本實用新型涉及家庭垃圾處理的技術(shù)領域,具體為一種復合粉碎刀盤組件。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的家用垃圾處理器其的粉碎腔內(nèi),其粉碎刀盤上表面上布置有切割刀片,且切割刀片上凸于粉碎刀盤,在粉碎物料沿著粉碎腔和刀盤之間的縫隙流入下方腔體時,粉碎物料的粒徑較大,容易產(chǎn)生堵料情況。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對上述問題,本實用新型提供了一種復合粉碎刀盤組件,其使得從粉碎刀盤的外環(huán)間隙流入下方腔體的垃圾經(jīng)過再次粉碎,保證了垃圾的粉碎率,不易產(chǎn)生堵料。
一種復合粉碎刀盤組件,其技術(shù)方案是這樣的:其包括粉碎刀盤,所述粉碎刀盤的上端面設置有上凸的粉碎元件,其特征在于:所述粉碎刀盤的下端面外圈位置環(huán)向均布有反面粉碎元件,所述反面粉碎元件的外端側(cè)凸于所述粉碎刀盤的外圈環(huán)面,所述反面粉碎元件的內(nèi)端上部固裝于所述粉碎刀盤的下端面外圈位置。
其進一步特征在于:所述粉碎刀盤的上端面的外緣位置設置有至少兩圈上端面不在同一高度上的粉碎齒圈,即其至少包括外圈粉碎齒圈、內(nèi)圈粉碎齒圈,所有的粉碎齒圈的上部組合形成的齒型階梯式粉碎腔,所述粉碎刀盤的上端面的位于所述內(nèi)圈粉碎齒圈的內(nèi)圈區(qū)域內(nèi)設置有的至少一組上凸的粉碎元件;
相鄰的粉碎齒圈的內(nèi)外端環(huán)面緊密貼合;
所述粉碎齒圈的上端面高度自外圈向內(nèi)圈逐步遞增,使得整個粉碎齒圈呈階梯狀布置,使得粉碎后的物料方便流出;
所述外圈粉碎齒圈的上表面上環(huán)布有若干下凹的第一粉碎齒槽,所述第一粉碎齒槽的底端面平齊于所述粉碎刀盤的上表面;
所述內(nèi)圈粉碎齒圈的上表面環(huán)布有若干上凸的第二粉碎齒結(jié)構(gòu);
各組所述粉碎元件中的粉碎組件分別以粉碎刀盤的中心為圓心環(huán)向均勻布置,相鄰各組的粉碎元件互不干涉布置;
所述粉碎元件外端部分延伸至對應的所述內(nèi)圈粉碎齒圈的配合臺階的位置處,使得粉碎元件和內(nèi)圈粉碎齒圈配合,達到更佳的粉碎效果;
所述粉碎刀盤的中心位置設置有中心孔,所述中心孔用于固裝轉(zhuǎn)軸。
采用上述技術(shù)方案后,由于粉碎刀盤的下端面外圈位置環(huán)向均布有反面粉碎元件,所述反面粉碎元件的外端側(cè)凸于所述粉碎刀盤的外圈環(huán)面,粉碎刀盤轉(zhuǎn)動帶動上端面的粉碎元件對垃圾進行粉碎,且使得從粉碎刀盤的外環(huán)間隙流入下方腔體的垃圾經(jīng)過反面粉碎元件再次粉碎,保證了垃圾的粉碎率,不易產(chǎn)生堵料。
附圖說明
圖1為本實用新型的主視圖結(jié)構(gòu)示意圖(局部剖視);
圖2為圖1的俯視圖結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中序號所對應的名稱如下:
粉碎刀盤1、反面粉碎元件2、外圈粉碎齒圈3、內(nèi)圈粉碎齒圈4、齒型階梯式粉碎腔5、第一粉碎齒槽6、第二粉碎齒結(jié)構(gòu)7、中心孔8、第一粉碎元件9、第二粉碎元件10、配合臺階11。
具體實施方式
一種復合粉碎刀盤組件,見圖1、圖2:其包括粉碎刀盤1,粉碎刀盤1的上端面設置有上凸的粉碎元件,粉碎刀盤1的下端面外圈位置環(huán)向均布有反面粉碎元件2,反面粉碎元件2的外端側(cè)凸于粉碎刀盤1的外圈環(huán)面,反面粉碎元件2的內(nèi)端上部固裝于粉碎刀盤1的下端面外圈位置。
粉碎刀盤1的上端面的外緣位置設置有至少兩圈上端面不在同一高度上的粉碎齒圈,即其至少包括外圈粉碎齒圈3、內(nèi)圈粉碎齒圈4,所有的粉碎齒圈的上部組合形成的齒型階梯式粉碎腔5,粉碎刀盤1的上端面的位于內(nèi)圈粉碎齒圈4的內(nèi)圈區(qū)域內(nèi)設置有的至少一組上凸的粉碎元件;
相鄰的粉碎齒圈的內(nèi)外端環(huán)面緊密貼合;
粉碎齒圈的上端面高度自外圈向內(nèi)圈逐步遞增,使得所有的粉碎齒圈呈階梯狀布置,使得粉碎后的物料方便流出;
外圈粉碎齒圈3的上表面上環(huán)布有若干下凹的第一粉碎齒槽6,第一粉碎齒槽6的底端面平齊于粉碎刀盤1的上表面;
內(nèi)圈粉碎齒圈4的上表面環(huán)布有若干上凸的第二粉碎齒結(jié)構(gòu)7;
各組粉碎元件中的粉碎組件分別以粉碎刀盤1的中心為圓心環(huán)向均勻布置,相鄰各組的粉碎元件互不干涉布置;
粉碎元件外端部分延伸至對應的內(nèi)圈粉碎齒圈的配合臺階的位置處,使得粉碎元件和內(nèi)圈粉碎齒圈4配合,達到更佳的粉碎效果;
粉碎刀盤1的中心位置設置有中心孔8,中心孔8用于固裝轉(zhuǎn)軸。
具體實施例中:粉碎刀盤1的上端面的外緣位置設置有兩圈粉碎齒圈,:外圈粉碎齒圈3、內(nèi)圈粉碎齒圈4,粉碎刀盤1的上端面的位于內(nèi)圈粉碎齒圈4的內(nèi)圈區(qū)域內(nèi)設置有兩組上凸的粉碎元件:第一粉碎元件9、第二粉碎元件10,第一粉碎元件9、第二粉碎元件10的粉碎元件間互不干涉布置;第一粉碎元件9外端部分延伸至內(nèi)圈粉碎齒圈4的配合臺階11的位置處,使得粉碎元件和內(nèi)圈粉碎齒圈4配合,達到更佳的粉碎效果。
以上對本實用新型的具體實施例進行了詳細說明,但內(nèi)容僅為本實用新型創(chuàng)造的較佳實施例,不能被認為用于限定本實用新型創(chuàng)造的實施范圍。凡依本實用新型創(chuàng)造申請范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內(nèi)。