清洗溶液及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及具有蛋白質(zhì)去除作用(效果)和殺菌作用的清洗溶液。
【背景技術(shù)】
[0002]公知，通常市售的具有殺菌作用的清洗溶液包括含有以下成分作為主要成分的清洗溶液:1)過氧化氫水溶液;2)亞氯酸鈉;3)次氯酸鈉等。由于易于處理等原因，以次氯酸鈉為主要成分的清洗溶液被廣泛地用作具有一般殺菌作用的清洗溶液。
[0003]這樣的清洗溶液通常通過對市售的高濃度原液進(jìn)行稀釋后使用。這些清洗溶液作為殺菌劑、漂白劑以及氧化劑廣泛用于以下用途:諸如醫(yī)院消毒液、牙科診所消毒液等、以及家用清洗溶液。但是，調(diào)整至高濃度的原液是強(qiáng)堿性的，因而它具有高PH值，并且附著在皮膚等上是很危險(xiǎn)的，此外，將原液稀釋調(diào)整至適當(dāng)?shù)腜H值時(shí)，還會(huì)放出氯氣等，從而需要非常小心，此外，由于其毒性和氣味等問題，化學(xué)試劑溶液的保管和管理常常成為問題。
[0004]而且，在醫(yī)院和其他設(shè)施等中，在許多情形下都要求殺菌清洗，雖然用于以次氯酸鈉為主要成分的消毒液的自動(dòng)控制調(diào)節(jié)裝置也有售賣，但是成本和占地面積限制了這種大型裝置的引入，從而難以引入這種大型裝置。
[0005]因此，當(dāng)通常用于殺菌的次氯酸鈉溶液被用作消毒液時(shí)，在對化學(xué)合成的上述溶液稀釋之后調(diào)節(jié)PH值的方法和使用無隔膜電解或隔膜電解的方法是已知的(專利文獻(xiàn)I)。
[0006]當(dāng)通過電解法產(chǎn)生次氯酸鈉時(shí)，上述的無隔膜法和隔膜法是已知的。這里，當(dāng)使用隔膜產(chǎn)生次氯酸鈉時(shí)，陰極室和陽極室通過隔膜彼此分開，因此高濃度的氯和高濃度的堿金屬氫氧化物可以進(jìn)行反應(yīng)。因此，這樣的方法用于大規(guī)模生產(chǎn)堿金屬氫氧化物和氯氣(專利文獻(xiàn)2、3以及4)。
[0007]然而，由于上述方法涉及處理含有高濃度化學(xué)試劑的溶液，所以需要專用設(shè)備，這導(dǎo)致復(fù)雜性。
[0008]因此，對于小規(guī)模生產(chǎn)次氯酸鈉溶液或生產(chǎn)家用次氯酸鈉溶液，通過使用無隔膜法對食鹽等和水進(jìn)行電解的生產(chǎn)方法是已知的。雖然使用上述方法產(chǎn)生的次氯酸鈉溶液所含有的次氯酸鈉的濃度低于使用隔膜電解法產(chǎn)生的次氯酸鈉的濃度，但是可以充分地漂白和殺菌，而且，無隔膜法的優(yōu)點(diǎn)在于可以設(shè)置結(jié)構(gòu)較簡單的生產(chǎn)裝置。
[0009]同樣如上所述，先前已公知次氯酸鈉(NaClO)具有殺菌性(效力)，并且也已知通過水解生成的次氯酸(HClO)為其殺菌成分。
[0010]已知有效氯根據(jù)pH值大大改變其形式。由于認(rèn)為殺菌性強(qiáng)的次氯酸在pH值超過7時(shí)，其存在比例急劇降低，變?yōu)闅⒕芰θ醯拇温人岣x子(C10—)，并且還考慮到防止在強(qiáng)酸性PH值范圍內(nèi)產(chǎn)生氯氣，因此通常將殺菌液的pH值設(shè)定為3至7的值，其中，次氯酸的存在比例高(專利文獻(xiàn)I)。
[0011 ]因此，用于牙科治療機(jī)的通常使用的中性殺菌溶液的pH值為6.5至7.0，并且有效氯濃度為10至40ppm。此外，用于一般消毒等的次氯酸溶液也具有低至2.2至7.5的pH值，并且有效氯濃度低至10至lOOppm。
