自清潔曝氣頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種污水處理的曝氣裝置，具體涉及一種自清潔曝氣頭。
【背景技術(shù)】
[0002]曝氣是使空氣與水強烈接觸的一種手段，其目的在于將空氣中的氧溶解于水中，或者將水中不需要的氣體和揮發(fā)性物質(zhì)放逐到空氣中，它是促進氣體與液體之間物質(zhì)交換的一種手段。曝氣設(shè)備正是基于這種做法而在污水處理中被廣泛采用的，其通過快速變換"氣-液〃界面，減少氣泡的大小，增加氣泡的數(shù)量，提高液體的紊流程度，加大曝氣器的安裝深度，延長氣泡與液體的接觸時間。目前市場上所用的曝氣頭主要用于工業(yè)污水、市政污水生化處理，其單根通氣量大，底部阻力低，提升能力強，充氧效率高。曝氣頭上開有大量孔眼，用于將氧氣破碎成細小氣泡，從而提高污水內(nèi)的含氧濃度，但是，由于污水處理中會沉積很多的污泥、雜質(zhì)等，這些雜質(zhì)容易在曝氣頭頭上堆積，并造成曝氣孔的堵塞，造成曝氣裝置的使用壽命的縮短。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是針對上述不足，提供一種方便對曝氣孔進行清洗，使曝氣孔始終保持暢通的曝氣頭。
[0004]為達到上述技術(shù)目的，本發(fā)明提供一種自清潔曝氣頭，均勻分布于曝氣板上，所述曝氣頭包括一具有中空氣流通道的殼體，所述氣流通道向上開設(shè)有一錐形氣孔，同時，所述氣流通道中設(shè)有自清潔微孔曝氣裝置，所述自清潔微孔曝氣裝置包括，
[0005]—與所述錐形氣孔相配合的錐形頭，所述錐形頭上分布有微型曝氣孔；
[0006]—設(shè)置在所述錐形頭與所述氣流通道的底部之間的伸縮機構(gòu)，所述伸縮機構(gòu)用于控制所述錐形頭與所述錐形氣孔之間的位置配合；
[0007]當(dāng)伸縮機構(gòu)處于拉深狀態(tài)時，所述錐形頭與所述錐形氣孔相配合，所述氣流自所述錐形頭的微型曝氣孔中溢出；當(dāng)伸縮機構(gòu)處于壓縮狀態(tài)時，所述錐形頭與所述錐形氣孔之間形成自清潔氣流通道，所述氣流由所述自清潔氣流通道中溢出。
[0008]優(yōu)選的，所述伸縮機構(gòu)包括一下拉組件和一復(fù)位部件，所述下拉組件用于使所述錐形頭做遠離所述錐形氣孔運動，所述復(fù)位部件用于使所述錐形頭做靠近所述錐形氣孔運動。
[0009]優(yōu)選的，所述下拉組件包括設(shè)置在錐形頭上的磁性部件，以及相對所述磁性部件設(shè)置在所述氣流通道底部的電磁模塊，所述電磁模塊控制與磁性部件的吸合。
[0010]優(yōu)選的，所述下拉組件還包括一控制模塊，所述控制模塊用于控制所述電磁模塊產(chǎn)生磁場，對磁性部件進行吸合。
[0011]優(yōu)選的，所述復(fù)位部件為彈性支撐部件，所述彈性支撐部件的兩端分別與所述錐形頭、氣流通道的底部相連接，所述彈性支撐部件能夠在吸合磁場消失時，使所述錐形頭恢復(fù)至與所述錐形氣孔相配合的位置。
[0012]優(yōu)選的，所述錐形氣孔的錐度大于所述錐形頭的錐度。
[0013]優(yōu)選的，所述錐形頭的端部的直徑與所述錐形氣孔的孔口直徑相同，所述錐形頭的頂端直徑小于所述錐形氣孔的孔口直徑。
[0014]優(yōu)選的，所述錐形頭頂端分布有微型曝氣孔。
[0015]優(yōu)選的，所述錐形頭底邊水平向外延伸出一外檐，所述外檐的直徑大于所述錐形氣孔的底邊直徑。
[0016]優(yōu)選的，所述外檐相對所述錐形氣孔的一側(cè)面設(shè)有柔性抵接件。
