專利名稱:用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備的領(lǐng)域。
背景技術(shù):
無疑已知在許多行業(yè)分支(諸如電子業(yè),或甚至食品業(yè)或可選地制藥業(yè))中,物體需要在它們待用時或者在制造過程中被或多或少臨時儲存在受控氣氛(例如干燥空氣或可選地僅包含一定有限含量的殘留氧氣或殘留水蒸氣的氮?dú)鈿夥?中。因此,以電子業(yè)為例, 普遍存在用于在氮?dú)饣蚩蛇x地在干燥空氣下儲存處于制造過程中的電子元件、例如用于在裝配印刷電路前儲存印刷電路或者可選地用于在將裸芯片裝配在電子板上前儲存裸芯片的裝置。
該行業(yè)內(nèi)還提供用于在干燥空氣下或者在氮?dú)庀聝Υ骐娮釉难b置,所述電子元件可以被歸類為淘汰的或者具有戰(zhàn)略重要性,用戶不能確定其是否能夠在未來的幾年采購到,并且用戶僅僅形成他自己的長期存貨。
應(yīng)了解的是,這些儲存操作是必要的以便避免構(gòu)件與外界空氣之間的任何相互作用,關(guān)鍵風(fēng)險與構(gòu)件從外界空氣吸收水分、例如構(gòu)件或印刷電路軌跡的金屬部分的氧化、塑料封殼吸收水分或者可選地與外界空氣中的某些污染粒子(鹵代化合物等)反應(yīng)相關(guān)。
此外,已知此類儲存空間所存在的技術(shù)問題之一在于這些裝置的使用壽命短,構(gòu)件在用戶地點(diǎn)需要它們時被導(dǎo)入儲存部件或者從儲存部件被移除,這意味著儲存模塊因此被極為頻繁地打開和關(guān)閉,有時每小時幾次。
盡管目前市場上可購得許多這種類型的裝置,并且即使存在大量與這些裝置有關(guān)的文獻(xiàn)(研究特別可由文獻(xiàn)FR-2877641、EP-1333469、FR-2803647或可選地EP-1102713組成),申請人公司已自行安排了通過本發(fā)明提供以下優(yōu)點(diǎn)和改進(jìn)的新穎設(shè)備的任務(wù)
-簡化已有系統(tǒng)以便降低其成本;
-允許模塊性(可以使用單個儲存模塊或者疊加使用幾個模塊,同時為用戶提供使用其作為活動設(shè)備(用于將物品從點(diǎn)A運(yùn)輸?shù)近c(diǎn)B)的能力;
-相對于已有系統(tǒng)提高性能;
-在這些簡單性和低成本的條件下維持合意的安全水平。發(fā)明內(nèi)容
如在下文中將更詳細(xì)地看到,本發(fā)明在其一個方面特別提出一種儲存模塊的新穎結(jié)構(gòu),所述儲存模塊形成氣體在儲存設(shè)施內(nèi)的最佳和受控的循環(huán),特別是避免循環(huán)死區(qū),并且通過“隔板”系統(tǒng)的存在而實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),每一個隔板都面向擱架之一定位在模塊的壁之一與所述擱架之間,以便防止氣體在隔板位置豎直地通過并且僅允許氣體沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地通過。
因此,本發(fā)明涉及一種用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,所述設(shè)備包括
-至少一個儲存模塊,其能夠收納待儲存的物品;所述儲存模塊裝備有至少一個擱架(優(yōu)選地至少兩個擱架),物品將定位在所述擱架上;
-用于將氣體輸送到所述模塊中的裝置;以及
-用于從所述模塊排出氣體的裝置,
-所述儲存模塊中的至少一個呈大致平行六面體形狀并具有兩個大致豎直和相對的壁,擱架在所述壁之間延伸,并且
-用于輸送氣體的裝置允許氣體經(jīng)兩個所述壁之一噴射到模塊的底部或模塊的頂部中;
且所述設(shè)備的特征在于以下措施的執(zhí)行
-用于排出氣體的裝置位于
i)與用于輸送氣體的裝置相同的豎壁上,
j)或者可選地,通過以下事實(shí)在模塊的相對端面向排出裝置的另一個豎壁上如果氣體輸送裝置位于模塊的底部處,則排出裝置位于模塊的頂部處,而如果氣體輸送裝置位于模塊的頂部處,則排出裝置位于模塊的底部處;
-該模塊包括隔板,每一個隔板都面向擱架之一定位在兩個壁之一與所述擱架之間,以便防止氣體在隔板位置豎直地通過并允許氣體僅沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地通過;
且其特征在于
-如果儲存模塊包括僅一個擱架,則儲存模塊包括僅一個隔板,該隔板面向擱架位于氣體經(jīng)其到達(dá)的壁與擱架之間,
