專利名稱：用于將氧化氣體供應到濕式洗滌器的氣體分布器的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及可操作成用于將包含氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器的貯槽的氣 體分布器(sparger)，該濕式洗滌器可操作成用于借助于包含從包括亞硫酸鈣和硫酸鈣的 化合物組中選擇的至少一種化合物的漿料來從過程氣體(process gas)中去除二氧化硫， 所述氣體分布器包括氧化氣體供應導管和至少一個第一氧化氣體供應噴嘴，該至少一個第 一氧化氣體供應噴嘴可操作成用于將氧化氣體分配在所述貯槽的漿料中。本發(fā)明還涉及將包含氧氣的氧化氣體供應到上述類型的濕式洗滌器的貯槽的方 法。
背景技術(shù)：
在諸如煤、油、泥煤、廢料等的燃料在燃燒裝置(例如動力裝置)中的燃燒中，會產(chǎn) 生熱的過程氣體，這種熱的過程氣體經(jīng)常被稱為煙道氣(flue gas)，除了其它成分之外，該 煙道氣包含二氧化硫S02。二氧化硫經(jīng)常在所謂的濕式洗滌器中被去除，在該濕式洗滌器 中使煙道氣與包含例如石灰石的漿料接觸。從濕式洗滌器的再循環(huán)貯槽中使?jié){料再循環(huán)。 二氧化硫由漿料吸收，且與石灰石反應以形成亞硫酸鈣CaS03。亞硫酸鈣不是期望的最終 產(chǎn)物，并且因此借助于一個或多個所謂的氣體分布器將包含氧氣的氧化氣體供應到再循環(huán) 貯槽的漿料。典型地，包含氧氣的氧化氣體是環(huán)境空氣，但是也可使用諸如純氧氣的其它氣 體。氧氣與漿料的亞硫酸鈣反應，且將其轉(zhuǎn)化成硫酸鈣CaSO4,即石膏。已知的氣體分布器的問題在于它們趨向于由形成在氣體分布器的外部和內(nèi)部的 固體鈣沉積物(例如亞硫酸鈣和硫酸鈣)阻塞。這種阻塞導致頻繁的維護工作，這可導致 濕式洗滌器的操作的中斷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標在于提供這樣一種氣體分布器，即，其可操作成用于將包含氧氣的 氣體供應到利用包含亞硫酸鈣和/或硫酸鈣的漿料來操作的濕式洗滌器，且該氣體分布器 比已知的氣體分布器需要更少的維護工作。借助于這樣的氣體分布器來實現(xiàn)此目標，S卩，該氣體分布器可操作成用于將包含 氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器的貯槽，該濕式洗滌器可操作成用于借助于包含從包括 亞硫酸鈣和硫酸鈣的化合物組中選擇的至少一種化合物的漿料來從過程氣體中去除二氧 化硫，所述氣體分布器包括氧化氣體供應導管和至少一個第一氧化氣體供應噴嘴，該至少 一個第一氧化氣體供應噴嘴可操作成用于將氧化氣體分配在所述貯槽的漿料中，所述氣體 分布器設有至少一個第一液體供應噴嘴，該至少一個第一液體供應噴嘴定位在所述氧化氣 體供應導管的內(nèi)部，且可操作成朝向所述第一氧化氣體供應噴嘴噴射含水液體，所述氧化 氣體供應導管在所述第一氧化氣體供應噴嘴處具有特征截面量度，例如直徑，所述第一液 體供應噴嘴定位成距所述第一氧化氣體供應噴嘴有最大為所述特征截面量度的5倍的距 罔。
