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牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐的制作方法

文檔序號:10650821閱讀:927來源:國知局
牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于一種牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成,底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體,轉盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面,轉盤上端面的爐體內設有環(huán)形爐膛通道,轉盤的上端面邊部對應環(huán)形爐膛通道設有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設置的隔板,呈間隔等距離設置的五個隔板分割轉盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段,受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段。本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結,具有結構簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。
【專利說明】
牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐
技術領域
[0001 ]本發(fā)明屬于一種牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐。
【背景技術】
[0002]氧化鋯必須經過高溫燒結才能成為較硬且耐磨的制牙材料。目前,對氧化鋯的燒結采用的高溫燒結爐為一爐膛設計,待燒結的氧化鋯材料置入爐膛后,關上爐門使爐膛加溫至1530°C后持續(xù)一段時間,而后必須關閉加熱棒停止加溫,使爐膛和燒結的氧化鋯材料溫度逐漸下降至80°C左右時,再打開爐門,取出燒結的氧化鋯材料,上述過程需耗費時間6?8小時。傳統(tǒng)的高溫燒結爐有耗費時間多,難于滿足快速需要,能耗高和加工成本高的不足。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明的目的是設計一種牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結,具有結構簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。
[0004]為此,本發(fā)明由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成。底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體。底座內中空,轉盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面。轉盤的上端面設有隔熱材料層。轉盤上端面的爐體內設有環(huán)形爐膛通道,環(huán)形爐膛通道的進口和出口相通爐體前部開有的環(huán)形口。環(huán)形口為取放材料空間段。轉盤的上端面邊部對應環(huán)形爐膛通道設有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設置的隔板。呈間隔等距離設置的五個隔板分割轉盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段。底座內中部設有步進電機。轉盤的下端面中部與步進電機軸連接。受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段。環(huán)形爐膛通道內壁上設有隔熱材料層,加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內的上端及兩側壁上的隔熱材料層上設有供加熱棒放置的凹槽,凹槽內設有加熱棒。
[0005]所述的相鄰的兩隔板在轉盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。所述的控制鍵盤位于底座的前部面上。所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為1530°C。所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。所述的隔板為矩形板,隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設隔熱材料層。所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。
[0006]上述結構達到了本發(fā)明的目的。
[0007]本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結,具有結構簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。本發(fā)明使置入的待燒結的氧化鋯材料的燒結時間從6?8小時降為45?60分鐘,且燒結質量相同,節(jié)省能源30%,且循環(huán)進行燒結過程,能滿足患者快速需要。
【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結構不意圖;
[0009]圖2為本發(fā)明的俯視結構示意圖。
[0010]圖3為圖1的A-A剖面的結構示意圖。
具體實施方案
[0011]如圖1至圖3所示,一種牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,由步進電機11、控制鍵盤13、爐體I和加熱棒4所組成。底座1上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體。
[0012]底座內中空。所述的控制鍵盤位于底座的前部面上,控制鍵盤內的爐座內設有程序控制計算機及相關電路,用于控制步進電機的步進動作和加熱棒溫度等,為傳統(tǒng)技術,故不再累述。轉盤9的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面。轉盤的上端面設有隔熱材料層14,以防止高溫燒壞轉盤的上端面。轉盤上端面的爐體內設有環(huán)形爐膛通道22。所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。環(huán)形爐膛通道的進口 17和出口2相通爐體前部開有的環(huán)形口,環(huán)形口為取放材料空間段。
[0013]轉盤的上端面邊部對應環(huán)形爐膛通道設有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設置的隔板15,所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。
[0014]呈間隔等距離設置的五個隔板分割轉盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段16、加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18。加溫空間段用于對位于該段內的待燒結的氧化鋯材料進行加溫,高溫空間段用于對位于該段內的待燒結的氧化鋯材料進行燒結,降溫空間段用于對位于該段內的己燒結的氧化鋯材料進行緩慢降溫,冷卻空間段用于對位于該段內的己燒結的氧化鋯材料進行緩慢冷卻,取放材料空間段用于將位于該段內的己燒結的氧化鋯材料取下和再放入另外的待燒結的氧化鋯材料。
[0015]底座內中部設有步進電機。轉盤的下端面中部與步進電機軸12連接。受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段,即依次以步進的形式通過取放材料空間段16、加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18。所述的相鄰的兩隔板在轉盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。
[0016]環(huán)形爐膛通道內壁上設有隔熱材料層3,以防止高溫燒壞爐體。加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內的上端及兩側壁上的隔熱材料層上設有供加熱棒放置的凹槽5,凹槽內設有加熱棒4 ο所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。加熱棒由從底座一側面上固定的電源插座8引入的外接電經計算機程序控制后提供電源。
[0017]所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為1530°C。所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。
[0018]所述的隔板為矩形板,隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設隔熱材料層,以防止高溫燒壞隔板。所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。為方便在轉盤上放置待燒結的氧化鋯材料6,可在相鄰隔板之間的轉盤上設支架7。
[0019]使用時,先從環(huán)形口處即取放材料空間段將待燒結的氧化鋯材料置入相鄰隔板之間的轉盤上,受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤將載有待燒結的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉盤逆時針步進至加溫空間段19,計算機程序控制該段內的加熱棒對加溫空間段的環(huán)形爐膛通道加熱,加溫其內待燒結的氧化鋯材料。此時,在相鄰的隔板封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口時,受計算機程序控制的步進電機使轉盤停止步進。保持加溫時間后,再重復上述動作,即:再從環(huán)形口處即取放材料空間段將另外的待燒結的氧化鋯材料置入相鄰隔板之間的轉盤上,受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤將載有另外待燒結的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉盤逆時針步進至加溫空間段19(以前的載有待燒結的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉盤則從加溫空間段進入高溫空間段20,計算機程序控制該段內的加熱棒對高溫空間段的環(huán)形爐膛通道加熱,燒結的氧化鋯材料。保持燒結時間后。)依次類循環(huán)進行,使每份載有待燒結的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉盤依次經過加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18后,重回取放材料空間段,取下己燒結的氧化鋯材料(己燒結的氧化鋯材料的表面溫度己下降至80 °C左右),再放入待燒結的氧化鋯材料。可循環(huán)進行燒結。
[0020]總之,本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結,具有結構簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。可推廣使用。
【主權項】
1.一種牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成,其特征在于:底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體,底座內中空,轉盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面,轉盤的上端面設有隔熱材料層,轉盤上端面的爐體內設有環(huán)形爐膛通道,環(huán)形爐膛通道的進口和出口相通爐體前部開有的環(huán)形口,環(huán)形口為取放材料空間段,轉盤的上端面邊部對應環(huán)形爐膛通道設有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設置的隔板,呈間隔等距離設置的五個隔板分割轉盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段,底座內中部設有步進電機,轉盤的下端面中部與步進電機軸連接,受計算機程序控制的步進電機帶動轉盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段,環(huán)形爐膛通道內壁上設有隔熱材料層,加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內的上端及兩側壁上的隔熱材料層上設有供加熱棒放置的凹槽,凹槽內設有加熱棒。2.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的相鄰的兩隔板在轉盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。3.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的控制鍵盤位于底座的前部面上。4.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。5.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為1530°C。6.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內溫度為800°C。7.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的隔板為矩形板,隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設隔熱材料層。8.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。9.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。10.按權利要求1所述的牙科用氧化鋯轉椅式快速燒結爐,其特征在于:所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。
【文檔編號】F27B17/02GK106017096SQ201610315918
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月16日
【發(fā)明人】武家強
【申請人】武家強
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