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一種用于光催化二氧化碳還原和水體凈化的耐氧可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置

文檔序號:40563983發(fā)布日期:2025-01-03 11:24閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種in-mof/go材料,其特征在于,其包括氧化石墨烯(go)及生長于氧化石墨烯(go)上的in-mof。

2.如權(quán)利要求1所述的in-mof/go材料,其特征在于,所述in-mof/go材料中,in-mof的質(zhì)量百分比為10~20%。

3.權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括將銦鹽前驅(qū)體和有機(jī)配體通過原位反應(yīng)生長在氧化石墨烯(go)上。

4.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述銦鹽前驅(qū)體、有機(jī)配體、氧化石墨烯(go)的反應(yīng)質(zhì)量比為1:(0.5~2):(2~50)。

5.一種可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置,其特征在于,其含有權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料和/或由權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料制備得到。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,所述可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置還包括基底,所述基底上修飾有所述in-mof/go材料。

7.權(quán)利要求5或6所述的可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括將含有權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料的溶液通過抽濾法修飾于基底上。

8.一種光催化系統(tǒng),其特征在于,其含有權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料和/或權(quán)利要求5或6所述的可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置。

9.權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料和/或權(quán)利要求5或6所述的可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置和/或權(quán)利要求8所述的光催化系統(tǒng)在用于將二氧化碳光催化還原和/或水體凈化中的應(yīng)用。

10.一種光催化二氧化碳還原和水體凈化的方法,其特征在于,包括以二氧化碳為原料,以權(quán)利要求1或2所述的in-mof/go材料和/或權(quán)利要求5或6所述的可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置為催化劑,以水為還原劑,在光照條件下發(fā)生二氧化碳還原和水氧化反應(yīng)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種用于光催化二氧化碳還原和水體凈化的耐氧可漂浮二維異質(zhì)結(jié)裝置,該裝置巧妙地集成了光催化二氧化碳還原與水體凈化功能,且能穩(wěn)定漂浮。本發(fā)明通過采用動力學(xué)調(diào)控策略,在單層氧化石墨烯上原位生長了In?MOF納米片,并通過抽濾法將此異質(zhì)結(jié)構(gòu)與聚四氟乙烯膜集成,制備得到了對二氧化碳具有高度的吸附偏好性,因而在低濃度二氧化碳環(huán)境下展現(xiàn)出卓越的還原性能。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,在模擬的燃燒廢氣環(huán)境中,其一氧化碳生成速率高達(dá)762.5μmol?g<supgt;?1</supgt;h<supgt;?1</supgt;,凸顯了其出色的穩(wěn)定性與效率。同時該裝置可以去除真實(shí)水體中的污染物,實(shí)現(xiàn)了水質(zhì)凈化與二氧化碳轉(zhuǎn)化的高效耦合,極大地拓展了其應(yīng)用價值。

技術(shù)研發(fā)人員:盛樺,張志勇,趙進(jìn)才,陳春城,宋文靜,章宇超,馬萬紅,李驥堃,籍宏偉,張一帆
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中國科學(xué)院化學(xué)研究所
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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