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這種氣體分布器的優(yōu)點在于，在有機會形成硬質(zhì)沉積物之前，從氣體供應導管中 以及從第一氧化氣體供應噴嘴中去除漿料的任何化合物，例如亞硫酸鈣和石膏。這種硬質(zhì) 沉積物有建立大型聚集物的趨勢，這遲早將阻礙氧化氣體的恰當流動。通過在氣體供應導 管的內(nèi)部噴射液體，避免或者至少基本降低了硬質(zhì)沉積物的形成。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，氧化氣體供應導管在所述第一液體供應噴嘴的部位和 所述第一氧化氣體供應噴嘴的部位之間基本是直的。該實施例的優(yōu)點在于，噴射液體的沖 洗作用得到改進，因為第一液體供應噴嘴“看得見”第一氧化氣體供應噴嘴所處的部位。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述氣體分布器包括第二液體供應噴嘴，所述第二液 體供應噴嘴定位成距所述第一液體供應噴嘴有最大為所述特征截面量度的25倍的距離。 該實施例的優(yōu)點在于，第二液體供應噴嘴改進了定位成距第一液體供應噴嘴有一定距離的 氧化氣體供應噴嘴的沖洗作用。對于包括非常長的氣體供應導管的氣體分布器來說，可行 的是還使用第三、第四液體供應噴嘴等，其中的各個優(yōu)選定位成距最接近的上游液體供應 噴嘴有最大為所述特征截面量度的25倍的距離。根據(jù)一個實施例，所述氣體分布器包括用于從所述氣體供應導管中排泄液體的排 泄管道。該實施例的優(yōu)點在于，可從氣體供應導管中輕易地排泄借助于第一液體供應噴嘴 噴射的液體以及由此去除的任何沉積物，而無需干涉氧化氣體供應噴嘴。根據(jù)一個實施例，所述第一液體供應噴嘴是具有小于100°的噴射角的噴嘴。帶有 相對低的噴射角的噴嘴還為定位在所述第一氧化氣體供應噴嘴的下游的氧化氣體供應噴 嘴提供高效沖洗。本發(fā)明的另外的目標在于提供一種以減少用于有關構(gòu)件的維護的停機時間的方 式將包含氧氣的氣體供應到濕式洗滌器的再循環(huán)貯槽的方法。借助于將包含氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器的貯槽的方法來實現(xiàn)這個目標， 該濕式洗滌器可操作成用于借助于包含從包括亞硫酸鈣和硫酸鈣的化合物組中選擇的至 少一種化合物的漿料來從過程氣體中去除二氧化硫，所述方法包括借助于包括氧化氣體供 應導管和至少一個第一氧化氣體供應噴嘴的氣體分布器來供應氧化氣體，該至少一個第一 氧化氣體供應噴嘴可操作成用于將氧化氣體分配在所述貯槽的漿料中，所述氧化氣體供應 導管在所述第一氧化氣體供應噴嘴處具有特征截面量度，例如直徑，所述方法包括從定位 成距所述第一氧化氣體供應噴嘴有最大為所述特征截面量度的5倍的距離的噴射位置中， 朝向所述第一氧化氣體供應噴嘴噴射含水液體。該方法的優(yōu)點在于，長期保持氣體分布器沒有沉積物，從而使得與現(xiàn)有技術(shù)的方 法相比，維護性停機可計劃出現(xiàn)得不那么頻繁。根據(jù)一個實施例，朝向氣體分布器的所有氧化氣體供應噴嘴噴射的總水量大于使 氧化氣體充滿(saturate)水汽(water vapor)所需的水量。該實施例的優(yōu)點在于，確保了 所供應的液體量將足以使氧化氣體充滿水汽，以及足以沖洗氣體供應導管。根據(jù)一個實施例，朝向氣體分布器的所有氧化氣體供應噴嘴噴射的總水量總計每 kg干氧化氣體至少0. 025kg水。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，小于每kg干氧化氣體0. 025kg水的水量會對氣 體供應導管和氧化氣體供應噴嘴產(chǎn)生不那么高效的沖洗。根據(jù)一個實施例，朝向氣體分布器的所有氧化氣體供應噴嘴噴射的總水量總計小 于每kg干氧化氣體IOkg水。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，大于每kg干氧化氣體IOkg水的水量會增加操作
4成本，而不會進一步改進氣體供應導管和氧化氣體供應噴嘴的沖洗。根據(jù)描述和權(quán)利要求書，本發(fā)明的其它的目標和特征將是顯而易見的。


