一種磁芯清洗裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種清洗裝置,具體的說是一種磁芯清洗裝置。
【背景技術】
[0002]在磁芯生產線上有一清洗工序,目前清洗方式是將磁芯放置到超聲波清洗設備中進行清洗,或者是直接用熱水沖洗傳送帶上的磁芯。這兩種方法雖然都能夠完成對磁芯的清洗工作,但是如果采用超聲波清洗設備,不僅購置成本高,且需要對設備進行定期的保養(yǎng)維護;如果直接用熱水沖洗傳送帶上的磁芯,一方面只能沖洗到磁芯表面,清洗效果不理想,另一方面還要對水進行加熱處理,成本也高。
【實用新型內容】
[0003]針對上述問題,本實用新型擬解決的問題是提供一種結構簡單合理、成本低且清洗效果好的磁芯清洗裝置。
[0004]為達到上述目的,本實用新型采用以下技術方案:一種磁芯清洗裝置,包括磁芯清洗槽、傳送帶、磁振裝置、支架、沖洗管和氮窯熱水排出槽,磁芯清洗槽形狀為長方體,傳送帶設置在磁芯清洗槽中,且所述傳送帶兩端往上翹起呈圓弧狀,所述傳送帶中間位置架設有磁振裝置,所述傳送帶上位于所述磁振裝置的兩側對稱的架設有支架,每個所述支架上均固定有沖洗管,每根所述沖洗管一端均對準傳送帶,另一端均與氮窯熱水排出槽相連。
[0005]本實用新型的有效成果:本實用新型結構簡單合理,將傳送帶設置成圓弧狀,且設置了兩個沖洗管和磁振裝置,當磁芯隨著傳送帶到達第一個沖洗管位置時,沖洗管對其進行斜度沖洗,然后到達磁振裝置中進行深一步的振動清洗,再到達第二個沖洗管位置時,進行最后的斜度沖洗,不僅沖洗效果好,且沖洗管中的熱水是通過氮窯熱水排出槽中過來的,將氮窯排出的熱水進行了充分的利用,不需要再另外對水進行加熱處理,大大降低成本。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0007]圖中:1_磁芯清洗槽,2-傳送帶,3-磁振裝置,4-支架,5-沖洗管,6-氮窯熱水排出槽。
【具體實施方式】
[0008]為了使本技術領域的人員更好的理解本實用新型方案,下面將結合本實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述。
[0009]如圖1所示,本實用新型公開了一種磁芯清洗裝置,包括磁芯清洗槽1、傳送帶2、磁振裝置3、支架4、沖洗管5和氮窯熱水排出槽6,磁芯清洗槽I形狀為長方體,傳送帶2設置在磁芯清洗槽I中,且傳送帶2兩端往上翹起呈圓弧狀,傳送帶2中間位置架設有磁振裝置3,傳送帶2上位于磁振裝置3的兩側對稱的架設有支架4,每個支架4上均固定有沖洗管5,每根沖洗管5 —端均對準傳送帶2,另一端均與氮窯熱水排出槽6相連。
[0010]本實用新型結構簡單合理,將傳送帶2設置成圓弧狀,且設置了兩個沖洗管5和磁振裝置3,當磁芯隨著傳送帶2到達第一個沖洗管5位置時,沖洗管5對其進行斜度沖洗,然后到達磁振裝置3中進行深一步的振動清洗,再到達第二個沖洗管5位置時,進行最后的斜度沖洗,不僅沖洗效果好,且沖洗管5中的熱水是通過氮窯熱水排出槽6中過來的,將氮窯排出的熱水進行了充分的利用,不需要再另外對水進行加熱處理,大大降低成本。
[0011]顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應屬于本實用新型保護的范圍。
【主權項】
1.一種磁芯清洗裝置,包括磁芯清洗槽(1)、傳送帶(2)、磁振裝置(3)、支架(4)、沖洗管(5)和氮窯熱水排出槽(6),其特征在于:磁芯清洗槽⑴形狀為長方體,傳送帶(2)設置在磁芯清洗槽(I)中,且所述傳送帶(2)兩端往上翹起呈圓弧狀,所述傳送帶(2)中間位置架設有磁振裝置(3),所述傳送帶(2)上位于所述磁振裝置(3)的兩側對稱的架設有支架(4),每個所述支架(4)上均固定有沖洗管(5),每根所述沖洗管(5) —端均對準傳送帶(2),另一端均與氮窯熱水排出槽(6)相連。
【專利摘要】本實用新型公開了一種磁芯清洗裝置,包括磁芯清洗槽、傳送帶、磁振裝置、支架、沖洗管和氮窯熱水排出槽,傳送帶設置在磁芯清洗槽中,且傳送帶兩端往上翹起呈圓弧狀,傳送帶中間位置架設有磁振裝置,傳送帶上位于磁振裝置的兩側對稱的架設有支架,每個支架上均固定有沖洗管,每根沖洗管一端均對準傳送帶,另一端均與氮窯熱水排出槽相連。當磁芯隨著傳送帶到達第一個沖洗管位置時,沖洗管對其進行斜度沖洗,然后到達磁振裝置中進行深一步的振動清洗,再到達第二個沖洗管位置時,進行最后的斜度沖洗,不僅沖洗效果好,且沖洗管中的熱水是通過氮窯熱水排出槽中過來的,不需要再另外對水進行加熱處理,大大降低成本。
【IPC分類】F27D17-00, B08B3-10, B08B3-02
【公開號】CN204276423
【申請?zhí)枴緾N201420792060
【發(fā)明人】徐仲達, 鄭金良, 許錫坤, 胡建榮
【申請人】浙江春暉復合材料有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月2日