本發(fā)明涉及冶金，尤其涉及一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)及泥漿噴灑方法。

背景技術(shù)：

1、在氯化工業(yè)生產(chǎn)中，一般通過高爐渣、鈦渣等含鈦物料在流化床或熔鹽爐中與氯氣反應(yīng)生成氣相四氯化鈦混合氣體，經(jīng)過收塵、淋洗冷凝降溫得到粗四氯化鈦液體，之后經(jīng)過濾得到滿足精制要求的粗四氯化鈦。其中的含鈦物料與氯氣的反應(yīng)為強放熱反應(yīng)，為了使收集的四氯化鈦的雜質(zhì)含量少，需要控制氯化爐的爐頂至收塵室的煙氣溫度處于一定范圍內(nèi)，以保證反應(yīng)正常進(jìn)行，若溫度過高，會導(dǎo)致過量固相物進(jìn)入淋洗系統(tǒng)，從而降低產(chǎn)品的品質(zhì)，若溫度過低，部分四氯化鈦會在收塵室中沉降，從而降低鈦收率。

2、現(xiàn)有的泥漿噴灑系統(tǒng)中，泥漿管道布置不合理，容易導(dǎo)致返回氯化爐內(nèi)的泥漿在負(fù)壓作用下進(jìn)入收塵系統(tǒng)，無法滿足不同產(chǎn)能條件以及不同工作狀態(tài)下返回氯化爐內(nèi)的泥漿均勻噴灑的要求，不利于降低氯化爐內(nèi)的煙氣，還容易引起收塵室內(nèi)液相過多而出現(xiàn)稀料，不利于降本增效。

3、基于此，現(xiàn)有技術(shù)亟需改進(jìn)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，針對現(xiàn)有技術(shù)中泥漿噴灑系統(tǒng)無法滿足不同產(chǎn)能條件以及不同工作狀態(tài)下返回氯化爐內(nèi)的泥漿均勻噴灑的要求，容易導(dǎo)致返回氯化爐內(nèi)的泥漿在負(fù)壓作用下進(jìn)入收塵系統(tǒng)，不利于降低氯化爐內(nèi)的煙氣，還容易引起收塵室內(nèi)液相過多而出現(xiàn)稀料，不利于降本增效的問題，本公開提供了一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)及泥漿噴灑方法。

2、根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，包括：

3、若干組泥漿輸送裝置，每一組泥漿輸送裝置包括依次連接的循環(huán)泵槽、變頻液下泵、泥漿上升管道、泥漿橫向管道以及泥漿入爐管道，其中，所述循環(huán)泵槽與淋洗塔連接，所述泥漿入爐管道與所述氯化爐的爐頂連接并垂直伸入所述氯化爐內(nèi)部；

4、噴灑部件，包括與所述泥漿入爐管道的下端口連接的旋轉(zhuǎn)圓盤及其驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸與所述泥漿入爐管道的中心軸線在同一條中心軸線上，所述驅(qū)動軸一端與所述旋轉(zhuǎn)圓盤連接，另一端與位于所述爐頂?shù)尿?qū)動電機連接。

5、在一些實施例中，所述旋轉(zhuǎn)圓盤上有流線形導(dǎo)流凸臺，所述導(dǎo)流凸臺均勻分布在所述旋轉(zhuǎn)圓盤上。

6、在一些實施例中，所述導(dǎo)流凸臺的數(shù)量為2~15個。

7、在一些實施例中，所述泥漿上升管道與所述泥漿橫向管道連接處的彎頭安裝有高壓氮氣吹掃接口及閥門。

8、在一些實施例中，所述泥漿上升管道與所述泥漿橫向管道連接處的彎頭，以及所述泥漿橫向管道與泥漿入爐管道連接處的彎頭總數(shù)量不超過4個。

9、在一些實施例中，所述泥漿入爐管道與所述氯化爐的口的直徑相互垂直，所述泥漿入爐管道的下端口與所述氯化爐內(nèi)的料層表面之間的距離為0.3~4米，所述泥漿入爐管道的下端口與所述氯化爐內(nèi)的煙氣出口之間的垂直距離為0.5~4m，不同組泥漿輸送裝置的泥漿入爐管道的下端口之間的高度差為0.3~2m。

10、在一些實施例中，所述旋轉(zhuǎn)圓盤的直徑為所述泥漿入爐管道的直徑的1~5倍，所述泥漿入爐管道的直徑為40~60mm，所述驅(qū)動軸的直徑為10~20mm。

11、在一些實施例中，所述泥漿輸送裝置的組數(shù)為2~5組。

12、在一些實施例中，所述泥漿橫向管道與水平方向之間的夾角為1~5°，所述旋轉(zhuǎn)圓盤與水平方向之間的夾角為0~3°。

13、根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種泥漿噴灑方法，使用如上述任一項所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，包括：

