1.一種防治膜污染的方法，其特征在于：包括
鑄膜液的制備：將聚偏氟乙烯和N-甲基吡咯烷酮混合，在55～65℃和100～120r/min下攪拌10～14h，再加入聚乙烯吡咯烷酮，攪拌獲得鑄膜液；
微濾膜的制備：將鎳納米線加入鑄膜液中并以100～120r/min轉速，攪拌8～16h，靜置后在支撐材料上進行成膜后水洗得到微濾膜產品。
2.根據權利要求1所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述鎳納米線，其質量為鑄膜液質量的0.1～3％。
3.根據權利要求1或2所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述鎳納米線，其直徑為80～100μm，長度為5～6μm。
4.根據權利要求1所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述靜置，其是將加入鎳納米線的鑄膜液放置在55～65℃靜置8～16h。
5.根據權利要求1、2或4中任一項所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述進行成膜，涂膜厚度控制在150μm～200μm。
6.根據權利要求1所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述鑄膜液，以質量百分比計，包括聚偏氟乙烯12～15.5％、N-甲基吡咯烷酮79.5～86.5％、聚乙烯吡咯烷酮1.5～5％。
7.根據權利要求1所述防治膜污染的方法，其特征在于：所述鑄膜液的制備，其中，攪拌獲得鑄膜液為以100～120r/min轉速，攪拌20～28h獲得鑄膜液。
8.一種如權利要求1所述防治膜污染的方法在制備微濾膜方面的應用，其特征在于：微濾膜，以質量百分比計包括，聚偏氟乙烯12～15.5％，N-甲基吡咯烷酮79.5～86.5％，聚乙烯吡咯烷酮1.5～5％，鎳納米線0.1～3％。
9.如權利要求8所述在制備微濾膜方面的應用，其特征在于：所述微濾膜的平均孔徑為0.09～0.12μm。