本技術(shù)涉及試管石墨加熱，尤其涉及一種試管石墨加熱座。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)實(shí)驗(yàn)中經(jīng)常需要對試劑進(jìn)行加熱，現(xiàn)階段加熱效果較好的為石墨加熱設(shè)備，例如專利202123216425.0?一種新型石墨加熱板，采用試管架和石墨加熱板，試管架放置試管，石墨加熱板來對試管進(jìn)行加熱；再例如，例如專利202320478707.8?一種石墨消解儀，石墨主體頂面上開設(shè)有若干均勻排布、頂端開口且豎向設(shè)置的消解孔，每個(gè)所述消解孔內(nèi)放置一個(gè)聚四氟乙烯材質(zhì)的消解試管，將試管插入至消解孔內(nèi)，以石墨主體對其進(jìn)行加熱。

2、對于上述現(xiàn)有技術(shù)，還存在以下缺點(diǎn)：試管單孔位插放，進(jìn)行加熱，不便于進(jìn)行整體轉(zhuǎn)移，并且，傳統(tǒng)石墨加熱配套試管在加熱中，試管內(nèi)供溶劑沸騰的高度不足，導(dǎo)致溶劑沸騰時(shí)，易將試劑濺出，存在危險(xiǎn)，且不便于清理石墨加熱設(shè)備。因此，如何便于試管在石墨加熱座上整體轉(zhuǎn)移并防止沸騰濺出是需要解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此，有必要提供一種試管石墨加熱座，解決現(xiàn)有技術(shù)中如何便于試管在石墨加熱座上整體轉(zhuǎn)移并防止沸騰濺出的技術(shù)問題。

2、為達(dá)到上述技術(shù)目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案提供一種試管石墨加熱座，包括：

3、石墨加熱座，其上呈陣列分布的開設(shè)有若干個(gè)試管槽；

4、轉(zhuǎn)移支架，其包括平撐板以及若干個(gè)支撐桿，所述平撐板上開設(shè)有若干個(gè)插孔，且所述插孔與所述試管槽一一對應(yīng)，所述支撐桿設(shè)置在所述平撐板底部，并與所述石墨加熱座插接；以及

5、實(shí)驗(yàn)試管，其包括主管體、階臺以及延伸管部，所述延伸管部設(shè)置在所述主管體的頂端，所述階臺設(shè)置在所述主管體的頂端外側(cè)，用于擱置在所述平撐板的頂部。

6、進(jìn)一步的，所述支撐桿包括桿體和墊腳，所述墊腳的外徑大于所述桿體的外徑，且所述墊腳可拆卸的設(shè)置在所述桿體的底端，所述石墨加熱座包括加熱座體以及若干個(gè)支撐座，若干個(gè)所述支撐座設(shè)置在所述加熱座體的外側(cè)，且所述墊腳與所述支撐座一一對應(yīng)的插接。

7、進(jìn)一步的，所述轉(zhuǎn)移支架還包括輔助架層，其位于所述平撐板的下方，并與若干個(gè)所述支撐桿均套裝，所述輔助架層上開設(shè)有若干個(gè)定位孔，且所述定位孔與所述插孔一一對應(yīng)。

8、進(jìn)一步的，所述輔助架層的頂部設(shè)置有若干個(gè)護(hù)欄，所述平撐板的頂部開設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)向孔，且所述護(hù)欄與所述導(dǎo)向孔一一對應(yīng)的滑動連接。

9、進(jìn)一步的，所述護(hù)欄的形狀呈倒u形。

10、進(jìn)一步的，所述護(hù)欄的內(nèi)側(cè)設(shè)置有若干個(gè)加固桿。

11、進(jìn)一步的，所述平撐板的兩側(cè)均設(shè)置有隔熱把手。

12、進(jìn)一步的，所述墊腳的頂部開設(shè)有凹槽，且所述桿體的底端與所述凹槽螺紋連接。

13、進(jìn)一步的，所述石墨加熱座上設(shè)置有升降機(jī)構(gòu)，其上具有升降端，所述升降機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述加熱座體上，且所述支撐座設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)的升降端上，其通過所述升降機(jī)構(gòu)與所述加熱座體連接，所述升降機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述支撐座進(jìn)行升降。