[0012]然而，口腔中的患部(感染區(qū)域)通常覆蓋有主要由蛋白質(zhì)形成的污垢，這存在以下問題:在這種狀態(tài)下應(yīng)用具有發(fā)揮殺菌效果的預(yù)定PH值濃度的殺菌液，由于殺菌液被覆蓋在患部表面上的所述蛋白質(zhì)等阻擋，殺菌液不會(huì)直接作用于患部。此外，還存在以下問題:即使應(yīng)用了殺菌液，由于與患部上的污垢(蛋白質(zhì)等)和/或與牙科治療機(jī)的管中的污垢(蛋白質(zhì)等)進(jìn)行反應(yīng)，在發(fā)揮殺菌作用的預(yù)定PH值下也不能實(shí)現(xiàn)充分的殺菌能力。
[0013]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0014]專利文獻(xiàn)
[0015]專利文獻(xiàn)1:日本第4369530號專利
[0016]專利文獻(xiàn)2:日本昭52-28104B號專利
[0017]專利文獻(xiàn)3:日本昭61-44956B號專利
[0018]專利文獻(xiàn)4:日本平5-179475A號專利

【發(fā)明內(nèi)容】

[0019]發(fā)明所要解決的問題
[0020]因此，本發(fā)明的目的在于提供一種高度穩(wěn)定的清洗溶液，該清洗溶液通過在清洗期間不但產(chǎn)生高濃度的次氯酸而且產(chǎn)生次氯酸根離子，從而即使當(dāng)附著了附著在待清洗面上的由蛋白質(zhì)等形成的污垢時(shí)，也能對細(xì)菌和病毒發(fā)揮殺菌作用和清洗作用。
[0021]問題的解決手段
[0022]本發(fā)明是鑒于上述情況而提出的，本發(fā)明涉及一種清洗溶液，該清洗溶液是在正常存儲(chǔ)條件下不僅含有次氯酸而且含有次氯酸根離子的水溶液，該溶液穩(wěn)定地呈現(xiàn)為有效殘留氯濃度為500ppm至2000ppm并且氫離子濃度指數(shù)為pH 8.5至pH 9.5的次氯酸鈉溶液。該清洗溶液被用作清洗液，通過與口腔中覆蓋患部的蛋白質(zhì)等污垢和/或與牙科治療機(jī)中存在的空氣、蛋白質(zhì)等進(jìn)行反應(yīng)來發(fā)揮清洗效果，從而PH濃度例如降低至5.0至7.0，并且清洗溶液中次氯酸的存在比例增加，從而提高了清洗溶液的殺菌能力，并且能夠?qū)ρ乐懿『妄x齒的病原菌進(jìn)行殺菌。
[0023]該清洗溶液是一種這樣的清洗溶液，其中用于產(chǎn)生上述清洗溶液的NaCl的濃度為I質(zhì)量％以下，通過對該溶液進(jìn)行長時(shí)間的電解，可以更有效地產(chǎn)生次氯酸鈉。
[0024]進(jìn)一步地，該清洗溶液可以是一種這樣的清洗溶液，其中產(chǎn)生該清洗溶液時(shí)pH值為8.5至9.5，并且當(dāng)在口腔中進(jìn)行清潔時(shí)，pH值降低至酸性pH值，從而可以提高次氯酸的殺菌能力。
[0025]發(fā)明效果
[0026]根據(jù)本發(fā)明，可以在小空間中以低成本且安全并容易地通過無隔膜電解法產(chǎn)生不僅含有高濃度的次氯酸而且還含有高濃度的次氯酸根離子的清洗溶液。因此，在例如規(guī)模較小的醫(yī)院、牙科診所等也可以安裝清洗溶液生產(chǎn)裝置，而不會(huì)干擾其他裝置，從而可以有效且持續(xù)地進(jìn)行口腔清洗和治療裝置的清洗。