現(xiàn)在將參照附圖對本發(fā)明進行更加詳細的描述，其中圖1是動力裝置的示意性側(cè)視圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的氣體分布器的示意性側(cè)視圖。圖3是根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的氣體分布器的示意性側(cè)視圖。圖4是根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的氣體分布器的示意性側(cè)視圖。
具體實施例方式圖1是示意性側(cè)視圖且示出了動力裝置1。動力裝置1包括鍋爐2，諸如煤或油的 燃料在該鍋爐2中燃燒。燃料的燃燒產(chǎn)生以煙道氣形式的過程氣體。包含在煤或油中的硫 物質(zhì)將形成二氧化硫(SO2), 二氧化硫?qū)⑿纬蔁煹罋獾囊徊糠?。煙道氣通過導管6從鍋爐2 前進到靜電沉淀器4。靜電沉淀器4用來從煙道氣中去除塵粒，靜電沉淀器4的實例在文件 US 4，502，872中有所描述。然后其中已去除了大部分塵粒的煙道氣通過導管10前進到濕式洗滌器8。濕式洗 滌器8包括開孔板12。使煙道氣豎直向上地流動通過開孔板12，并且通過在開孔板12上 流動的吸收漿料的流動層14。泵16可操作成用于將漿料從再循環(huán)貯槽18泵送到開孔板 12的頂部。然后漿料以流動層14的形式在開孔板12上流動，然后通過返回管道19返回到 再循環(huán)貯槽18。凈化的煙道氣通過導管15離開濕式洗滌器8。可在文件WO 2005/007274 中找到濕式洗滌器的一個優(yōu)選實施例的詳細描述。在穿過吸收漿料的流動層14的同時，煙道氣的二氧化硫SO2與從料倉(為了示圖 的明確性沒有在圖1中示出該料倉)供應到漿料的石灰石CaCO3反應。包含在漿料中的石 灰石和二氧化硫之間的反應可由下列反應概括CaCO3 (S) +SO2 (g) => CaSO3 (aq) +CO2 (g) [1.1]由此反應產(chǎn)生的亞硫酸鈣不是期望的最終產(chǎn)物。因此，將包含氧氣的氧化氣體供 應到再循環(huán)貯槽18。包含氧氣的氧化氣體通常將為包含約20%的氧氣的壓縮的環(huán)境空氣， 但是作為備選方案，也可為純氧氣或包含氧氣的另一種氣體。根據(jù)以下反應，供應到再循環(huán) 貯槽18的氧氣與亞硫酸鈣反應，以形成硫酸鈣，即石膏CaSO4 CaSO3 (aq)+1/202 (g) => CaSO4(S) [1.2]石膏是期望的最終產(chǎn)物，且例如在制造石膏板時可重新使用。一些有關的化合物 (例如石灰石、亞硫酸鈣以及硫酸鈣)至少在某種程度上以固體的形式存在于漿料中。因 此，在濕式洗滌器8中循環(huán)的吸收漿料包括液體(通常為水)中的固體顆粒的分散體。壓縮機20可操作成用于將環(huán)境空氣壓縮到典型地l-3bar(0)的壓力，即在環(huán)境 壓力以上的l-3bar的壓力。壓縮機20的操作使壓縮的環(huán)境空氣的溫度提高到典型地 70-90°C。為了避免由熱表面造成的損傷，可選地可直接在壓縮機20之后提供冷卻室22。 水噴嘴24將通過管道26供應的水噴射到冷卻室22中。通過輸送管道28離開冷卻室22 的壓縮空氣具有典型地30-50°C的溫度，這意味著避免了對操作人員的燙傷風險。壓縮空氣