[0017]本發(fā)明所述自清潔曝氣頭，其通過設(shè)置內(nèi)外配合的錐形氣孔與錐形頭，并在錐形頭與氣流通道的底部之間設(shè)置彈性部件，通過彈性部件的形變性能，使錐形頭下拉，改變所述錐形氣孔與錐形頭之間的相對位置，使所述曝氣頭的曝氣孔變大，所述錐形頭與錐形氣孔之間形成較大的氣流通道，通過所述氣流對所述錐形頭上設(shè)置的微型曝氣孔進行沖洗，達到自清潔的目的，本發(fā)明所述自清潔曝氣頭，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，適于廣泛應(yīng)用。
【附圖說明】
[0018]圖1是本發(fā)明所述自清潔曝氣頭曝氣時的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2是本發(fā)明所述自清潔曝氣頭自清潔時的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3為圖1中A部放大示意圖；
[0021 ]圖4為本發(fā)明所述錐形頭的俯視圖。
【具體實施方式】
[0022]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0023]如圖1和圖2所示，本發(fā)明的實施例提供了一種自清潔曝氣頭，其均勻分布于曝氣板上，所述曝氣頭包括一具有中空氣流通道101的殼體10，所述氣流通道101向上開設(shè)有一錐形氣孔11，
[0024]同時，所述氣流通道1I中設(shè)有自清潔微孔曝氣裝置20，所述自清潔微孔曝氣裝置20包括，
[0025]一與所述錐形氣孔11相配合的錐形頭21，所述錐形頭21上分布有微型曝氣孔201;
[0026]—設(shè)置在所述錐形頭21與所述氣流通道101的底部之間的伸縮機構(gòu)22，所述伸縮機構(gòu)22用于控制所述錐形頭21與所述錐形氣孔11之間的位置配合；
[0027]當(dāng)伸縮機構(gòu)22處于拉深狀態(tài)時，所述錐形頭21與所述錐形氣孔11相配合，所述氣流自所述錐形頭21的微型曝氣孔201中溢出；當(dāng)伸縮機構(gòu)22處于壓縮狀態(tài)時，所述錐形頭21與所述錐形氣孔11之間形成自清潔氣流通道101，所述氣流由所述自清潔氣流通道101中溢出。
[0028]具體的，所述錐形頭21的錐度小于所述錐形氣孔11的錐度，而所述錐形頭21的端部211的直徑與所述錐形氣孔11的孔口 111直徑相同，所述錐形頭21的頂端212直徑小于所述錐形氣孔孔口 111的直徑，因此，所述錐形頭21的頂端212能夠突出所述錐形氣孔11設(shè)置，所述錐形頭頂端212分布有微型曝氣孔201。
[0029]所述伸縮機構(gòu)22包括一下拉組件221和一復(fù)位部件222，所述下拉組件221用于使所述錐形頭21做遠離所述錐形氣孔11運動，所述復(fù)位部件222用于使所述錐形頭21做靠近所述錐形氣孔11運動。
[0030]其中，所述下拉組件221包括設(shè)置在錐形頭21上的磁性部件221a，以及相對所述磁性部件221a設(shè)置在所述氣流通道101底部的電磁模塊221b，所述電磁模塊221b控制與磁性部件221a的吸合。當(dāng)電磁模塊221b通電產(chǎn)生吸合磁場時，所述磁性部件221a在磁場作用下被所述電磁模塊221b吸合，進而帶動錐形頭21，將其下拉至所述氣流通道101底部，使所述錐形頭21與所述錐形氣孔11之間形成自清潔氣流通道101。優(yōu)選的，所述磁性部件221a為直徑與所述錐形頭21的底邊直徑相配合的環(huán)形磁鐵。
[0031 ]所述電磁模塊221b的供電情況由一控制模塊221c控制，所述控制模塊221c根據(jù)用戶設(shè)置的指令，通過對電磁模塊221b的供電控制，實現(xiàn)對錐形頭21的智能控制。
[0032]所述復(fù)位部件22