專利名稱：利用紫外線輻射的模塊式高速高壓液體消毒的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液體消毒，更具體地涉及使用紫外線(UV)輻射進(jìn)行液體消毒。
背景技術(shù)：
使用UV輻射來為透明或不透明的液體消毒是公知的，例如水(包括廢水)、果汁、鹽水、腌泡汁和飲料等的UV輻射消毒。美國專利Nos.3,527,940和4,968,891包含了多個(gè)示例，在此引入所披露的專利作為參考。相對(duì)于其它的液體消毒方法，使用UV輻射來為液體消毒具有許多優(yōu)點(diǎn)，經(jīng)常使其成為十分受歡迎的選擇，它往往將以快速、簡(jiǎn)單和相對(duì)便宜的方式改進(jìn)消毒。
然而，使用UV輻射為液體消毒的原有設(shè)備和方法也存在許多缺點(diǎn)。例如，所述消毒設(shè)備相對(duì)易碎的性質(zhì)對(duì)可能處理的流速以及可能使用的操作壓力施加了不良的限制。所述設(shè)備相對(duì)易碎的性質(zhì)同樣限制了可用于清洗目的的壓力和流速，使得其更難以或者不可能在定點(diǎn)(place)設(shè)備中提供方便的清洗。UV輻射用于液體消毒的有效性隨距離增加快速降低，很可能呈指數(shù)下降，因此主要依賴液體的湍流來提供平穩(wěn)、徹底的液體消毒會(huì)不可靠。另外，為達(dá)到理想消毒水平而采用的暴露次數(shù)往往會(huì)導(dǎo)致使用不受歡迎的大設(shè)備或大量所述設(shè)備的單元，增加了系統(tǒng)的成本，占用了寶貴的地面空間。在一個(gè)典型的采用原有技術(shù)的單元中，由燈泡放射出來的大部分輻射沒有直接指向待處理的液體而被浪費(fèi)了，使得輻射以及用于產(chǎn)生輻射的能量利用效率低下。對(duì)于處理不同的流型、流速和處理時(shí)間，原有用于提供液體UV消毒的機(jī)箱或單元也只提供很少的靈活性或者根本不具有靈活性。另外，原有機(jī)箱和單元的保修也十分困難和費(fèi)時(shí)，典型地是要求整個(gè)機(jī)箱或單元關(guān)閉和停止使用較長時(shí)間。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種使用輻射以提高效率處理液體的系統(tǒng)和方法。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，允許以最小的調(diào)整量靈活地在并流和串流之間切換。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，可以提供處理高壓和高流速的耐用系統(tǒng)。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)使用模塊式發(fā)光單元以允許快速容易地置換燈泡或其它部件。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)可高效地利用由處理燈泡產(chǎn)生的輻射。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)可提供延長的處理路徑而不相應(yīng)增加處理室的長度。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)對(duì)于待處理液體提供更平穩(wěn)更徹底的暴露。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種上述類型的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)便于在處理室的同一端輸入輸出流體。
為了實(shí)現(xiàn)這些以及其它目的和優(yōu)點(diǎn)，披露一種輻射處理方法和設(shè)備。所述設(shè)備包括處理室和緊靠其周圍布置的輻射源，例如一個(gè)或多個(gè)UV燈泡。所述處理室具有連接同軸排列的內(nèi)部和外部管道的集管。所述同軸布置的管道形成環(huán)形區(qū)域，靜態(tài)混合器通過所述環(huán)形區(qū)域界定螺旋形流體流通路徑。通過所述內(nèi)部管道的中心和所述集管設(shè)有出口路徑。設(shè)有入口和出口歧管，其鄰近的處理室可以交替地排列和連接起來以用于并流或串流?？墒褂媚K式發(fā)光單元，其中兩個(gè)鏡像的每部分都具有支撐和排列反射器的支架以及鄰近每個(gè)處理室的UV燈泡。


