一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及化工污水處理領域，具特別是涉及一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)。
【背景技術】
[0002]目前現有技術中地下灌區(qū)中含硫化鈉堿性污水會與酸性水反應生成硫化氫有毒氣體，而這種有毒氣體在目前的生產中不好收集，大多數都會被排放到大氣中去造成污染，并且由于現有技術中的排污道設計不合理的問題，在生產停車，或者緊急情況的時候無法有效的使排放的污水達到環(huán)保的標準。
[0003]如專利號為:CN02110109.4專利名稱為:一種堿性污水處理工藝，公開了將堿性污水(或濃縮后)降溫結晶生產九水偏硅酸鈉，多余堿液濃縮回收，生產液體燒堿或固堿。雖然實現了堿性污水處理，但是各種細節(jié)做的不是很好，在生產的時候有失效率。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于克服現有技術存在的上述問題，提出一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)。本實用新型通過加熱器有效地提高了對化工生產中廢水的凈化率和利用率，同時在處理廢水的時候，不僅減少了二氧化碳的排放，還會獲得多余的熱量，從而節(jié)約了能源，使得整個化工系統(tǒng)的生產效率得到提高，利于環(huán)保。
[0005]本實用新型采用以下技術方案來實現:
[0006]—種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:包括第一罐區(qū)和第二罐區(qū)，所述第一罐區(qū)與第二罐區(qū)通過連通器相連接，所述連通器上設置有連通閥，所述第一罐區(qū)上方設置有污水入口，所述第一罐區(qū)的上方設置有中和液入口，所述第一罐區(qū)的下方設置有沉淀區(qū)，所述沉淀區(qū)上設置有第一雜質出口，所述第二罐區(qū)上設置有泄壓閥，所述第二罐區(qū)側面設置有加水口，所述第二罐區(qū)上設置有過濾層，所述過濾層上設置有第二雜質出口，所述第二罐區(qū)的底部設置有排水口，所述第一罐區(qū)的底部設置有加熱器，所述加熱器的半徑與第一罐區(qū)的半徑之比為6比5。
[0007]所述過濾層為活性炭層。
[0008]所述泄壓閥是工作壓強為0.2-0.5MPa的泄壓閥。
[0009]本實用新型與現有技術相比，其優(yōu)點在于:
[0010]1、本實用新型通過加熱器有效地提高了對化工生產中廢水的凈化率和利用率，同時在處理廢水的時候，不僅減少了二氧化碳的排放，還會獲得多余的熱量，從而節(jié)約了能源，使得整個化工系統(tǒng)的生產效率得到提高，利于環(huán)保。
[0011]2、本實用新型采用過濾層為活性炭層，活性炭可以不斷吸附水中溶質，直到吸附平衡即溶質濃度不再改變時為止，處理程度高，效果穩(wěn)定。
[0012]【附圖說明】:
[0013]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0014]附圖標記:1、第一罐區(qū)，2、第二罐區(qū)，3、泄壓閥，301、加水口，4、污水入口，5、中和液入口，6、連通器，601、連通閥，7、過濾層，8、第一雜質出口，9、第二雜質出口，10、排水口，
11、沉淀區(qū)，12、加熱器。
[0015]【具體實施方式】:
[0016]實施例1:
[0017]一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設置有第一雜質出口 8，所述第二罐區(qū)2上設置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側面設置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設置有過濾層7，所述過濾層7上設置有第二雜質出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0018]本實施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0019]本實施例中，所述泄壓閥3是工作壓強為0.2MPa的泄壓閥。
[0020]實施例2:
[0021]—種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設置有第一雜質出口 8，所述第二罐區(qū)2上設置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側面設置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設置有過濾層7，所述過濾層7上設置有第二雜質出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0022]本實施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0023]本實施例中，所述泄壓閥3是工作壓強為0.3MPa的泄壓閥。
[0024]實施例3:
[0025]一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設置有第一雜質出口 8，所述第二罐區(qū)2上設置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側面設置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設置有過濾層7，所述過濾層7上設置有第二雜質出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0026]本實施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0027]本實施例中，所述泄壓閥3是工作壓強為0.5MPa的泄壓閥。
[0028]本實用新型不限于上述實施例，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:包括第一罐區(qū)(I)和第二罐區(qū)(2)，所述第一罐區(qū)(I)與第二罐區(qū)(2)通過連通器(6)相連接，所述連通器(6)上設置有連通閥(601)，所述第一罐區(qū)(I)上方設置有污水入口(4)，所述第一罐區(qū)(I)的上方設置有中和液入口(5)，所述第一罐區(qū)(I)的下方設置有沉淀區(qū)(11)，所述沉淀區(qū)(11)上設置有第一雜質出口(8)，所述第二罐區(qū)(2)上設置有泄壓閥(3)，所述第二罐區(qū)(2)側面設置有加水口(301)，所述第二罐區(qū)(2)上設置有過濾層(7)，所述過濾層(7)上設置有第二雜質出口(9)，所述第二罐區(qū)(2)的底部設置有排水口(10)，所述第一罐區(qū)(I)的底部設置有加熱器(12)，所述加熱器(12)的半徑與第一罐區(qū)(I)的半徑之比為6比5。2.根據權利要求1所述的一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:所述過濾層(7)為活性炭層。3.根據權利要求1所述的一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:所述泄壓閥(3)是工作壓強為0.5MPa的泄壓閥。
【專利摘要】本實用新型公開了一種設有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)和第二罐區(qū)，所述第一罐區(qū)與第二罐區(qū)通過連通器相連接，所述連通器上設置有連通閥，所述第一罐區(qū)上方設置有污水入口，所述第一罐區(qū)的上方設置有中和液入口，所述第一罐區(qū)的下方設置有沉淀區(qū)，所述沉淀區(qū)上設置有第一雜質出口，所述第二罐區(qū)上設置有泄壓閥，所述第二罐區(qū)側面設置有加水口，所述第二罐區(qū)上設置有過濾層，所述過濾層上設置有第二雜質出口，所述第二罐區(qū)的底部設置有排水口，所述第一罐區(qū)的底部設置有加熱器，本實用新型通過加熱器有效地提高了對化工生產中廢水的凈化率和利用率，減少了二氧化碳的排放，利于環(huán)保。
【IPC分類】C02F9/10
【公開號】CN205368014
【申請?zhí)枴緾N201620178935
【發(fā)明人】季云浩
【申請人】季云浩
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2016年3月9日