專利名稱：化學(xué)還原反應(yīng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及環(huán)保設(shè)備，特別是涉及工業(yè)污染的廢水處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
在污水處理中利用化學(xué)還原的方法處理工業(yè)污水是經(jīng)常使用的方法之一。而 提高反應(yīng)速度和提高處理效率，降低能耗則需要不斷改進(jìn)工藝和與之相適應(yīng)的處 理設(shè)備。

實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種高效節(jié)能，氧化還原速度快，處理效果好的化 學(xué)還原反應(yīng)器。
本實用新型的目的是這樣達(dá)到的 一種化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于反應(yīng) 器由殼體、殼蓋和內(nèi)置的加熱盤管、曝氣管構(gòu)成，殼體的下端是圓錐形，錐尖的 中央設(shè)有排渣口，曝氣管和加熱盤管放置在殼體內(nèi)，加熱盤管的進(jìn)氣口高度在殼 體外掛耳的下沿線位置。進(jìn)水口設(shè)置在殼體外側(cè)中部位置，至于掛耳的下端，進(jìn) 水管下伸到加熱盤管的下端位置，出水口設(shè)置在殼蓋的上側(cè)面。反應(yīng)器的殼體內(nèi) 徑是1800毫米，殼體的圓柱形部分的高度是2500毫米，加熱盤管的高度是1000 毫米，直徑是1500毫米。
加熱盤管的上部有蒸氣進(jìn)口，下部有冷凝水出口。
在殼體外側(cè)分別安有液位計口和熱電偶測試口 。
曝氣管的進(jìn)口是壓縮空氣進(jìn)口 。
反應(yīng)器通過殼體外面的掛耳安裝固定。
本實用新型的優(yōu)點是設(shè)計合理，加熱均勻，氧化還原的速度快，能耗低?？?廣泛用于大多數(shù)化工廢水，醫(yī)藥、農(nóng)藥中間體廢水及多環(huán)雜環(huán)類廢水的處理，


圖l是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖2是本微電解反應(yīng)器各種管口的方位圖；圖3是加熱盤管的示意圖。
圖中，a、進(jìn)水口； b、出水口； C、熱電偶測試口； d、蒸氣進(jìn)口； e、冷凝 水口； f、壓縮空氣進(jìn)口； g、排渣口； jl、 j2液位計口； 1、曝氣管；2、加熱 盤管；3、進(jìn)水管；4、掛耳；5、殼體；6、殼蓋。
具體實施方式
附圖給出了本實用新型的一個實施例。 參見附圖。
反應(yīng)器由殼體5、殼蓋6和內(nèi)置的加熱盤管2、曝氣管1構(gòu)成。殼體的下端 是圓錐形，錐尖的中央設(shè)有排渣口g。曝氣管1和加熱盤管2放置在殼體5內(nèi)。 加熱盤管2與殼體內(nèi)壁間的距離相對較大，而高度相對較高。在本例中，加熱盤 管的高度是1000毫米，直徑是1500毫米。反應(yīng)器的殼體內(nèi)徑是1800毫米，殼 體的圓柱形部分的高度是2500毫米。進(jìn)水口a設(shè)置的位置相對較低，在殼體中 部位置與殼體掛耳的下沿線基本持平。進(jìn)水管3從殼體上部一直伸到加熱盤管的 下端位置。出水口 b設(shè)置在殼蓋6的側(cè)面。在殼體外側(cè)有兩個液位計口 jl、 j2 和熱電偶測試口 c。
加熱盤管的上部有蒸氣進(jìn)口 d，下部有冷凝水出口e。
壓縮空氣進(jìn)口 f向曝氣管輸送壓縮空氣，
反應(yīng)器通過殼體外面的掛耳4安裝固定。
權(quán)利要求1、一種化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述反應(yīng)器由殼體、殼蓋和內(nèi)置的加熱盤管、曝氣管構(gòu)成，殼體的下端是圓錐形，錐尖的中央設(shè)有排渣口，曝氣管和加熱盤管放置在殼體內(nèi)，加熱盤管的進(jìn)氣口高度在殼體外掛耳的下沿線位置，進(jìn)水口設(shè)置在殼體外側(cè)中部位置，至于掛耳的下沿線位置，進(jìn)水管下伸到加熱盤管的下端位置，出水口設(shè)置在殼蓋的上側(cè)面。
2、 如權(quán)利要求1所述的化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述反應(yīng)器的殼體內(nèi)徑是1800毫米，殼體的圓柱形部分的高度是2500毫米，加熱盤管的高度是 1000毫米，直徑是1500毫米。
3、 如權(quán)利要求1所述的化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述加熱盤管的上部有蒸氣進(jìn)口，下部有冷凝水出口。
4、 如權(quán)利要求1所述的化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述在殼體外側(cè)分別安有液位計口和熱電偶測試口 。
5、 如權(quán)利要求1所述的化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述曝氣管的進(jìn)口 是壓縮空氣進(jìn)口。
6、 如權(quán)利要求1所述的化學(xué)還原反應(yīng)器，其特征在于所述反應(yīng)器通過殼 體外面的掛耳安裝固定。
專利摘要本實用新型屬環(huán)保設(shè)備。反應(yīng)器由殼體、殼蓋和內(nèi)置的加熱盤管、曝氣管構(gòu)成，殼體的下端是圓錐形，錐尖的中央設(shè)有排渣口，曝氣管和加熱盤管放置在殼體內(nèi)，加熱盤管的進(jìn)氣口高度在殼體外掛耳的下沿線位置。進(jìn)水口設(shè)置在殼體外側(cè)中部位置，至于掛耳的下端，進(jìn)水管下伸到加熱盤管的下端位置，出水口設(shè)置在殼蓋的上側(cè)面。本實用新型的優(yōu)點是氧化徹底，反應(yīng)速度快、節(jié)能。設(shè)備使用壽命長。
文檔編號C02F1/72GK201240918SQ20082006363
公開日2009年5月20日 申請日期2008年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月3日
發(fā)明者宋岱峰 申請人:四川立新瑞德環(huán)保科技發(fā)展有限責(zé)任公司