結(jié)合附圖，通過參考以下根據(jù)本發(fā)明當(dāng)前優(yōu)選的但仍然是說明性的實(shí)施例的詳細(xì)說明，將更徹底地理解上述的說明內(nèi)容以及本發(fā)明另外的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，附圖包括圖1是組成本發(fā)明輻射處理設(shè)備一部分的處理室的剖面?zhèn)纫晥D；圖2是本發(fā)明輻射處理設(shè)備的剖面俯視圖；圖3是本發(fā)明輻射處理設(shè)備的可選實(shí)施例的局部側(cè)視圖；圖4是本發(fā)明輻射處理設(shè)備的可選實(shí)施例的局部剖面俯視圖；圖5是本發(fā)明輻射處理設(shè)備的并流排列的俯看透視圖；圖6是本發(fā)明輻射處理設(shè)備的串流排列的俯看透視圖；圖7是用于為本發(fā)明輻射處理設(shè)備提供外殼的機(jī)箱的正視圖；以及圖8是用于為本發(fā)明輻射處理設(shè)備提供外殼的機(jī)箱的局部側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
參看圖1，附圖標(biāo)記10通常代表上述發(fā)明的輻射處理設(shè)備。所述設(shè)備10包括處理室12和緊靠其周圍布置的輻射源14。
處理室包括集管16、內(nèi)部管道18和外部管道20、靜態(tài)混合器22以及端蓋24。集管16具有外部殼體26、內(nèi)部集管管道28、具有輸入孔32的輸入管30以及具有輸出孔36的輸出管34。外部殼體26頂部打開而底部閉合，在其相對(duì)的兩側(cè)布置有兩個(gè)側(cè)孔，其中一個(gè)側(cè)孔比另一個(gè)大。固定件38連接到外部殼體26的底部壁面上。輸入管30連接到外部殼體26上，與兩個(gè)側(cè)孔中較大的孔對(duì)齊。輸出管34連接到外部殼體26上，與兩個(gè)其它側(cè)孔中較小的孔對(duì)齊。輸入管30和輸出管34的內(nèi)徑都大約為1.5英寸。輸出管34的內(nèi)徑大于側(cè)孔的直徑。內(nèi)部集管管道28具有中心布置并與外部殼體26同軸排列的輸入孔，以及與兩個(gè)側(cè)孔中的小孔對(duì)齊的輸出孔。內(nèi)部集管管道28的內(nèi)徑基本與所述側(cè)孔的直徑相等。集管16優(yōu)選地由不銹鋼制成并在定點(diǎn)構(gòu)造中被清洗。當(dāng)然應(yīng)理解，集管16可由任意數(shù)目的不同材料或者材料的組合制成。還應(yīng)理解，集管16可由許多不同部件裝配或制造而成，或者可由一個(gè)或多個(gè)整體構(gòu)件澆注或模制而成。
外部管道20由可透過UV輻射或所使用的輻射類型的材料制成。外部管道20優(yōu)選地由聚合物構(gòu)成，更優(yōu)選地是由含氟聚合物構(gòu)成，最優(yōu)選地是由氟化乙烯丙烯構(gòu)成。外部管道20顯然可由熟知的具有理想透光度的任意數(shù)目的材料構(gòu)成。外部管道20長約60英寸，內(nèi)徑約為1.25英寸。外部管道20的下部例如使用軟管夾40連接到集管16。端蓋24例如使用軟管夾40連接在外部管道20的上部。端蓋24的下表面42彎成曲面以有助于以最小的壓降使得流體改變方向。端蓋24優(yōu)選地由不銹鋼制成。
內(nèi)部管道18的輸出端連接到內(nèi)部集管管道28的輸入端，內(nèi)部管道18在外部管道20內(nèi)沿其大部分(即使不是全部)高度同軸延伸排列。內(nèi)部管道18優(yōu)選地由不銹鋼制成，其內(nèi)徑基本在0.5-3.25英寸的范圍內(nèi)。內(nèi)部管道18的外徑基本在0.75-3.5英寸的范圍內(nèi)。內(nèi)部管道18的外徑和外部管道20的內(nèi)徑優(yōu)選地選擇為在兩個(gè)寬度約為0.25英寸的管道之間提供相對(duì)狹窄的環(huán)面44。內(nèi)部管道18的內(nèi)表面界定內(nèi)部流動(dòng)路徑。外部管道20的內(nèi)表面和內(nèi)部管道18的外表面界定外部流動(dòng)路徑。內(nèi)部管道18的末端中的孔使得外部流動(dòng)路徑與內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系。內(nèi)部管道18的外表面不透過從輻射源14的輻射并優(yōu)選地反射輻射。