5前進到氣體分布器30，該氣體分布器30可操作成用于將壓縮空氣分配到包含在再循環(huán)貯 槽18中的漿料中。圖2更加詳細地示出了氣體分布器30。氣體分布器30包括氧化氣體供應導管32， 其以截面顯示且其具有伸長圓管的形式，其中，直徑D典型地為30-300mm，而在再循環(huán)貯槽 18的內(nèi)部的總長度L典型地為1-4米。如可從圖2中看到的那樣，輸送管道28連接到氣體 供應導管32的第一端34上。多個氧化氣體供應噴嘴36在再循環(huán)貯槽18的內(nèi)部沿著氣體 供應導管32的長度定位。典型地，各個這種氧化氣體供應噴嘴36是形成于氣體供應導管 32的壁中的圓柱形開口。相應的氧化氣體供應噴嘴36的直徑典型地為6-30mm。通過輸送 管道28供應的壓縮空氣通過氣體供應導管32的第一端34進入氣體供應導管32，且沿著氣 體供應導管32前進到氣體供應噴嘴36。然后壓縮空氣通過氣體供應噴嘴36離開氣體供應 導管32，且與包含在再循環(huán)貯槽18中的漿料(在圖2中表示為S)混合，以參與上文所描述 和[1. 2]所表示的氧化反應。第一液體供應噴嘴38布置在氧化氣體供應導管32的內(nèi)部，且可操作成用于朝向 氧化氣體供應噴嘴36噴射含水液體。管道40可操作成用于將這種液體(其典型地為動力 裝置的普通水供應系統(tǒng)的工藝用水(process water))供應到第一液體供應噴嘴38。閥42 布置在管道40上，且可操作成用于控制通往第一液體供應噴嘴38的水流。第一液體供應 噴嘴38定位成距第一氧化氣體供應噴嘴44有第一距離Ll，這種第一氧化氣體供應噴嘴44 是如沿著在氣體供應導管32的第一端34處進入氣體供應導管32的壓縮空氣的輸送方向 所見到的氣體供應噴嘴36中的第一個。第一距離Ll最大為特征截面量度的5倍，在圓管 的情況下，該特征截面量度是在所述第一氧化氣體供應噴嘴44處的氣體供應導管32的直 徑D。因此，如果氣體供應導管32在第一氧化氣體供應噴嘴44處具有50mm的直徑D作為 其特征截面量度，則第一距離Ll最大為5 X 50mm = 250mm。因此，第一液體供應噴嘴38應 定位成在第一氧化氣體供應噴嘴44的上游有最大為250mm的第一距離Li。由第一液體供應噴嘴38供應的水用于使壓縮空氣充滿水汽，以及利用水沖洗氣 體供應噴嘴36和氣體供應導管32的內(nèi)部。通過實現(xiàn)這兩個目的，最大程度地降低了固體材 料(例如石膏和亞硫酸鈣)沉積在氣體供應噴嘴36中或周圍以及沉積在氣體供應導管32 的內(nèi)部的風險。這種沉積可導致氣體分布器30的降低的氧化效率，而且甚至可完全阻塞氣 體分布器30，從而使得根本就不能將氧化氣體供應到再循環(huán)貯槽18。壓縮空氣由水汽充滿 的事實降低了在氣體供應導管32的內(nèi)部或在氣體供應噴嘴36的周緣處終止(end up)的 變干的漿料滴的風險，這種變干引起分別在氣體供應導管32的內(nèi)部或在氣體供應噴嘴36 處留下固體殘余物的風險。在漿料滴有任何機會粘在氣體供應導管32的內(nèi)部或粘在氣體 供應噴嘴36上之前，第一液體供應噴嘴38例用液體沖洗氣體供應噴嘴36和氣體供應導管 32的內(nèi)部的事實去除了任何這種漿料滴。在氣體供應導管32的第二端46 (這種第二端46與第一端34相對)處，形成了可 選的排泄管道48。排泄管道48從氣體供應導管32朝向再循環(huán)貯槽18的底部50豎直向下 地延伸。如此地選擇排泄管道48的總長度H，即，使得相應于長度H的液體柱相應于比氣體 供應噴嘴36的壓降更高的壓降。因此，在正常操作狀況下，壓縮空氣僅將通過氣體供應噴 嘴36而非通過排泄管道48離開氣體供應導管32。但是，通過這種排泄管道48將通過第一 液體供應噴嘴38噴射的沖洗液體以及已經(jīng)借助于噴射這種沖洗液體所沖走的任何漿料從