14、進(jìn)一步的，所述支撐座和所述支撐桿的數(shù)量均為四個(gè)，且均勻分布在所述石墨加熱座的外周。

15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果：通過轉(zhuǎn)移支架與實(shí)驗(yàn)試管上的階臺配合，可對實(shí)驗(yàn)試管進(jìn)行支撐和轉(zhuǎn)移，并便于快速的插裝至石墨加熱座，以及將多個(gè)實(shí)驗(yàn)試管同步插入試管槽加熱和脫離試管槽轉(zhuǎn)移，通過主管體和延伸管部組成兩段式試管，并以階臺作為分界線，便于控制溶劑在分界線以下，并以延伸管部作為沸騰的容置空間，避免溶劑沸騰時(shí)濺出。

技術(shù)特征：

1.一種試管石墨加熱座，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述支撐桿包括桿體和墊腳，所述墊腳的外徑大于所述桿體的外徑，且所述墊腳可拆卸的設(shè)置在所述桿體的底端，所述石墨加熱座包括加熱座體以及若干個(gè)支撐座，若干個(gè)所述支撐座設(shè)置在所述加熱座體的外側(cè)，且所述墊腳與所述支撐座一一對應(yīng)的插接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述轉(zhuǎn)移支架還包括輔助架層，其位于所述平撐板的下方，并與若干個(gè)所述支撐桿均套裝，所述輔助架層上開設(shè)有若干個(gè)定位孔，且所述定位孔與所述插孔一一對應(yīng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述輔助架層的頂部設(shè)置有若干個(gè)護(hù)欄，所述平撐板的頂部開設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)向孔，且所述護(hù)欄與所述導(dǎo)向孔一一對應(yīng)的滑動連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述護(hù)欄的形狀呈倒u形。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述護(hù)欄的內(nèi)側(cè)設(shè)置有若干個(gè)加固桿。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述平撐板的兩側(cè)均設(shè)置有隔熱把手。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述墊腳的頂部開設(shè)有凹槽，且所述桿體的底端與所述凹槽螺紋連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述石墨加熱座上設(shè)置有升降機(jī)構(gòu)，其上具有升降端，所述升降機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述加熱座體上，且所述支撐座設(shè)置在所述升降機(jī)構(gòu)的升降端上，其通過所述升降機(jī)構(gòu)與所述加熱座體連接，所述升降機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述支撐座進(jìn)行升降。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的試管石墨加熱座，其特征在于，所述支撐座和所述支撐桿的數(shù)量均為四個(gè)，且均勻分布在所述石墨加熱座的外周。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)的技術(shù)方案提供一種試管石墨加熱座，包括石墨加熱座、轉(zhuǎn)移支架以及實(shí)驗(yàn)試管，石墨加熱座其上呈陣列分布的開設(shè)有若干個(gè)試管槽；轉(zhuǎn)移支架其包括平撐板以及若干個(gè)支撐桿，所述平撐板上開設(shè)有若干個(gè)插孔，且所述插孔與所述試管槽一一對應(yīng)，所述支撐桿設(shè)置在所述平撐板底部，并與所述石墨加熱座插接；實(shí)驗(yàn)試管其包括主管體、階臺以及延伸管部。本技術(shù)通過轉(zhuǎn)移支架上與實(shí)驗(yàn)試管上的階臺配合，可對實(shí)驗(yàn)試管進(jìn)行支撐和轉(zhuǎn)移，通過主管體和延伸管部組成兩段式試管，并以階臺作為分界線，便于控制溶劑在分界線以下，并以延伸管部作為沸騰的容置空間，避免溶劑沸騰時(shí)濺出。

技術(shù)研發(fā)人員：儲濤,盧勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者：湖北鼎泰高科有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240507
技術(shù)公布日：2025/1/9