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中心軸升降的多段焙燒爐的制作方法

文檔序號:40575473發(fā)布日期:2025-01-07 20:15閱讀:5來源:國知局
中心軸升降的多段焙燒爐的制作方法

本技術(shù)涉及多段焙燒爐領(lǐng)域,具體涉及一種中心軸升降的多段焙燒爐。


背景技術(shù):

1、濕法煉鋅廠氧化鋅的主要來源為:浸出渣揮發(fā)處理所得氧化鋅,上級工藝爐渣經(jīng)煙化處理所得氧化鋅。氧化鋅中含有較多的對鋅電積有害的氟、氯等雜質(zhì),其主要的存在形式為zncl2、pbcl2、znf2、pbf2、gaf2、naf、nacl、kcl等。目前一般是采用多膛焙燒爐進(jìn)行處理,依靠氟化物、氯化物的揮發(fā)反應(yīng),在爐內(nèi)高溫條件下,使低沸點(diǎn)的氟化物、氯化物分解成氣態(tài),隨煙氣進(jìn)入煙氣除塵裝置而被除去。除用于氧化鋅脫氟氯外,多膛焙燒爐也廣泛應(yīng)用于輝鉬礦脫硫、活性炭再生、污泥熱解、廢水處理、食品糖吸附脫色精煉等多個領(lǐng)域。

2、在上述處理過程中,普遍存在物料在一定溫度下形成熔融化合物或易粘結(jié)狀態(tài)的情況,這會導(dǎo)致物料對耙臂耙齒形成粘結(jié)阻力,使?fàn)t窯不能正常運(yùn)轉(zhuǎn),影響生產(chǎn)。嚴(yán)重時可能導(dǎo)致耙臂被扭斷,甚至中心軸都受損。傳統(tǒng)的多膛爐在遇到類似情況時,唯一的措施就是停爐,人工清理物料。在發(fā)現(xiàn)狀況停爐時,很有可能耙臂已經(jīng)斷裂。

3、為此有申請?zhí)枮?02121118572.1的解決方案,但在這一方案中需要將中心軸與驅(qū)動機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu)同步進(jìn)行升降。存在升降裝置的負(fù)載過大,難以保證升降的過程足夠平穩(wěn)等問題。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為解決升降裝置負(fù)載過大和難以保證升降平穩(wěn)等問題,本實(shí)用新型提供一種解決上述問題的中心軸升降的多段焙燒爐。

2、一種中心軸升降的多段焙燒爐,包括由下往上依次設(shè)置的底座、多層爐膛、頂座,所述底座中設(shè)有升降機(jī)構(gòu)、驅(qū)動機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu),每層所述爐膛內(nèi)均設(shè)有耙臂,中心軸貫穿全部所述爐膛,上端與所述頂座活動連接,下端與所述升降機(jī)構(gòu)的頂部活動連接,中間與全部的所述耙臂連接,所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述冷卻機(jī)構(gòu)均固定設(shè)于所述底座中,所述中心軸通過可與其相對移動的傳動機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接,通過軟管與所述冷卻機(jī)構(gòu)連接

3、在本實(shí)用新型提供的中心軸升降的多段焙燒爐的一種較佳實(shí)施例中,所述升降機(jī)構(gòu)包括頂升缸和升降平臺,一個或多個所述頂升缸豎直設(shè)于地面,頂部依次連接所述升降平臺和所述中心軸。所述升降機(jī)構(gòu)還包括多個基礎(chǔ),所述基礎(chǔ)設(shè)于地面,在頂部豎直的設(shè)有一個或多個導(dǎo)向桿與所述升降平臺連接。

4、在本實(shí)用新型提供的中心軸升降的多段焙燒爐的一種較佳實(shí)施例中,在底層所述爐膛的底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺,所述旋轉(zhuǎn)平臺的底部連接齒面朝下的傳動齒輪,所述傳動齒輪可相對所述爐膛轉(zhuǎn)動,所述傳動齒輪連接通過支座設(shè)于地面的所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)。所述中心軸與所述傳動齒輪通過于豎直方向上延伸的齒槽銜接,所述齒槽的長度大于或等于所述頂升缸的行程。

5、在本實(shí)用新型提供的中心軸升降的多段焙燒爐的一種較佳實(shí)施例中,還包括控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)包括與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接的檢測單元,與所述升降機(jī)構(gòu)連接的執(zhí)行單元,以及與所述檢測單元和所述執(zhí)行單元連接的控制單元。