6氣體供應導管32中排出。在沒有排泄管道48的情況下，替代地將通過氣體供應噴嘴36排 泄出沖洗液體。噴射的沖洗液體的沖洗能力隨著距第一液體供應噴嘴38的距離而降低。為此，有 時優(yōu)選的是在氣體供應導管32的內(nèi)部布置不止一個液體供應噴嘴。如在圖2中所示出的 那樣，第二液體供應噴嘴52布置在第一液體供應噴嘴38的下游。管道54可操作成用于 將沖洗液體供應到第二液體供應噴嘴52，且閥56布置在管道54上，以控制這種沖洗液體 流。第一液體供應噴嘴38和第二液體供應噴嘴52之間的第二距離L2優(yōu)選最大為特征截 面量度(即氣體供應導管32的直徑D)的25倍。因此，如果氣體供應導管32的直徑D為 50mm，則第二液體供應噴嘴52應定位成在第一液體供應噴嘴38的下游有最大為25 X 50mm =1250mm的第二距離L2。為了不僅實現(xiàn)使氧化氣體充滿水汽而且實現(xiàn)沖洗作用，借助于第一液體供應噴嘴 38和第二液體供應噴嘴52朝向氣體分布器30的所有氧化氣體供應噴嘴36噴射的總水量 大于使氧化氣體充滿水汽所需的水量。優(yōu)選地，朝向氣體分布器30的所有氧化氣體供應噴 嘴36，44噴射的總水量總計每kg干氧化氣體至少0. 025kg水。因此，如果供應到氣體分布 器30的壓縮空氣量總計IOOOkg干空氣/h，則通過第一液體供應噴嘴38和第二液體供應噴 嘴52供應到氣體分布器30的水量應總共為至少0. 025X1000 = 25kg水/h。優(yōu)選地，朝 向氣體分布器30的所有氧化氣體供應噴嘴36，44噴射的總水量總計小于每kg干氧化氣體 IOkg水。因此，如果供應到氣體分布器30的壓縮空氣量總計IOOOkg干空氣/h，則通過第 一液體供應噴嘴38和第二液體供應噴嘴52供應到氣體分布器30的總水量應優(yōu)選地小于 10X1000 = 10000kg 水/h。如可從對圖2的參照所看到的那樣，氧化氣體供應導管32在所述第一液體供應噴 嘴38的部位和所述第一氧化氣體供應噴嘴44的部位之間基本是直的。因此，第一液體供 應噴嘴38 “看得見”第一氧化氣體供應噴嘴44，因為它們之間沒有彎曲部，這改進了沖洗效率。第一液體供應噴嘴38和第二液體供應噴嘴52優(yōu)選在持續(xù)的基礎上操作，從而使 得沖洗液體持續(xù)地供應到氣體供應導管32。但是，在半持續(xù)的基礎上操作第一液體供應噴 嘴38和第二液體供應噴嘴52也是可行的。在這種情況下，液體供應噴嘴38，52應至少每 隔30分鐘操作一次，并且每30分鐘持續(xù)至少2分鐘。第一液體供應噴嘴38和第二液體供應噴嘴52優(yōu)選為所謂的完全錐形噴嘴，且優(yōu) 選具有小于100°的噴射角。有用的液體供應噴嘴的實例是可從美國伊利諾斯州惠頓市的 噴霧系統(tǒng)公司獲得的1/8" GA-250。。圖3示出了根據(jù)備選實施例的氣體分布器130。輸送管道28和包含漿料S的再循 環(huán)貯槽18類似于上文參照圖2所描述的那些，且不對其進行任何詳細的描述。氣體分布器 130包括氧化氣體供應導管132，該氧化氣體供應導管132包括具有帶有膝部133的“腿”的 形狀的圓柱管。作為備選方案，氧化氣體供應導管可為沒有任何“膝部”的直的圓柱管。輸 送管道28可操作成用于使壓縮空氣前進到氣體供應導管132的第一端134處。如參照壓 縮空氣的輸送方向所看到的那樣，第一氧化氣體供應噴嘴136位于膝部133的下游。僅通 過在氣體供應導管132的第二端146處切斷氣體供應導管132來形成第一氧化氣體供應噴 嘴136。如可從對圖3的參照所看到的那樣，在第二端146處相對于氣體供應導管132的縱
