專利名稱：一種反應池和沉淀池的連接方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種反應池和沉淀池的連接方法，更具體說是一種凈水裝置中反應池和沉淀池的連接方法。
背景技術：
現(xiàn)有凈水裝置將反應、沉淀、過濾等水處理單元通過管道、渠道或布水隔板(墻) 等設施組合在一起，凈水裝置主要工藝結構包含反應池、沉淀池、過濾池。原水投加混凝劑后反應，在反應池內(nèi)把水中懸浮顆粒物凝結成大顆粒絮凝體，之后經(jīng)管道、渠道或布水板 (墻)等設施，經(jīng)沉淀池一端水平進入沉淀池污泥斗上方的布水區(qū)，水流在沉淀池布水區(qū)內(nèi)改變流向，開始垂直向上流經(jīng)斜管區(qū)，經(jīng)斜管沉淀泥水分離后，絮凝體沉入污泥斗，清水向上流經(jīng)沉淀池集水槽收集后進入過濾池，在過濾池內(nèi)進一步去除水流中的少量固體懸浮物，凈化后的水經(jīng)凈化裝置出水口流出，完成整個凈化過程?，F(xiàn)有凈水裝置的反應池末段水流經(jīng)管道、渠道或布水板(墻)等設施，經(jīng)沉淀池一端水平進入沉淀池污泥斗上方的布水區(qū)，不能有效利用沉淀池布水區(qū)及污泥斗下方的閑置空間、布水水流不易均勻分布、容易打碎絮凝體、影響反應沉淀效果，為了解決上述問題，更好的提高反應沉淀效果，需要設計一種新的反應池和沉淀池的連接方法。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題，本發(fā)明提供一種能有效利用沉淀池布水區(qū)及污泥斗下方閑置空間、布水水流均勻分布、促進絮凝體凝聚，提高反應沉淀效果的反應池和沉淀池的連接方法。為解決上述問題，本發(fā)明采用了以下技術方案在凈水裝置殼體內(nèi)，將反應池置于沉淀池污泥斗下方，沉淀池設置有多個平行的污泥斗，污泥斗與污泥斗間保留一定的過水間隙，在每個過水間隙的上方設置導流布水裝置，多個導流布水裝置水平分布。反應池末端水流自下而上進入污泥斗與污泥斗間的過水間隙，隨著過水間隙的水平截面積逐漸減小， 水流中絮凝體相互碰撞、吸附的機率加大，促進沉降性能更好的絮凝體形成，水流至過水間隙上方的導流布水裝置時，經(jīng)水平分布的多個導流布水裝置均勻分布在沉淀池布水區(qū)，可以在不打碎絮凝體的情況下使水平均勻分布在沉淀池布水區(qū)。該方法可利用沉淀池污泥斗下方閑置空間作為反應池末段反應區(qū)，又可利用污泥斗間過水間隙上方的導流布水裝置使水平均勻分布在沉淀池布水區(qū)，既可提高凈水裝置內(nèi)空間利用率，又可提高反應沉淀效果。上述反應池可以是反應池末段、部分反應池或全部反應池，上述反應池可以是隔板反應池、網(wǎng)格反應池、填料反應池或多種形式反應池的組合。上述沉淀池可以是斜管沉淀池、斜板沉淀池或豎流式沉淀池。上述污泥斗與污泥斗間保留一定過水間隙，可以是每相鄰的兩個污泥斗間保留一個過水間隙，也可以是多個污泥斗間保留一個過水間隙。上述導流布水裝置可以是截面積為方形、三角形、菱形、圓形的布水隔板。
上述凈水裝置殼體上，反應區(qū)設置一個或多個人孔，方便對內(nèi)部進行材料安裝、檢修及維護。


附圖為本發(fā)明一種反應池和沉淀池的連接方法示意圖。1-凈水裝置殼體，2-反應池，3-沉淀池，4-污泥斗，5-導流布水裝置，6-人孔， 7-布水區(qū)，8-過水間隙。