-如果擱架的數(shù)量大于I并且用于排出氣體的裝置位于與用于輸送氣體的裝置相同的壁上,并且如果模塊中的擱架數(shù)量為偶數(shù),則氣體在氣體的輸送與氣體從模塊的排出之間的循環(huán)所達(dá)的模塊的最后一個擱架不具有隔板。
根據(jù)本發(fā)明的一些有利實(shí)施例,本發(fā)明可采取以下技術(shù)特征中的一個或多個
-與擱架相關(guān)的隔板是與所述擱架本身分離但被固定至所述擱架并一直沿所述擱架延伸的機(jī)械構(gòu)件;
-與擱架相關(guān)的隔板就結(jié)構(gòu)而言是所述擱架本身的一部分;
-所述設(shè)備包括至少一個技術(shù)模塊,所述技術(shù)模塊鄰接所述儲存模塊并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與該儲存模塊流體連通,所述用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)共用的壁噴射到模塊的底部或模塊的頂部中,而所述用于排出氣體的裝置位于與用于輸送氣體的裝置相同的壁上并允許氣體從儲存模塊排出到技術(shù)模塊并從此處向外排出;
所述設(shè)備包括
-至少一個技術(shù)模塊,所述技術(shù)模塊鄰接所述儲存模塊并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與該儲存模塊流體連通,所述用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)與技術(shù)模塊共用的壁噴射到模塊的底部或模塊的頂部中,并且所述設(shè)備還包括至少一個氣體收集和排出模塊,所述氣體收集和排出模塊同樣鄰接所述儲存模塊并在與技術(shù)模塊共用的同一個豎壁處被固定至所述儲存模塊,所述排出氣體的裝置允許氣體從儲存模塊排出到收集模塊并從此處向外排出;
-氣體收集和排出模塊裝配有至少一個止回閥,所述止回閥防止從儲存模塊排出的氣體從收集模塊輸送到技術(shù)模塊;
-儲存設(shè)備包括數(shù)個儲存模塊,其被疊加以便獲得用于物品的期望總體儲存容積, 并且技術(shù)模塊與每一個儲存模塊相關(guān),鄰接所述儲存模塊并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與該儲存模塊流體連通,用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)每一個技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)它們共有的壁噴射到相關(guān)模塊的底部或相關(guān)模塊的頂部中,用于排出氣體的裝置位于與用于輸送氣體的裝置相同的壁上并允許氣體從儲存模塊排出到技術(shù)模塊并從此處向外排出;
-儲存設(shè)備包括數(shù)個儲存模塊,其被疊加以便獲得用于物品的期望總體儲存容積, 并且技術(shù)模塊與每一個儲存模塊相關(guān),鄰接所述儲存模塊并且在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與該儲存模塊流體連通,用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)每一個技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)它們共有的壁噴射到相關(guān)模塊的底部或相關(guān)模塊的頂部中,并且氣體收集和排出模塊與每一個儲存模塊都相關(guān),其同樣鄰接儲存模塊并在與技術(shù)模塊共用的同一豎壁處被固定至儲存模塊,所述排出氣體的裝置允許氣體從儲存模塊排出到與其相關(guān)的收集模塊并從此處向外排出;
-所述設(shè)備的收集模塊形成單個中空豎塔,從所述設(shè)備的每一個儲存模塊排出的所有氣體都回到所述豎塔。
根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實(shí)施例,用于控制氣體的到達(dá)和提取的裝置不包括電氣元件;它們?nèi)繉儆跉鈩有?特別是明顯缺少任何電氣操作的閥)。
本發(fā)明的更多特征和優(yōu)點(diǎn)將在以下借助參照附圖提供的完全非限制性的說明而提供的描述中變得更加清楚地顯而易見,在附圖中
-圖1是現(xiàn)有技術(shù)的帶擱架的儲存模塊的正向局部示意圖,所述儲存模塊沿空間的壁之一在該壁與擱架之間形成用于氣體的優(yōu)先路徑;