7向方向以約45°的角進行氣體供應導管132的這種切割。攪拌器147在氣體供應噴嘴136 附近布置在再循環(huán)貯槽18中。攪拌器147可操作成用于強制漿料進入第一氧化氣體供應 噴嘴136的區(qū)域中，以改進漿料和壓縮空氣之間的混合。第一液體供應噴嘴138在膝部133的下游布置在氧化氣體供應導管132內(nèi)部，且 可操作成用于朝向第一氧化氣體供應噴嘴136噴射含水液體。管道140可操作成用于將沖 洗液體供應到第一液體供應噴嘴138，且閥142布置在管道140上，以控制這種沖洗液體流。 第一液體供應噴嘴138定位成距第一氧化氣體供應噴嘴136有第一距離Li。距離Ll最大 為特征截面量度的5倍，在圓管的情況下，特征截面量度是在所述第一氧化氣體供應噴嘴 136處的氣體供應導管132的直徑D，即，Ll最大為直徑D的5倍。如可從對圖3的參照看 到的那樣，由第一液體供應噴嘴138供應的沖洗液體將通過第一氧化氣體供應噴嘴136直 接排泄到再循環(huán)貯槽18中。圖4示出了根據(jù)另外的備選實施例的氣體分布器230。輸送管道28和包含漿料 S的再循環(huán)貯槽18類似于上文參照圖2所描述的那些，且不對其進行任何詳細的描述。氣 體分布器230包括氧化氣體供應導管232，該氧化氣體供應導管232包括具有帶有膝部233 的“腿”的形狀的圓柱管。作為備選方案，氧化氣體供應導管可為沒有任何“膝部”的直的 圓柱管。輸送管道28可操作成用于使壓縮空氣前進到氣體供應導管232的第一端234處。 如參照壓縮空氣的輸送方向所看到的那樣，多個氣體供應噴嘴236定位在膝部233的下游。 通過在氣體供應導管232中鉆孔形成了氣體供應噴嘴236。如可看到的那樣，氣體供應導管 232的第二端246定位成距氣體供應噴嘴236有一定距離。第一液體供應噴嘴238在膝部233的下游布置在氧化氣體供應導管232內(nèi)部，且 可操作成用于朝向氧化氣體供應噴嘴236噴射含水液體。管道240可操作成用于將沖洗液 體供應到第一液體供應噴嘴238，且閥242布置在管道240上，以控制這種沖洗液體流。第 一液體供應噴嘴238定位成距所有氧化氣體供應噴嘴236有第一距離Li。距離Ll最大為 特征截面量度的5倍，在圓管的情況下，該特征截面量度是在所述氧化氣體供應噴嘴236處 的氣體供應導管232的直徑D，即Ll最大為直徑D的5倍。雖然整個氧化氣體流將通過氧 化氣體供應噴嘴236離開氣體供應導管232，但是借助于第一液體供應噴嘴238供應的大部 分沖洗液體將通過第二端246處的開口離開氣體供應導管232。實際上，氣體供應導管232 僅形成為在其第二端246處敞開的管道，這種第二端246由此形成用于排泄沖洗液體的排 泄管道248。將理解的是，上述實施例的許多修改在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)是可行的。以上已經(jīng)描述了借助于由液體供應噴嘴38，52噴射來使用工藝用水(其為純水， 幾乎為飲用水質(zhì)量)來沖洗氣體分布器30。將理解的是，還可使用包含水的其它類型的液 體來進行沖洗。例如，還可將濕式洗滌器的各種液體再循環(huán)物(例如石膏過濾排泄液體) 用作沖洗液體。甚至可行的是將再循環(huán)貯槽18的漿料用作沖洗液體，只要所供應的漿料中 的水量大于使壓縮空氣充滿水汽所需的量。但是，通常，優(yōu)選的是使用相當純的水，例如飲 用水或工藝用水。以上已經(jīng)描述了氣體供應導管32的特征截面量度是第一氧化氣體供應噴嘴44處 的直徑D。作為備選方案，如果氣體供應導管成形成具有正方形截面的管，則替代地特征截 面量度將為這種正方形截面的側(cè)邊。作為另一個備選方案，如果氣體供應導管成形成具有三角形截面的管，則特征截面量度將為這種三角形截面的最短的高。另外，作為又一個備選 方案，如果氣體供應導管成形成具有長方形的截面的管，則特征截面量度將為這種長方形 截面的最短邊和最長邊的總和的一半。上文已經(jīng)參照圖1描述了包括開孔板12 (流動層14在該開孔板12上流動)的濕 式洗滌器8。將理解的是，也可在其它類型的濕式洗滌器中使用根據(jù)本發(fā)明的氣體分布器。 一個這種類型是塔式洗滌器，在其中，借助于漿料噴嘴來使?jié){料霧化。煙道氣豎直向上地前 進通過塔架，且煙道氣與霧化漿料接觸。