6、在本實(shí)用新型提供的中心軸升降的多段焙燒爐的一種較佳實(shí)施例中,還包括液壓站,所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為液壓馬達(dá),所述頂升缸為液壓缸,所述液壓站通過油路與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述頂升缸連接。所述執(zhí)行單元包括設(shè)置于所述液壓缸與所述液壓站連接的油路的執(zhí)行電磁閥,所述控制單元包括plc控制器,所述plc控制器與所述油壓監(jiān)測開關(guān)和所述執(zhí)行電磁閥通過電路連接。

7、相較于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型提供的中心軸升降的多段焙燒爐將驅(qū)動機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu)均通過可與中心軸相對移動的機(jī)構(gòu)來與中心軸連接,從而可以實(shí)現(xiàn)單獨(dú)的對中心軸進(jìn)行升降。在單獨(dú)對中心軸進(jìn)行升降的設(shè)計下,可以大大減輕升降機(jī)構(gòu)的負(fù)載,并且可將升降機(jī)構(gòu)中的多個頂升缸縮減為單個,解決了負(fù)載大和升降不穩(wěn)等問題。



技術(shù)特征:

1.一種中心軸升降的多段焙燒爐,包括由下往上依次設(shè)置的底座、多層爐膛、頂座,所述底座中設(shè)有升降機(jī)構(gòu)、驅(qū)動機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu),每層所述爐膛內(nèi)均設(shè)有耙臂,中心軸貫穿全部所述爐膛,上端與所述頂座活動連接,下端與所述升降機(jī)構(gòu)的頂部活動連接,中間與全部的所述耙臂連接,其特征在于:所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述冷卻機(jī)構(gòu)均固定設(shè)于所述底座中,所述中心軸通過可與其相對移動的傳動機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接,通過軟管與所述冷卻機(jī)構(gòu)連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:所述升降機(jī)構(gòu)包括頂升缸和升降平臺,一個或多個所述頂升缸豎直設(shè)于地面,頂部依次連接所述升降平臺和所述中心軸。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:所述升降機(jī)構(gòu)還包括多個基礎(chǔ),所述基礎(chǔ)設(shè)于地面,在頂部豎直的設(shè)有一個或多個導(dǎo)向桿與所述升降平臺連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:在底層所述爐膛的底部設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺,通過所述旋轉(zhuǎn)平臺連接傳動齒輪,所述傳動齒輪連接所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:所述中心軸于所述傳動齒輪和所述旋轉(zhuǎn)平臺的中心穿過,所述中心軸不接觸所述旋轉(zhuǎn)平臺,并通過上下延伸的齒槽與所述傳動齒輪銜接,所述齒槽的長度大于等于所述頂升缸的行程。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:還包括控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)包括與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接的檢測單元,與所述升降機(jī)構(gòu)連接的執(zhí)行單元,以及與所述檢測單元和所述執(zhí)行單元連接的控制單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:還包括液壓站,所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為液壓馬達(dá),所述頂升缸為液壓缸,所述液壓站通過油路與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述頂升缸連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的中心軸升降的多段焙燒爐,其特征在于:所述檢測單元包括設(shè)置于所述液壓馬達(dá)的油路進(jìn)出口的油壓監(jiān)測開關(guān),所述執(zhí)行單元包括設(shè)置于所述液壓缸與所述液壓站連接的油路的執(zhí)行電磁閥,所述控制單元包括plc控制器,所述plc控制器與所述油壓監(jiān)測開關(guān)和所述執(zhí)行電磁閥通過電路連接。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供一種中心軸升降的多段焙燒爐。所述中心軸升降的多段焙燒爐包括由下往上依次設(shè)置的底座、多層爐膛、頂座,所述底座中設(shè)有升降機(jī)構(gòu)、驅(qū)動機(jī)構(gòu)和冷卻機(jī)構(gòu),每層所述爐膛內(nèi)均設(shè)有耙臂,中心軸貫穿全部所述爐膛,上端與所述頂座活動連接,下端與所述升降機(jī)構(gòu)的頂部活動連接,中間與全部的所述耙臂連接,所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)和所述冷卻機(jī)構(gòu)均固定設(shè)于所述底座中,所述中心軸通過可與其相對移動的傳動機(jī)構(gòu)與所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接,通過軟管與所述冷卻機(jī)構(gòu)連接。本技術(shù)提供的所述中心軸升降的多段焙燒爐解決了升降裝置負(fù)載過大和難以保證升降平穩(wěn)等問題。

技術(shù)研發(fā)人員:李杰,張嶺,何俊,胡東華,吳芳,劉金庭
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中際山河科技有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:20231027
技術(shù)公布日:2025/1/6
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