-圖2是根據(jù)本發(fā)明的裝置的正向局部示意圖,所述裝置使用奇數(shù)個擱架(在本例中僅有單個擱架);
-圖3是根據(jù)本發(fā)明的裝置的正向局部示意圖,所述裝置使用奇數(shù)個擱架(在本例中有5個擱架);
-圖4是未根據(jù)本發(fā)明的裝置的正向局部示意圖(奇數(shù)個擱架,其形成未被氣體掃過的死區(qū));
-圖5是根據(jù)本發(fā)明的裝置的正向局部示意圖,所述裝置使用與圖4相同數(shù)量的擱架;
-圖6是根據(jù)本發(fā)明的裝置的局部示意圖,該圖示出了實(shí)施儲存區(qū)、技術(shù)區(qū)和收集區(qū)的方式之一。
具體實(shí)施方式
圖1提供了現(xiàn)有技術(shù)的某些裝置所存在的缺點(diǎn)的恰當(dāng)圖示,氮?dú)獾竭_(dá)所述裝置并且氣體在儲存模塊的同一個壁上排出,氣體的優(yōu)先路徑位于所述壁與擱架之間,即使當(dāng)然一部分氣體也在該模塊中并在擱架之間循環(huán),但于是應(yīng)了解的是,模塊的一些區(qū)將不可否認(rèn)地被非常不好地覆蓋(掃過)。
另一方面,圖2提供了本發(fā)明利用帶有單個擱架的模塊通過本發(fā)明的裝置(部分可見)所提供的改進(jìn)的適當(dāng)圖示,該擱架在其左側(cè)部分、也就是在氣體輸入壁與擱架之間裝備(通過初始建造或經(jīng)附接的構(gòu)件)有隔板。
在此實(shí)施例中,用于排出氣體的裝置位于與用于輸送氣體的裝置相同的豎壁上, 輸送裝置位于模塊的底部中,而氣體在頂部中排出。在這種單個擱架的情況下,根據(jù)本發(fā)明,實(shí)際上將氣體入口和氣體排出部定位在模塊的同一壁上是優(yōu)選的,如在此所示。
此外,繼而非常容易看到如何利用該單個隔板來防止在隔板位置并因此沿氣體輸入壁豎直地通過,并允許氣體僅沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地通過,氣體然后到達(dá)擱架的相對端,此處其可以沿擱架的另一面通過,以使得氣體因此可以沿擱架的每一面行進(jìn)以便防止存在任何未被掃過的死區(qū)。
如對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說將清楚地顯而易見的,雖然在此所示的視圖并未展現(xiàn)裝置的深度,但應(yīng)了解的是,作為優(yōu)選,對于根據(jù)本發(fā)明的所有裝置而言,擱架抵靠在儲存模塊的后壁(背壁)上并在模塊中盡可能遠(yuǎn)地向前突出,同時允許關(guān)閉前門,其目的是使模塊的前部或后部處的氣體“損耗”最小化,因?yàn)檫@將使得沿本發(fā)明通過該組隔板所形成的優(yōu)先路徑的循環(huán)的對應(yīng)減少。
圖3就其本身而言提供了本發(fā)明利用5個擱架模塊通過根據(jù)本發(fā)明的裝置(部分可見)所提供的優(yōu)點(diǎn)的清楚圖示,擱架中的每一個都裝備(通過初始構(gòu)建或者經(jīng)由附接的構(gòu)件)有隔板。
在此實(shí)施例中,用于排出氣體的裝置位于與用于輸送氣體的裝置相同的豎壁上, 輸送裝置位于模塊的底部中,而氣體在頂部中排出。
此外,特別容易看出,利用這些隔板,各隔板如何防止氣體在隔板位置豎直地通過并允許氣體僅沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地通過,氣體因此沿擱架并在兩個擱架之間行進(jìn)以便防止存在任何未被掃過的死區(qū)。
圖4就其本身而言提供了未按本發(fā)明的裝置的圖示其使用偶數(shù)(4)個擱架,與本發(fā)明的推薦相反,氣體所達(dá)的最后一個擱架裝備有隔板,從而防止氣體上升到該最后一個擱架上方并由此在頂部上形成未被氣體掃過的死區(qū),這當(dāng)然在一定程度上是有害的。
與此形成對比,圖5的裝置——其本身就是根據(jù)本發(fā)明的裝置,具有相同(偶數(shù))數(shù)量的四個擱架,但未在氣體所達(dá)的最后一個擱架處使用隔板——允許氣體從氣體入口在裝置中適當(dāng)循環(huán)到其出口,其中所有空間都相繼被氣體掃過。