霧化漿料收集在再循環(huán)貯槽中，該再循環(huán)貯槽可設 有上文所描述的類型的氣體分布器?？稍谖募﨓P 0 162 536A1中找到塔型濕式洗滌器的 實例。概括來說，氣體分布器30可操作成用于將包含氧氣的氧化氣體供應到操作成用 于借助于漿料S從過程氣體中去除二氧化硫的濕式洗滌器8的貯槽18。氣體分布器30設 有至少一個第一液體供應噴嘴38，該第一液體供應噴嘴38定位在氧化氣體供應導管32的 內(nèi)部，且可操作成用于朝向第一氧化氣體供應噴嘴44噴射含水液體。氧化氣體供應導管32 在所述第一氧化氣體供應噴嘴44處具有特征截面量度，例如直徑D。第一液體供應噴嘴38 定位成距所述第一氧化氣體供應噴嘴44有最大為所述特征截面量度D的5倍的距離Li。雖然已經(jīng)參照多個優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但是本領域技術(shù)人員將理 解，可在不偏離本發(fā)明的范圍的情況下做出各種改變，且可用等同物來代替本發(fā)明的元件。 另外，可做出許多修改，以使特定情形或材料適于本發(fā)明的教導，而不偏離本發(fā)明的實質(zhì)范 圍。因此，意在本發(fā)明不限于被公開為為了執(zhí)行本發(fā)明而構(gòu)想的最佳模式的特定實施例，而 是相反，本發(fā)明將包括落在所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)的所有實施例。但是，對用語第一、第 二等的使用不表示任何順序或重要性，而是相反，用語第一、第二等用于使一個元件區(qū)別于 另一個元件。
權(quán)利要求
一種可操作成用于將包含氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器(8)的貯槽(18)的氣體分布器，所述濕式洗滌器(8)可操作成用于借助于包含從包括亞硫酸鈣和硫酸鈣的化合物組中選擇的至少一種化合物的漿料(S)來從過程氣體中去除二氧化硫，所述氣體分布器(30)包括氧化氣體供應導管(32)和至少一個第一氧化氣體供應噴嘴(44)，所述至少一個第一氧化氣體供應噴嘴(44)可操作成用于將所述氧化氣體分配在所述貯槽(18)的漿料(S)中，其特征在于，所述氣體分布器(30)設有至少一個第一液體供應噴嘴(38)，所述至少一個第一液體供應噴嘴(38)定位在所述氧化氣體供應導管(32)的內(nèi)部，且可操作成用于朝向所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)噴射含水液體，所述氧化氣體供應導管(32)在所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)處具有特征截面量度，例如直徑(D)，所述第一液體供應噴嘴(38)定位成距所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)有最大為所述特征截面量度(D)的5倍的距離(L1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分布器，其特征在于，所述氧化氣體供應導管(32)在所 述第一液體供應噴嘴(38)的部位和所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)的部位之間基本是直 的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1至2中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器 (30)包括第二液體供應噴嘴(52)，所述第二液體供應噴嘴(52)定位成距所述第一液體供 應噴嘴(38)有最大為所述特征截面量度(D)的25倍的距離(L2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器 (30)包括用于從所述氣體供應導管(32)中排泄液體的排泄管道(48)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述第一液體供應噴 嘴(38)是具有小于100°的噴射角的噴嘴。
