專利名稱：無壁流規(guī)整波紋填料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種規(guī)整材料，尤其涉及一種用于介質(zhì)分離的無壁流規(guī)整波紋填料。
背景技術(shù)：
在化學(xué)工程中，應(yīng)用的規(guī)整填料絕大部分為波紋填料，它是由許多波紋薄板組成的圓盤狀填料，而當(dāng)液體沿填料層向下流動時，有逐漸向塔壁集中的趨勢，使得塔壁附近的液流量逐漸增大，這種現(xiàn)象稱為壁流。壁流效應(yīng)造成氣液兩相在填料層中分布不均，從而使傳質(zhì)效率下降，普通的規(guī)整填料的壁流量至少在30%，大部分在40%以上，由此，填料分離效率損失率為15-24%?！?br/>實用新型內(nèi)容實用新型目的本實用新型的目的是為了彌補現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種無壁流規(guī)整波紋填料。技術(shù)方案一種無壁流規(guī)整波紋填料,包括填料本體,所述的填料本體設(shè)有上箍環(huán)，上箍環(huán)的上端設(shè)為齒片狀，所述的齒片的高度為8-15mm，寬度為5_10mm，所述的填料本體還設(shè)有下箍環(huán)，所述的下箍環(huán)的底端設(shè)有齒片，且齒片向填料本體底部彎折。所述的下箍環(huán)的齒片寬度為5-8mm，高度為5_10mm。這種尺寸的齒片既能夠防止液體流到塔壁中，也能夠有效防止塔的半徑變小。作為優(yōu)選，所述下箍環(huán)高度為30_70mm。作為優(yōu)選，所述的下箍環(huán)的高度為50_。作為優(yōu)選，所述填料本體高為170-200mm。有益效果本實用新型采用了這樣的結(jié)構(gòu)以后，使得液體不會順著塔壁流下，而且因為填料底部有寬度適中的凸片，也不會造成塔的內(nèi)徑變小，因此能夠使得液體更好地收集到填料槽中，從而很好地控制壁流量。

附圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖2為本實用新型填料本體的底面示意圖。附圖3為本實用新型下箍環(huán)展開示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施例對本實用新型作進一步說明實施例一種無壁流規(guī)整波紋填料，包括填料本體，所述的填料本體設(shè)有上箍環(huán)1，上箍環(huán)I的上端設(shè)為齒片狀，所述的齒片的高度為8-15mm，寬度為5-10mm，填料本體還設(shè)有下箍環(huán)2，所述的下箍環(huán)2的底端設(shè)有齒片3，且齒片3向填料本體底部彎折。下箍環(huán)2的齒片寬度W為5-8mm，高度H為5-10mm，所述下箍環(huán)2高度為30_70mm，所述的下箍環(huán)2的高度為50mm,所述填料本體高為170-200mm。這樣結(jié)構(gòu)的填料可以保證壁流量保 持在2%以下。
權(quán)利要求1.一種無壁流規(guī)整波紋填料，包括填料本體，所述的填料本體設(shè)有上箍環(huán)(I)，上箍環(huán)(O的上端設(shè)為齒片狀，所述的齒片的高度為8-15mm，寬度為5_10mm，其特征在于所述的填料本體還設(shè)有下箍環(huán)(2 )，所述的下箍環(huán)(2 )的底端設(shè)有齒片(3 )，且齒片(3 )向填料本體底部彎折。
2.如權(quán)利要求I所述的無壁流規(guī)整波紋填料，其特征在于所述的下箍環(huán)(2)的齒片寬度為5_8mm,高度為5_10mm。
3.如權(quán)利要求I或2所述的無壁流規(guī)整波紋填料，其特征在于所述下箍環(huán)(2)高度為30-70mmo
4.如權(quán)利要求3所述的無壁流規(guī)整波紋填料，其特征在于所述的下箍環(huán)(2)的高度為50mmo
5.如權(quán)利要求I所述的無壁流規(guī)整波紋填料，其特征在于所述填料本體高為170-200mmo
專利摘要本實用新型公開了一種無壁流規(guī)整波紋填料，包括填料本體，所述的填料本體設(shè)有上箍環(huán)，上箍環(huán)的上端設(shè)為齒片狀，所述的齒片的高度為8-15mm，寬度為5-10mm，所述的填料本體還設(shè)有下箍環(huán)，所述的下箍環(huán)的底端設(shè)有齒片，且齒片向填料本體底部彎折。本實用新型可以更好地降低壁流量，有效克服了由于壁流所產(chǎn)生的分離效率的損失，而且因為齒片的寬度適中，也沒有因為下箍環(huán)的齒片向填料本體底部彎折，而導(dǎo)致塔內(nèi)徑變小，造成工作效率降低。
文檔編號B01J19/32GK202725188SQ20122014510
公開日2013年2月13日 申請日期2012年4月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月9日
發(fā)明者葛紅軍, 邱玉梅, 徐麗梅 申請人:南通蘇通分離工程科技有限公司