14、實時計算的氯化爐內(nèi)的產(chǎn)能負(fù)荷；

15、根據(jù)所述產(chǎn)能負(fù)荷與預(yù)設(shè)負(fù)荷閾值上位實時比較結(jié)果，調(diào)節(jié)變頻液下泵的頻率以降低或者增加泥漿的在所述輸送裝置中的流速，以及調(diào)節(jié)驅(qū)動電機的頻率以降低或者增加旋轉(zhuǎn)圓盤的轉(zhuǎn)速。

16、上述一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)及泥漿噴灑方法，包括若干組泥漿輸送裝置和噴灑部件，其中，每組輸送裝置包括依次連接的循環(huán)泵槽、變頻液下泵、泥漿上升管道、泥漿橫向管道以及泥漿入爐管道，循環(huán)泵槽與淋洗塔連接，泥漿入爐管道與氯化爐的爐頂連接并垂直伸入氯化爐內(nèi)部，噴灑部件包括與泥漿入爐管道的下端口連接的旋轉(zhuǎn)圓盤及其驅(qū)動軸，驅(qū)動軸與泥漿入爐管道的中心軸在同一條中心軸線上，驅(qū)動軸的一端與旋轉(zhuǎn)圓盤連接，另一端與位于爐頂?shù)尿?qū)動電機連接。泥漿管道布置合理，盡可能減少了返回氯化爐內(nèi)的泥漿在負(fù)壓作用下進(jìn)入收塵系統(tǒng)的問題，以保證不同產(chǎn)能條件以及不同工作狀態(tài)下返回氯化爐內(nèi)的泥漿均勻噴灑的要求，有利于降低氯化爐內(nèi)的煙氣，減少收塵室內(nèi)液相過多出現(xiàn)稀料的問題，有利于降本增效。

技術(shù)特征：

1.一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)圓盤上有流線形導(dǎo)流凸臺，所述導(dǎo)流凸臺均勻分布在所述旋轉(zhuǎn)圓盤上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)流凸臺的數(shù)量為2~15個。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述泥漿上升管道與所述泥漿橫向管道連接處的彎頭安裝有高壓氮氣吹掃接口及閥門。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述泥漿上升管道與所述泥漿橫向管道連接處的彎頭，以及所述泥漿橫向管道與泥漿入爐管道連接處的彎頭總數(shù)量不超過4個。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述泥漿入爐管道與所述氯化爐的口的直徑相互垂直，所述泥漿入爐管道的下端口與所述氯化爐內(nèi)的料層表面之間的距離為0.3~4米，所述泥漿入爐管道的下端口與所述氯化爐內(nèi)的煙氣出口之間的垂直距離為0.5~4m，不同組泥漿輸送裝置的泥漿入爐管道的下端口之間的高度差為0.3~2m。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)圓盤的直徑為所述泥漿入爐管道的直徑的1~5倍，所述泥漿入爐管道的直徑為40~60mm，所述驅(qū)動軸的直徑為10~20mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述泥漿輸送裝置的組數(shù)為2~5組。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，其特征在于，所述泥漿橫向管道與水平方向之間的夾角為1~5°，所述旋轉(zhuǎn)圓盤與水平方向之間的夾角為0~3°。

10.一種泥漿噴灑方法，其特征在于，使用如權(quán)利要求1-9任一項所述的氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)，包括：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及冶金技術(shù)領(lǐng)域，提出一種氯化爐用泥漿噴灑系統(tǒng)及泥漿噴灑方法，系統(tǒng)包括：若干組泥漿輸送裝置，每一組泥漿輸送裝置包括依次連接的循環(huán)泵槽、變頻液下泵、泥漿上升管道、泥漿橫向管道以及泥漿入爐管道，其中，循環(huán)泵槽與淋洗塔連接，泥漿入爐管道與氯化爐的爐頂連接并垂直伸入氯化爐內(nèi)部；噴灑部件，包括與泥漿入爐管道的下端口連接的旋轉(zhuǎn)圓盤及其驅(qū)動軸，驅(qū)動軸與泥漿入爐管道的中心軸線在同一條中心軸線上，驅(qū)動軸一端與所述旋轉(zhuǎn)圓盤連接，另一端與位于爐頂?shù)尿?qū)動電機連接。本方案的泥漿管道布置合理，保證不同產(chǎn)能條件以及不同工作狀態(tài)下返回氯化爐內(nèi)的泥漿均勻噴灑的要求，有利于降低氯化爐內(nèi)的煙氣。

技術(shù)研發(fā)人員：李冬勤,朱福興,陸平,吳邦建
受保護的技術(shù)使用者：攀鋼集團攀枝花鋼鐵研究院有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2