6.一種將包含氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器(8)的貯槽(18)的方法，所述濕式洗 滌器(8)可操作成用于借助于包含從包括亞硫酸鈣和硫酸鈣的化合物組中選擇的至少一 種化合物的漿料(S)來從過程氣體中去除二氧化硫，所述方法包括借助于包括氧化氣體供 應導管(32)和至少一個第一氧化氣體供應噴嘴(44)的氣體分布器(30)來供應所述氧化 氣體，所述至少一個第一氧化氣體供應噴嘴(44)可操作成用于將所述氧化氣體分配在所 述貯槽(18)的漿料(S)中，其特征在于，所述氧化氣體供應導管(32)在所述第一氧化氣體 供應噴嘴(44)處具有特征截面量度，例如直徑(D)，所述方法包括從定位成距所述第一氧 化氣體供應噴嘴(44)有最大為所述特征截面量度(D)的5倍的距離(Li)的噴射位置中， 朝向所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)噴射含水液體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，朝向所述氣體分布器(30)的所有氧化氣 體供應噴嘴(36，44)噴射的總水量大于使所述氧化氣體充滿水汽所需的水量。
8.根據(jù)權(quán)利要求6至7中任一項所述的方法，其特征在于，朝向所述氣體分布器(30) 的所有氧化氣體供應噴嘴(36，44)噴射的總水量總計每kg干氧化氣體至少0.025kg水。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項所述的方法，其特征在于，朝向所述氣體分布器(30) 的所有氧化氣體供應噴嘴(36，44)噴射的總水量總計小于每kg干氧化氣體IOkg水。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項所述的方法，其特征在于，所述氧化氣體沿著基本直 的路徑從所述噴射位置前進到所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)的位置。
全文摘要
一種氣體分布器(30)可操作成用于將包含氧氣的氧化氣體供應到濕式洗滌器的貯槽(18)，該濕式洗滌器可操作成用于借助于漿料(S)來從過程氣體中去除二氧化硫。氣體分布器(30)設有至少一個第一液體供應噴嘴(38)，該至少一個第一液體供應噴嘴(38)定位在氧化氣體供應導管(32)的內(nèi)部，且可操作成用于朝向第一氧化氣體供應噴嘴(44)噴射含水液體。氧化氣體供應導管(32)在所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)處具有特征截面量度，例如直徑(D)。第一液體供應噴嘴(38)定位成距所述第一氧化氣體供應噴嘴(44)有最大為所述特征截面量度(D)的5倍的距離(L1)。
文檔編號B01D53/50GK101939081SQ200980104909
公開日2011年1月5日 申請日期2009年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月7日
發(fā)明者F·布羅加德, R·哈肯松 申請人:阿爾斯托姆科技有限公司