圖6本身示出了本發(fā)明的一個實(shí)施例,其中該裝置除適當(dāng)?shù)膬Υ婺K外還包括技術(shù)模塊,該技術(shù)模塊鄰接儲存模塊并在其左側(cè)豎壁處被固定至儲存模塊,與所述儲存模塊流體連通,并且所述裝置包括用于收集和排出氣體的模塊,該模塊同樣鄰接儲存模塊并在與技術(shù)模塊共用的該同一左側(cè)豎壁處被固定至儲存模塊,用于從儲存模塊排出氣體的裝置允許氣體從儲存模塊排出到收集模塊并從此處向外排出(經(jīng)由連接至該收集模塊且在此未示出的管道)。
在下文中描述本發(fā)明的采用完全氣動設(shè)計的一個有利實(shí)施例,其采用圖6的技術(shù)模塊和收集模塊這兩個模塊
-為了降低會對人員和硬件產(chǎn)生風(fēng)險的過度超壓的風(fēng)險,在收集模塊處使用兩個背壓調(diào)節(jié)器(上游壓力調(diào)節(jié)器)
-第一背壓調(diào)節(jié)器在箱柜中維持典型地約為2mbar(毫巴)的稍微上升的壓力;
-如果該第一2mbar背壓調(diào)節(jié)器失效,則額定在例如IOmbar的第二背壓調(diào)節(jié)器取而代之;
-并且如果這兩個背壓調(diào)節(jié)器都失效(不過應(yīng)當(dāng)承認(rèn)這種狀況極為罕見)或者可選地用戶提取網(wǎng)絡(luò)發(fā)生故障,則存在已在將密封件裝配到儲存模塊的正面上的門上的又一個預(yù)防措施并且該密封件在例如高于15mbar的極限壓力下失去其密封作用;
-已在儲存模塊的正面上的門上使用特殊的所謂“壓縮”門把手,以消除在儲存區(qū)的內(nèi)部存在異常升高的壓力的情況下在門被打開時用戶與門碰撞的風(fēng)險,可將所述門把手的操作歸納如下
-在用戶轉(zhuǎn)動門把手的第一階段,執(zhí)行第一解壓,但門被保持在“合上”位置,也就是很輕微地微開,密封件已失去其密封作用,但門仍由形成門把手的結(jié)構(gòu)的一部分的卡扣保持;
-在用戶轉(zhuǎn)動門把手的第二階段,用戶打開卡扣,此時允許將門打開。
此類門把手例如從“EMKA”可得。
-技術(shù)模塊是流體密封的用于饋送儲存模塊的技術(shù)模塊中存在的減壓裝置下游的元件之一變成分離,氣體流率由減壓裝置下游的技術(shù)模塊中同樣存在的標(biāo)定孔口限制, 并且所有剩余的氣體流率都被引導(dǎo)到收集模塊并從此處經(jīng)由定位在技術(shù)模塊與收集模塊之間共用的壁上的一個或多個止回閥被引導(dǎo)至提取套筒;
-所述裝置連接至氮?dú)庠矗邕B接至用戶地點(diǎn)的氮?dú)饩W(wǎng)絡(luò)(其將其產(chǎn)品儲存在模塊中),其最大容許壓力為例如15bar。所述裝置的操作所需的所有氣動構(gòu)件都通過管件被接合在一起,例如使用快速安裝聯(lián)接器裝配所述管件。
手控閥控制向所有設(shè)備的供給并且該閥可例如定位在技術(shù)模塊的正面或背面上。 可存在過濾器(20 μ m的過濾截止)以便保護(hù)所有構(gòu)件。
-調(diào)節(jié)與位于減壓裝置下游的標(biāo)定孔口相關(guān)或者根據(jù)一有利實(shí)施例與兩個標(biāo)定孔口相關(guān)的減壓裝置中的壓力意味著可以設(shè)定兩個氮?dú)饬髀剩缃咏?0Nm3/h的吹掃流率和接近lNm3/h的掃過流率。
如以上已經(jīng)指出的,位于減壓裝置下游的標(biāo)定孔口在下游管件變成分離的情況下限制氮?dú)獾牧髀省?br>
-門接觸開關(guān)根據(jù)門是被關(guān)閉還是被打開來提供對是否傳送兩種氮?dú)饬髀?吹掃流率,較低的掃過流率)的控制。
通過門的關(guān)閉來觸發(fā)吹掃流率和掃過流率,這兩者都可以通過標(biāo)定孔口的選擇來調(diào)節(jié),該吹掃流率的持續(xù)時間由(可調(diào)的)氣動計時器設(shè)定,并且當(dāng)(僅)吹掃流率停止時,掃過流率保持。
-當(dāng)門打開時,吹掃流率和掃過流率兩者都停止。
通過本發(fā)明提供的優(yōu)點(diǎn)因此對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說清楚地顯而易見
-在此提出的結(jié)構(gòu)很簡單,提供了制造成本的顯著降低,更不用說以下事實(shí)根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例,避免了控制氣體的使用的電氣裝置,優(yōu)選氣動(流體)裝置,其引起所使用的構(gòu)件數(shù)量的減少并且還引起顯著更低的構(gòu)件購買成本(舉例而言,如本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的,電氣操作閥的成本很高)。還應(yīng)指出,“氣動”優(yōu)選實(shí)施例也消除了電氣危害;