靜態(tài)混合器或螺旋構(gòu)件22是一種通過如焊接這種方式連接到內(nèi)部管道18的外徑上的螺旋式靜態(tài)混合器。混合器22在內(nèi)部管道18的外壁和外部管道20的內(nèi)壁之間延伸，并優(yōu)選地與外部管道20的內(nèi)壁接觸。混合器22優(yōu)選地由不銹鋼制成。根據(jù)設(shè)備10所需要的特性，可使用不同的纏繞程度。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述纏繞對(duì)于每英寸的環(huán)面44高度提供大約3.9英寸的液體流通路徑。對(duì)于其中的環(huán)面44的區(qū)域高度大約為60英寸的處理室12而言，這將提供大約234英寸的流體流通路徑。
參看圖2，設(shè)有由兩個(gè)鏡像部分47形成的模塊式發(fā)光單元46。鏡像部分47通過鉸鏈49或按任何常規(guī)方式相互連接。每個(gè)鏡像部分47包括多個(gè)燈泡14、一個(gè)或多個(gè)反射器48以及支架50。支架50支撐和排列燈泡14，并且支撐和排列鄰近燈泡14布置的一個(gè)或多個(gè)反射器48。反射器48配置了與每個(gè)燈泡14相聯(lián)系的如半圓形、雙曲線型或拋物線型這樣的弧形部分或球缺，布置和排列所述弧形部分或球缺是為了向處理室12反射和聚集從燈泡14的外部發(fā)出的輻射。布置所述球缺以使得反射器48通常為蛤殼型。在那一點(diǎn)上，凹入相鄰球缺部分的剖面的公共平面中的一個(gè)球缺的剖面不與相鄰球缺的剖面形成一部分公共圓或半圓。每個(gè)剖面優(yōu)選地為半圓形并且每個(gè)球缺剖面都具有大于約45°的弧長。選擇反射器48的內(nèi)表面以高度反射所使用的輻射。例如，如果使用UV燈泡14，則內(nèi)表面優(yōu)選地用鋁拋光。每個(gè)鏡像部分47與其配合部分47牢固連接，并用任何方式牢固連接在機(jī)箱66之內(nèi)，例如牢固連接在機(jī)箱的后壁上或者牢固連接在置于機(jī)箱66內(nèi)的支架上。在優(yōu)選實(shí)施例中，一個(gè)鏡像部分47向機(jī)箱66的后部布置，而配合部分47向機(jī)箱66的前部布置，使得前鏡像部分47可易于打開以連通處理室12和發(fā)光單元46的鏡像部分47。每個(gè)鏡像部分47在沒有拆除與其相聯(lián)系的處理室或配合部分47的情況下可以單獨(dú)拆離。每個(gè)鏡像部分47的支架50布置成將燈泡14安放在緊靠外部管道20的外表面的位置上。在使用了模塊概念的優(yōu)選實(shí)施例中，分離的模塊式發(fā)光單元與每個(gè)處理室12相聯(lián)系。同樣優(yōu)選地是隨同設(shè)備10提供額外或備用的模塊式發(fā)光單元46。如果已安裝單元需要維修、保養(yǎng)或置換，那么這將使得其易于用備用單元46快速地置換已安裝單元46，減少時(shí)間。
在圖3和圖4顯示的可選實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)燈泡架可用于支撐和排列多個(gè)處理室12的多個(gè)外部管道20，同時(shí)支撐和排列用于每個(gè)處理設(shè)備10的多個(gè)燈泡14和反射器48。如圖3所示，設(shè)有多套孔洞54和開孔56以分別支撐和排列外部管道20和燈泡14。
參看圖5，設(shè)有輸入歧管58和輸出歧管60，其布置為允許流體并流通過多個(gè)相鄰處理室12。所述歧管按模塊布置為第一套關(guān)聯(lián)輸入和輸出歧管片段58a和60a，第二套關(guān)聯(lián)輸入和輸出歧管片段58b和60b等等，依此類推直至達(dá)到理想的將使用的處理室的數(shù)目。輸入和輸出歧管58和60的每段長度62等于輸入管30的輸入孔32和輸出管34的輸出孔36之間的距離。這就允許每個(gè)處理室12可快速容易地調(diào)整為提供要么如圖5所示的并流要么如圖6所示的串流。
圖6顯示布置為通過多個(gè)處理室12提供串流的多個(gè)處理室12。在這種布置中，第一處理室12的輸出管34的輸出孔36與第二處理室12的輸入管30的輸入孔32對(duì)齊，以此類推直至達(dá)到理想的處理室12的數(shù)目。
