專利名稱:一種氣體分布器的制作方法
技術領域:
本實用新型涉及一種氣體分布器,特別涉及一種固定床式反應器所用氣體分布器。
技術背景固定床式反應器廣泛應用于化工、冶金、能源工程、環(huán)保等工藝流程中,氣體分布 器作為固定床式反應器的關鍵部件之一,其布氣的均勻程度會極大的影響固定床式反應 器的操作運轉,特別是隨著生產裝置日趨大型化,放大效應更為嚴重。實際應用中會根 據(jù)不同的工藝要求選用不同的氣體分布器或氣體分布器體系。目前通常采用的氣體分布器存在的主要缺陷是流通面積小易堵塞,與反應器焊為 一體,堵后不易拆卸清洗,與原料氣進口距離短,堵后的積炭易進入進料管,對整個進 料系統(tǒng)帶來污染。如公告號為CN2705231的中國專利提到的一種氣體分布器,它采用由 分布器筒體,側向環(huán)隙,圓環(huán)形垂直擋板,圓環(huán)形擋板和篩板組成氣體分布器的技術方 案,其優(yōu)點是1、均流效果較好,能使軸向流固定床反應器內達到理想的氣體分布效果; 2、結構簡單,安裝方便。但這種分布器也存在著如下缺點1、與反應器的進氣口焊在 一起,不利于氣體分布器的清理和清洗2、氣體分布器與進氣口距離短,堵后的積炭易 進入進氣口,容易造成整個進料系統(tǒng)的污染。 發(fā)明內容本實用新型針對現(xiàn)有技術的不足,提供一種便于清洗維護的固定床式反應器用氣體 分布器。本實用新型是通過如下技術方案實現(xiàn)的一種固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,由底座、支腿和氣體分配盤組成; 所述的底座下設置有支腿,底座上面設置有氣體分配盤。 所述的氣體分配盤由柵格尺寸均布的柵格板圍成。 所述的氣體分配盤為圓桶形。 所述的底座為圓柱形。 所述的氣體分配盤與底座固定連接。所述的底座直徑為固定床反應器直徑的10%—70%,氣體分配盤的高度為固定床反應 器直徑的10%—30%,氣體分配盤的內徑為固定床反應器直徑的7%—67%,支腿的高度為 30 — 150mm。優(yōu)選的,底座直徑為固定床反應器直徑的25%—45%,氣體分配盤的高度為固定床反 應器直徑的15%—25%,氣體分配盤的內徑為固定床反應器直徑的22%—42%,支腿的高度 為50-110mm。下面簡述本氣體分布器的工作原理原料氣通過反應器入口進入固定床反應器,由于反應氣流速比較快,大多數(shù)原料氣垂直進入氣體分布器氣體分配盤,原料氣經氣體分 配盤后向裝有催化劑的列管均勻分布。其中有一部分原料氣從支腿和底座之間進入氣體 分布器的下方列管,從而保證整個催化劑列管的原料氣均勻分布。產生積炭時,積炭首先在在氣體分配盤聚集,能夠在一定時間內保持催化劑不受污 染,延長催化劑的使用時間,增加生產能力。當需要清理積炭時,只需將氣體分布器取 出清理即可。本實用新型與現(xiàn)有技術結構相比,本產品屬于一種全新設計。它具有以下優(yōu)點1、 結構合理,制作簡單,制作費用低,2、能很好地將氣體均勻分布,保證每根列管中催化 劑的合理利用,避免因氣體分布不均而造成催化劑使用工況的不同,確保了催化劑的使 用壽命,提高生產效率。
圖1為本實用新型氣體分布器在固定床反應器中的位置示意圖; 圖2為本實用新型氣體分布器的正面圖;其中,a為氣體分配盤的內徑,b為底座的 直徑,hl為氣體分配盤的高度,h2為支腿的高度; 圖3為本實用新型分布器底座的俯視圖;其中1、氣體分布器,2、固定床反應器,3、反應氣入口, 4、支腿,5、底座, 6、氣體分配盤,7、柵格板。
具體實施方式
下面通過實施例對本實用新型氣體分布器作進一步闡述,但本實用新型保護范圍不 僅限與此。 實施例1:一種氣體分布器,結構如圖2-3所示,由底座5、支腿4和氣體分配盤6組成;底座 5下設置有支腿4,底座5上面螺栓固定連接有氣體分配盤6,氣體分配盤6為圓桶形, 由柵格尺寸均布的柵格板7圍成,所述的底座5為圓柱形。固定床反應器2(如圖l示)直徑3米,反應氣入口3內徑為300毫米,采用本實用 新型氣體分布器l,氣體分布器1的底座5直徑為860毫米,氣體分配盤6的內徑810 毫米,氣體分配盤6的高度500毫米,支腿4的高度80毫米。實施例2:結構如實施例l所述,其不同之處在于固定床反應器2直徑2.5米,反應氣入口 3內徑為250毫米,采用本實用新型氣體分布器l,氣體分布器1的底座5直徑為820 毫米,氣體分配盤6的內徑870毫米,氣體分配盤6的高度400毫米,支腿4的高度60毫米。
權利要求1、一種固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,由底座、支腿和氣體分配盤組成;所述的底座下設置有支腿,底座上面設置有氣體分配盤。
2、 如權利要求l所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,所述的氣體分 配盤由柵格尺寸均布的柵格板圍成。
3、 如權利要求l所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,所述的氣體分 配盤為圓桶形。
4、 如權利要求l所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,所述的底座為 圓柱形。
5、 如權利要求l所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,所述的氣體分 配盤與底座固定連接。
6、 如權利要求l所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,所述的底座直 徑為固定床反應器直徑的10%—70%,氣體分配盤的高度為固定床反應器直徑的 10%—30%,氣體分配盤的內徑為固定床反應器直徑的7%—67%,支腿的高度為30—150mm。
7、 如權利要求6所述的固定床式反應器用氣體分布器,其特征在于,底座直徑為固 定床反應器直徑的25%—45%,氣體分配盤的高度為固定床反應器直徑的15%—25%,氣體 分配盤的內徑為固定床反應器直徑的22%—42%,支腿的高度為50-110mm。
專利摘要本實用新型涉及一種氣體分布器,特別涉及一種固定床式反應器所用氣體分布器。它由底座、支腿和氣體分配盤組成;所述的底座下設置有支腿,底座上面設置有氣體分配盤。本實用新型結構合理,制作簡單,制作費用低,能很好地將氣體均勻分布,提高生產效率。
文檔編號B01J8/02GK201124090SQ20072015722
公開日2008年10月1日 申請日期2007年11月16日 優(yōu)先權日2007年11月16日
發(fā)明者于海濤, 何樹棟, 張晶群 申請人:山東東岳氟硅材料有限公司