-在此提出的結(jié)構(gòu)允許模塊化并允許疊加儲存模塊,如已清楚地論述的,并且利用本發(fā)明所提出的結(jié)構(gòu)之一允許簡化的排出,所述結(jié)構(gòu)包括形成單個中空豎塔的收集模塊, 從所述裝置的每一個儲存模塊排出的所有氣體都回到所述豎塔;
-由于本發(fā)明實(shí)施例之一是純氣動的,因此本發(fā)明的裝置非常易于運(yùn)輸,這是因?yàn)樵谒鲅b置正在運(yùn)輸時將氮?dú)飧走B接至所述裝置可以相當(dāng)簡單,不需要其他動力源(所述裝置完全被流體地供給動力);
-在惰性化方面或者在維持受控氣氛方面(例如在露點(diǎn)方面)的 性能不言而喻由于主張權(quán)利的結(jié)構(gòu),每一個區(qū)都被掃過,避免了死區(qū),并且儲存模塊的吹掃自動地更加有效。
權(quán)利要求
1.一種用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,包括 -至少一個儲存模塊,其能夠收納待儲存的物品;所述儲存模塊裝備有至少一個擱架,所述物品將定位在所述擱架上; -用于將氣體輸送到所述模塊中的裝置;以及 -用于從所述模塊排出氣體的裝置, -所述儲存模塊中的至少一個呈大致平行六面體形狀并具有兩個大致豎直和相對的壁,所述擱架在所述壁之間延伸,并且 -所述用于輸送氣體的裝置允許氣體經(jīng)兩個所述壁之一噴射到所述模塊的底部或所述模塊的頂部中; 且所述設(shè)備的特征在于以下措施的執(zhí)行 -所述用于排出氣體的裝置位于 i)與所述用于輸送氣體的裝置相同的豎壁上, j)或者可選地,通過以下事實(shí)在所述模塊的相對端面向其的另一個豎壁上如果所述氣體輸送裝置位于所述模塊的底部處,則所述排出裝置位于所述模塊的頂部處,而如果所述氣體輸送裝置位于所述模塊的頂部處,則所述排出裝置位于所述模塊的底部處; -所述儲存模塊包括隔板,每一個隔板都面向所述擱架之一定位在所述兩個壁之一與所述擱架之間,以便防止氣體在隔板位置豎直地通過并允許氣體僅沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地通過; 且其特征在于 -如果所述儲存模塊僅包括一個擱架,則所述儲存模塊僅包括一個隔板,所述隔板面向所述擱架位于氣體經(jīng)其到達(dá)的壁與所述擱架之間, -如果所述模塊中的擱架數(shù)量為偶數(shù),且如果所述用于排出氣體的裝置位于與所述用于輸送氣體的裝置相同的壁上,則所述氣體在所述氣體的輸送與所述氣體從所述模塊排出之間的循環(huán)所達(dá)的所述模塊中的最后一個擱架不具有隔板。
2.如權(quán)利要求1所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,與擱架相關(guān)的隔板是與所述擱架本身分離但被固定至所述擱架并一直沿所述擱架延伸的機(jī)械構(gòu)件。
3.如權(quán)利要求1所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,與擱架相關(guān)的隔板在結(jié)構(gòu)上是所述擱架本身的一部分。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于以下措施的執(zhí)行 -所述設(shè)備包括至少一個技術(shù)模塊,所述技術(shù)模塊與所述儲存模塊鄰接并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與所述儲存模塊流體連通; -所述用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)所述技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)與所述技術(shù)模塊共用的壁噴射到所述模塊的底部或所述模塊的頂部中; -所述用于排出氣體的裝置位于與所述用于輸送氣體的裝置相同的壁上并允許所述氣體從所述儲存模塊排出到所述技術(shù)模塊并從此處向外排出。