如圖7所示，本發(fā)明的輻射處理設(shè)備10也可包括機(jī)箱和相關(guān)部件。一個(gè)或多個(gè)處理室12和多套關(guān)聯(lián)燈泡14、反射器48以及輸入和輸出歧管58、60布置在機(jī)箱66內(nèi)。機(jī)箱66優(yōu)選地主要由不銹鋼制成。其它部件布置在機(jī)箱66內(nèi)或位于其附近。例如，電力線68可向控制器70以及與每個(gè)燈泡14相聯(lián)系的鎮(zhèn)流器72提供電能，所述燈泡可布置在機(jī)箱66中或者單獨(dú)布置在機(jī)箱66之上?？稍O(shè)置風(fēng)扇74用于冷卻鎮(zhèn)流器72和控制器70，排水管78可設(shè)于機(jī)箱66的底面。在優(yōu)選實(shí)施例中，單獨(dú)的風(fēng)扇74將與每個(gè)模塊式發(fā)光單元46相聯(lián)系，其中所述風(fēng)扇74布置為提供正壓機(jī)箱。當(dāng)然應(yīng)理解，可使用任何數(shù)目的不同風(fēng)扇74的布置，一個(gè)或多個(gè)風(fēng)扇可布置為提供要么正壓要么負(fù)壓的機(jī)箱?？稍跈C(jī)箱66的下側(cè)壁上布置一個(gè)或多個(gè)輸入或輸出管80、82和84。如圖8清晰可見，例如當(dāng)處理室12如圖5所示的那樣布置時(shí)，外部管道80和82布置為分別與輸入歧管58和輸出歧管60對(duì)齊以提供通過處理室12的流體并流的路徑。當(dāng)處理室布置為如圖6所示的那樣的串流時(shí)，中心定位的管道84布置為與處理室12的輸入管30和輸出管34對(duì)齊。
參看圖5和圖6，運(yùn)行中，多個(gè)處理室按需要排列為提供通過理想數(shù)目處理室12的并流或串流。當(dāng)然應(yīng)理解，如果需要也可使用單個(gè)處理室12。一旦處理室12按需要排列并且機(jī)箱門86關(guān)閉以加強(qiáng)對(duì)于UV輻射暴露的保護(hù)，燈泡14打開以提供UV輻射。然后，待處理的流體以理想的壓力和流速提供給設(shè)備10。應(yīng)理解，設(shè)備10可用于大多數(shù)相關(guān)液體，包括但不限于例如水(包括廢水)、果汁、鹽水、腌泡汁和飲料等這樣的透明或不透明的液體。
并流中(如圖5所示)，液體將流經(jīng)并充滿理想數(shù)目的輸入歧管片段58a、58b和58c，并將通過每個(gè)輸入歧管58片段流入相聯(lián)系的處理室12。如圖1清晰可見，流體流過輸入管30和殼體26，進(jìn)入內(nèi)部管道18和外部管道20之間的環(huán)面44。靜態(tài)混合器22以緊密的螺旋方式給定液體的路徑，使其沿螺旋形路徑向上通過環(huán)面44到達(dá)處理室12的上部。當(dāng)液體流經(jīng)緊鄰燈泡14的狹窄環(huán)面44時(shí)，來自燈泡14的UV輻射提供期望的消毒程度。使用螺旋式靜態(tài)混合器22提供了當(dāng)流體向上流經(jīng)環(huán)面44時(shí)對(duì)其進(jìn)行有效地混合和攪動(dòng)，使得流體的不同部分經(jīng)常更靠近或遠(yuǎn)離燈泡14。這就保證對(duì)所有液體徹底而均勻的輻射暴露，并大大減小使得流體孤立部分受到較少處理或被明顯地過處理的機(jī)會(huì)。端蓋24阻止液體向上流動(dòng)并使其改變方向向下流過內(nèi)部管道18。然后，液體流過內(nèi)部管道18、內(nèi)部集管管道28以及輸出管34。如果處理室12排列成提供并流(如圖5所示)，則液體從輸出管34流入并通過關(guān)聯(lián)的輸出歧管60片段，以進(jìn)一步使用或處理。如果處理室12排列成提供串流(如圖6所示)，則液體從一個(gè)處理室12的輸出管34流到另一個(gè)處理室12的輸入管30，以重復(fù)上述的過程。
本發(fā)明耐用設(shè)備10可在寬廣的壓力和流速范圍內(nèi)運(yùn)行，而不必?fù)?dān)心其破壞。例如，本發(fā)明的設(shè)備10可在達(dá)到或超過優(yōu)選地基本為約30-60磅/平方英寸(更優(yōu)選地為約57磅/平方英寸)的工作壓力下安全運(yùn)行。設(shè)備10可承受達(dá)到或超過優(yōu)選地基本為約100-300磅/平方英寸(更優(yōu)選地為約286磅/平方英寸)的爆破壓力。許多應(yīng)用中理想流速將典型地為約1-20加侖/分鐘。同樣，用于定點(diǎn)清洗的典型清洗的理想流速典型地小于或等于約25加侖/分鐘。另外，例如果汁的間歇處理這樣的一些應(yīng)用會(huì)要求更高的流速。在果汁間歇處理中，有時(shí)要求流速達(dá)到或超過大約70加侖/分鐘。由于原有輻射處理設(shè)備較脆的性質(zhì)所附加的限制，不可認(rèn)為UV輻射處理已經(jīng)用于要求這么高流速的應(yīng)用中。相反，本發(fā)明的剛性構(gòu)造將優(yōu)選地允許本發(fā)明安全地處理達(dá)到30加侖/分鐘的流速，將更優(yōu)選地允許本發(fā)明安全地處理達(dá)到55加侖/分鐘的流速，最優(yōu)選地是允許本發(fā)明處理達(dá)到80加侖/分鐘的流速。處理室12典型地處理大約10-12加侖/分鐘的流速。并流方式典型地用于更高的流速。
