(1102)的另一端安裝有限位板(1103),所述限位板(1103)的另一端延伸至凹槽(1101)的外部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,其特征在于:所述第一吸附柱(2)或第二吸附柱(5)內(nèi)部的任一安裝環(huán)(12)的上端安裝有溫度感應(yīng)器(13)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子級(jí)多晶硅精餾除碳設(shè)備,其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)半環(huán)(6)的外部表面安裝有把手(7)。