具體實施例方式如圖所示，本發(fā)明為一種凈水裝置殼體(1)內(nèi)反應池( 和沉淀池(3)的連接方法，所述反應池O)、沉淀池(3)內(nèi)部結構與技術和現(xiàn)有技術的凈水裝置相類似，因此僅作簡單描述，所述反應池(2)置于沉淀池(3)的污泥斗(4)下方，沉淀池(3)設有多個污泥斗 G)，污泥斗(4)與污泥斗(4)間保留一定的過水間隙(8)，每個過水間隙(8)上方設置有一個導流布水裝置(5)，多個導流布水裝置( 水平分布，水流自下而上流經(jīng)污泥斗(4)與污泥斗⑷間的過水間隙(8)，隨著過水間隙⑶水平截面積的逐漸減小，水流中的絮凝體相互碰撞吸附機率增大，促進形成沉淀性能更好的絮凝體形成，水流經(jīng)過水間隙(8)上方的多個水平分布的導流布水裝置( 均勻的分布在沉淀池(3)的布水區(qū)(7)。所述反應池(2)可以是反應池末段、部分反應池或全部反應池，所述反應池(2)可以是隔板反應池、網(wǎng)格反應池、填料反應池或多種形式反應池的組合。上述沉淀池C3)可以是斜管沉淀池、斜板沉淀池或豎流式沉淀池。上述污泥斗(4)與污泥斗間保留一定過水間隙，可以是每相鄰的兩個污泥斗間(4)保留一個過水間隙(8)，也可以是多個污泥斗(4)間保留一個過水間隙(8)。上述導流布水裝置( 可以是截面積為方形、三角形、菱形、圓形的布水隔板。上述凈水裝置殼體(1)上，反應區(qū)( 設置一個或多個人孔(6)，方便對凈水裝置殼體(1)內(nèi)部進行材料安裝、檢修及維護。
權利要求
1.一種反應池(2)和沉淀池(3)的連接方法，其特征在于凈水裝置殼體(1)內(nèi)，所述反應池( 置于沉淀池(3)的污泥斗(4)下方，沉淀池C3)設有多個污泥斗G)，污泥斗(4) 與污泥斗(4)間保留一定的過水間隙(8)，每個過水間隙(8)上方設置有一個導流布水裝置(5)，多個導流布水裝置( 水平分布，水流自下而上流經(jīng)污泥斗(4)與污泥斗間的過水間隙(8)，經(jīng)導流布水裝置(5)均勻的分布在沉淀池(3)的布水區(qū)(7)。
2.根據(jù)權利要求1所述，所述反應池(2)可以是反應池末段、部分反應池或全部反應池，所述反應池(2)可以是隔板反應池、網(wǎng)格反應池、填料反應池或多種形式反應池的組I=I ο
3.根據(jù)權利要求1所述，所述沉淀池C3)可以是斜管沉淀池、斜板沉淀池或豎流式沉淀池。
4.根據(jù)權利要求1所述，所述污泥斗⑷與污泥斗⑷間保留一個過水間隙，可以是每相鄰的兩個污泥斗間(4)保留一定過水間隙(8)，也可以是多個污泥斗(4)間保留一個過水間隙⑶。
5.根據(jù)權利要求1所述，所述導流布水裝置( 可以是截面積為方形、三角形、菱形、圓形的布水隔板。
6.根據(jù)權利要求1所述，所述凈水裝置殼體(1)上，反應區(qū)( 設置一個或多個人孔(6)。
全文摘要
本發(fā)明名稱為一種反應池和沉淀池的連接方法，應用于凈水裝置中，屬水處理領域。該方法將反應池置于沉淀池污泥斗下方，污泥斗與污泥斗間保留過水間隙，過水間隙上方設置導流布水裝置，多個導流布水裝置水平分布，水流自下而上經(jīng)過水間隙，經(jīng)導流布水裝置均勻的分布在沉淀池布水區(qū)，隨著污泥斗間過水間隙的截面積逐漸減小，水流中的絮凝體相互碰撞吸附形成易沉降的絮凝物。該方法可有效利用沉淀池布水區(qū)及污泥斗下方閑置空間，經(jīng)多個水平分布的導流布水裝置布水水流均勻穩(wěn)定，經(jīng)反應池加強絮凝反應效果，提高絮凝物沉降性，從而提高凈水裝置內(nèi)空間利用率及處理效果，適用于中小型自來水凈化裝置及水質(zhì)凈化處理工程中使用。
文檔編號C02F1/52GK102408163SQ20101028795
公開日2012年4月11日 申請日期2010年9月20日 優(yōu)先權日2010年9月20日
發(fā)明者田磊 申請人:田磊