前述說明也意味著其它的修改、變化和替換，在一些示例中，采用本發(fā)明的一些特征而不使用其相應(yīng)的其它特征。例如，可以使用任何數(shù)目(從一個(gè)到好幾個(gè))的處理室12。同樣，盡管優(yōu)選地是使用每個(gè)處理室12配置8個(gè)燈泡14，但也可使用任何數(shù)目(從一個(gè)到好幾個(gè))的燈泡14與處理室14相連。另外，在環(huán)面44中可使用任何數(shù)目不同類型的混合器22，或者可省略混合器22。另外，可使用任何數(shù)目的不同流體路徑，包括但不局限于大致是優(yōu)選實(shí)施例中所述的流體路徑的相反方向。同樣，可使用完全串流、完全平流或任何數(shù)目串流和并流的組合。另外，集管16可置于不同位置，如置于處理室12的頂部。同樣，可使用任何數(shù)目的不同方法給定流體的路徑為流向或來自環(huán)面44以及流向或來自內(nèi)部管道18。盡管提供UV輻射的燈泡14為優(yōu)選，但是根據(jù)所要求的應(yīng)用，可使用任何數(shù)目的不同類型的輻射以及輻射源14。另外，反射器可使用任何的形狀、大小或配置，也可被省略。此外，可使用任何數(shù)目的不同結(jié)構(gòu)和布置來支撐和排列設(shè)備的各種部件。同樣，可提供任何數(shù)目的不同結(jié)構(gòu)和布置來保護(hù)使用者并將周圍環(huán)境包圍起來防止輻射暴露。盡管優(yōu)選的實(shí)施例特別對(duì)處理流體有用，但是當(dāng)然應(yīng)理解，本發(fā)明可用于處理任何數(shù)目的不同形態(tài)的物質(zhì)。例如，本發(fā)明的設(shè)備也可用于處理氣體或流體物質(zhì)，包括但不局限于固體微粒物質(zhì)。當(dāng)然應(yīng)理解，給出的所有定量信息僅僅是作為示例說明，而并不是要限制本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種裝置，包括具有內(nèi)表面的外部管道；具有內(nèi)表面和外表面的內(nèi)部管道，所述內(nèi)部管道置于所述外部管道內(nèi)，使得所述外部管道的所述內(nèi)表面和所述內(nèi)部管道的所述外表面界定外部流動(dòng)路徑，并使得所述內(nèi)部管道的所述內(nèi)表面界定內(nèi)部流動(dòng)路徑，所述內(nèi)部管道具有開孔，所述開孔使得所述外部流動(dòng)路徑與所述內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系；以及鄰近所述外部管道布置的輻射源。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括置于所述外部流動(dòng)路徑內(nèi)的螺旋構(gòu)件。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括集管，所述集管連接在所述外部管道的近端部分以及所述內(nèi)部管道的近端部分，所述集管與所述外部流動(dòng)路徑和所述內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述集管界定輸入流動(dòng)路徑和分離的輸出流動(dòng)路徑，所述輸入流動(dòng)路徑與所述外部流動(dòng)路徑或所述內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系，所述輸出流動(dòng)路徑與另一所述外部流動(dòng)路徑或所述內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系。