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于以下措施的執(zhí)行 -所述設(shè)備包括至少一個技術(shù)模塊,其鄰接所述儲存模塊并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與所述儲存模塊流體連通; -所述用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)所述技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)與所述技術(shù)模塊共用的壁噴射到所述模塊的底部或所述模塊的頂部中; -所述設(shè)備包括至少一個氣體收集和排出模塊,所述氣體收集和排出模塊同樣鄰接所述儲存模塊并在與所述技術(shù)模塊共用的同一豎壁處被固定至所述儲存模塊,所述排出氣體的裝置允許氣體從所述儲存模塊排出到所述收集模塊并從此處向外排出。
6.如權(quán)利要求5所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,所述氣體收集和排出模塊裝配有至少一個止回閥,所述止回閥防止從所述儲存模塊排出的氣體從所述收集模塊來到所述技術(shù)模塊。
7.如權(quán)利要求4所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括數(shù)個儲存模塊,所述儲存模塊被疊加以便獲得用于所述物品的期望總儲存容積,并且在于,技術(shù)模塊與每一個儲存模塊相關(guān),鄰接所述儲存模塊并在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與所述儲存模塊流體連通,用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)每一個技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)它們所共有的壁噴射到相關(guān)模塊的底部或相關(guān)模塊的頂部中,用于排出氣體的裝置位于與所述用于輸送氣體的裝置相同的壁上并允許氣體從所述儲存模塊排出到相關(guān)的技術(shù)模塊并從此處向外排出。
8.如權(quán)利要求5所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括數(shù)個儲存模塊,所述儲存模塊被疊加以便獲得用于所述物品的期望總儲存容積,并且在于,技術(shù)模塊與每一個儲存模塊相關(guān),鄰接所述儲存模塊并且在其豎壁之一處被固定至所述儲存模塊,與所述儲存模塊流體連通,用于輸送氣體的裝置允許氣體到達(dá)每一個技術(shù)模塊中并從此處經(jīng)它們共有的壁噴射到相關(guān)模塊的底部或相關(guān)模塊的頂部中,并且在于,氣體收集和排出模塊與每一個儲存模塊相關(guān),所述氣體收集和排出模塊同樣鄰接所述儲存模塊并在與所述技術(shù)模塊共用的同一豎壁處被固定至所述儲存模塊,所述排出氣體的裝置允許所述氣體從所述儲存模塊排出到與其相關(guān)的收集模塊并從此處向外排出。
9.如權(quán)利要求8所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備的收集模塊形成單個中空豎塔,從所述設(shè)備的每一個儲存模塊排出的所有氣體都回到所述豎
10.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,其特征在于,所述用于輸送氣體的裝置僅包括氣動類型的元件而不包括任何電氣元件。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在受控氣氛中儲存物品的設(shè)備,所述設(shè)備包括至少一個儲存模塊,其能夠接納待儲存的物品;設(shè)置有用于定位所述物品的至少一個擱架的儲存模塊,所述儲存模塊具有大致平行六面體形狀,并具有兩個大致豎直且相對的壁,所述擱架在所述壁之間延伸,其中所述設(shè)備的特征在于設(shè)置了隔板,每一個隔板都與所述擱架之一相對地定位并且定位在所述兩個壁之一與所述擱架之間,以便防止氣體在隔板位置豎直地流動,并允許氣體僅沿與所述隔板相關(guān)的擱架橫向地流動。
文檔編號F25D11/00GK103026481SQ201180036454
公開日2013年4月3日 申請日期2011年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月27日
發(fā)明者V·梅勞特, R·布里安, M·勒蒂爾邁 申請人:喬治洛德方法研究和開發(fā)液化空氣有限公司