專利名稱：一種水處理工藝流程的制作方法
技術領域：
水處理技術。
背景技術：
常規(guī)水處理，一般要進行粗濾，精濾等工藝流程復雜，設備繁多；特別是一些常規(guī)水處理的的英砂、錳砂過濾，不僅需要多個容器，而且過濾效果不佳，過濾介質更換頻繁，使用壽命低，處理過程設備多，占地面積大，一次性投資大。
本工藝流程特點為發(fā)明了新的工藝流程組合；發(fā)明了“碟輻射沉淀床”發(fā)明了“懸浮物分離腔”；發(fā)明了“碟輻射振動頻率調解體”由于碟輻射沉淀和懸浮物分離的使用，提高了所用介質的使用壽命；減少了使用設備的數量；降低了一次性投資；減小了水處理過程的占地面積；提高了制水質量。

發(fā)明內容
新水處理工藝流程首先進行高磁水處理，高磁水處理是憑借高頻磁場的輻射特性，向水中傳輸殺菌、滅澡、防腐、除垢等所需要的磁場能量。它通過先進的物理水處理的手段，使原來締結而成的大分子團斷裂成單個水分子。這種方法是改變水中結垢的過程和結垢形態(tài)，而不改水質的成份，經高磁水處理的水中的雜質以顆粒狀懸浮于水中。
經過高磁水處理的水，在壓力和流速的作用下，沿著容器的壁旋轉，在旋轉的過程中充分的混凝，懸浮在水中的雜質互相摩擦吸引，雜質團越來越來大，同時在水流的作用下向渦旋中間旋轉移動。由于旋轉中心的速度越來越低，越來越大的懸浮顆粒進入中間的“相對穩(wěn)定區(qū)”，旋轉移動過程中比水分子重的物質漸漸下沉，落入沉淀床；旋轉移動過程中比水分子輕的物質慢慢上浮到“懸浮物分離腔”，其余的水等由中間進入過濾工序。
在容器的下部，設有碟輻射沉淀床。當逐漸加大的懸顆粒在流體的作用下進入(相對)穩(wěn)定區(qū)時，比水分子重的物質漸漸下沉由中間孔落入沉淀床，在碟輻射沉淀床中心上端，有快速的流體作用(動區(qū))而內部流體是通過中間孔被動(我們稱相對穩(wěn)定)，碟片在“動”與“穩(wěn)”的狀態(tài)下，產生低脈動震動，沉淀在床上的微粒在低脈動的作用下，產生蠕動，紛紛的滑入集污區(qū)。通過根據水處理實情進行編程的反沖洗的過程，將集污區(qū)中的污垢清理掉。
在容器的混凝區(qū)的外圓周上部，設有“懸浮物分離腔”，比水分子輕的物質慢慢上浮到“懸浮物分離腔”，當懸浮物到一定濃度時，通過根據水處理實情進行編程的控制，將自動打開閥門排除懸浮物。
綜上所述，通過高磁水處理、渦旋混凝、低脈動沉淀、懸浮排物、過濾等工序，形成了一套新的水處理工藝流程。這套新的水處理工藝流程，不但結構簡單而且制水質量好，可以廣泛用在上水、中水、和下水的處理上。
權利要求
1.一種水處理工藝流程(既高磁水處理、渦旋混凝、低脈動沉淀、懸浮排物、過濾工序組合成的新水處理工藝流程)；
2.本流程特點和所含技術(既碟輻射沉淀床、懸浮物分離腔、碟輻射振動頻率調解體)。
全文摘要
一種水處理工藝流程是通過高磁水處理、渦旋混凝、低脈動沉淀、懸浮排物、過濾等工序形成的新水處理組合工藝流程。本流程；發(fā)明了“碟輻射沉淀床”；發(fā)明了“懸浮物分離腔”；發(fā)明了“碟輻射振動頻率調解體”。本流程可以廣泛應用在上水、中水和下水的處理上。特別在上水的處理上由于碟輻射沉淀和懸浮物分離的使用，大幅度提高了過濾工序所用介質的使用壽命；減少了使用設備的數量；降低了一次性投資；減小了水處理過程的占地面積；提高了制水質量。
文檔編號C02F1/24GK101092261SQ20061008695
公開日2007年12月26日 申請日期2006年6月20日 優(yōu)先權日2006年6月20日
發(fā)明者高佩顯 申請人:高佩顯