5.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述集管界定輸入流動(dòng)路徑和分離的輸出流動(dòng)路徑，所述輸入流動(dòng)路徑與所述外部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系，所述輸出流動(dòng)路徑與所述內(nèi)部流動(dòng)路徑進(jìn)行流體流動(dòng)聯(lián)系。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括連接在所述外部管道的遠(yuǎn)端部分的端蓋。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述內(nèi)部管道的所述開孔置于所述內(nèi)部管道的遠(yuǎn)端部分上。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述內(nèi)部管道不可透過來自所述輻射源的輻射。
9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述內(nèi)部管道由不銹鋼組成。
10.一種裝置，包括處理室；以及緊鄰所述處理室布置的輻射源，所述輻射源包括置于所述處理室附近的第一燈泡；置于所述處理室附近的第二燈泡；置于所述第一燈泡附近的第一反射器球缺，具有第一剖面的所述第一反射器球缺；以及鄰近所述第一反射器球缺并置于所述第二燈泡附近的第二反射器球缺，所述第二反射器球缺具有與所述第二剖面存在公共平面的第二剖面，所述第一剖面與所述第二剖面不形成公共的圓形或半圓形部分。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中，所述第一剖面是半圓形，所述第二剖面也是半圓形。
12.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中，所述第一剖面具有大于約45°的弧長。
13.如權(quán)利要求12所述的裝置，還包括置于所述處理室的第一部分附近的第一支架；以及置于所述處理室的第二部分附近的第二支架，所述第一、第二和第三反射器球缺連接到所述第一支架上。
14.如權(quán)利要求13所述的裝置，還包括置于所述處理室附近的第四燈泡；置于所述處理室附近的第五燈泡；置于所述第四燈泡附近的第四反射器球缺，所述第四反射器球缺具有第四剖面；以及鄰近所述第四反射器球缺并置于所述第五燈泡附近的第五反射器球缺，所述第五反射器球缺具有與所述第四剖面存在公共平面的第五剖面，所述第四剖面與所述第五剖面不形成公共的圓形或半圓形部分。
15.一種方法，包括(1)提供第一管道和第二管道，所述第二管道至少部分布置在所述第一管道內(nèi)；(2)流體在所述第一管道的內(nèi)壁和所述第二管道的外壁之間通過；(3)當(dāng)所述流體流經(jīng)所述第一管道的所述內(nèi)壁和所述第二管道的所述外壁之間時(shí)對(duì)其進(jìn)行輻射處理；以及(4)在第(2)步之前或之后，所述流體流過所述第二管道的內(nèi)部。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中第(4)步包括在第(2)步之后，所述流體流過所述第二管道的所述內(nèi)部。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中第(2)步包括所述流體沿所述第一管道的所述內(nèi)壁和所述第二管道的所述外壁之間的螺旋形路徑通過。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中第(3)步包括當(dāng)所述流體通過所述第一管道的所述內(nèi)壁和所述第二管道的所述外壁之間時(shí)用UV燈泡對(duì)其進(jìn)行輻射處理。
19.如權(quán)利要求15所述的方法，其中第(2)步包括所述流體在大于或等于約30磅/平方英寸的壓力下在所述第一管道的所述內(nèi)壁和所述第二管道的所述外壁之間通過。
20.如權(quán)利要求15所述的方法，其中第(2)步包括所述流體在大于或等于約10加侖/分鐘的流速下在所述第一管道的所述內(nèi)壁和所述第二管道的所述外壁之間通過。
全文摘要
一種將流體暴露于輻射之下的設(shè)備，包括造成流體流動(dòng)的管(20)，多個(gè)輻射源(14)，以及多個(gè)將輻射聚集到流體上的反射器(48)。
文檔編號(hào)C02F1/32GK1777449SQ03826015
公開日2006年5月24日 申請(qǐng)日期2003年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年1月21日
發(fā)明者加里·諾倫, 喬·萊茵甘斯 申請(qǐng)人:安全食品公司