【附圖說明】
[0027]圖1是示出了無隔膜電解水發(fā)生器的整體外觀的說明圖。
[0028]圖2為顯示了對附著在牙科治療機(jī)的管的內(nèi)表面上的細(xì)菌的清洗效果的一組照片。
[0029]圖3為示出了清洗溶液的特性試驗(yàn)的說明圖。
[0030]圖4是示出了次氯酸的存在比例和pH值之間的關(guān)系以及殺菌效果的說明圖。
[0031]圖5是在不同濃度的氯化鈉(NaCl)的情況下電解時(shí)間和有效氯濃度之間的關(guān)系圖。
[0032]圖6是示出了當(dāng)使用根據(jù)本實(shí)施方式的清洗溶液進(jìn)行口腔清洗時(shí)所述清洗溶液的變化的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0033]下面將描述用于實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0034]圖1示出了根據(jù)本實(shí)施方式的用于生產(chǎn)清洗溶液的生產(chǎn)裝置，如圖1所示，通過使用無隔膜電解法生產(chǎn)該清洗溶液。所使用的用于電解的裝置是通過對由日本AoiEngineering Inc.公司生產(chǎn)的、使用隔膜電解法的強(qiáng)酸性水/強(qiáng)堿性水生成裝置進(jìn)行改進(jìn)以去除電解槽中設(shè)置的隔膜結(jié)構(gòu)，制成無隔膜電解槽加以使用。
[0035]其它部分的機(jī)械構(gòu)造與上述隔膜電解法所使用的機(jī)械構(gòu)造相同，并且使用通常在電解法中使用的部件。
[0036]具體地，電解時(shí)的電壓為IV至3V，優(yōu)選為2.5V，并且電極采用鈦鉑電極。然后，將陰極和陽極的電極浸在上述溶液中，并在兩電極之間施加直流電。
[0037]根據(jù)本實(shí)施方式的清洗溶液的生產(chǎn)方法是將0.1%至2%的少量氯化鈉(NaCl)作為電解質(zhì)溶解在純度99 %以上的超純水中以產(chǎn)生電解水。
[0038]本實(shí)施方式中使用的超純水在25°C水溫下的電阻率為15ΜΩ.cm以上，并且總有機(jī)碳(TOC)小于 0.05mg/Lo
[0039]結(jié)果，離子移動(dòng)，導(dǎo)致水(H2O)被分解，并且在陽極處放出氧氣(O2)，并且氫(H)離子濃度增加。
[0040]在陰極處，放出氫氣(H2)，并且氫氧根(OH)離子濃度增加。
[0041]注意，由于本實(shí)施方式使用無隔膜電解法，因此，在陽極處放出的氯氣與在陰極處生成的高濃度氫氧化鈉進(jìn)行反應(yīng)，從而產(chǎn)生次氯酸鈉。
[0042]這個(gè)過程可以如下式表示:
[0043]在陰極處:2Na2+2H20+2e—2Na0H+H2
[0044]在陽極處:2Cl—Cl2+2e
[0045]因此，可以認(rèn)為氯和氫氧化鈉彼此如下反應(yīng):
[0046]2Na0H+Cl2^NaC10+NaCl+H20
[0047]下面給出實(shí)驗(yàn)例、實(shí)施例以及比較例以更加詳細(xì)地描述本發(fā)明，然而，可以理解本發(fā)明并不限定于下述的實(shí)施例。注意到，各實(shí)施例中的成分含量百分比均表示質(zhì)量百分比。
[0048]實(shí)施例1
[0049]牙科治療機(jī)的管的內(nèi)表面上所附著的細(xì)菌的清洗效果的實(shí)驗(yàn)
[0050](I)清洗溶液