金屬熔融爐用渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種小型且設(shè)置空間少也沒關(guān)系，廉價(jià)且容易維護(hù)的金屬熔融爐用渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐。金屬熔融爐包括：爐主體，具有容納熔融金屬的容納空間；和渦流室體，具有與爐主體的容納空間連通的渦流室，渦流室體具有作為豎直設(shè)置在渦流室內(nèi)的插板堰的隔板，隔板以隔板的長度方向沿著連通方向的方式配置在渦流室內(nèi)的與容納空間連通的連通側(cè)，將連通側(cè)隔開，形成位于隔板兩側(cè)的與容納空間和渦流室兩者連通的第一渦流室開口和與容納空間和渦流室兩者連通的第二渦流室開口，在隔板沿著長度方向的渦流室內(nèi)側(cè)的前端部分和與前端部分相對的渦流室體的內(nèi)壁之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙。
【專利說明】金屬熔融爐用渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及金屬熔融爐用渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐，涉及例如Al、Cu、Zn或它們之中至少兩種的合金，或Mg合金等導(dǎo)體(導(dǎo)電體)的金屬的熔融爐中使用的渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中存在如下方式:在渦流室體的外周配置電磁線圈，或在渦流室體的下方配置永久磁鐵式移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置，從而使渦流室體的內(nèi)部產(chǎn)生渦流。渦流室體與爐主體構(gòu)成為一體，或通過凸緣接頭的方式連接。
[0003]在其中任何一種方式中，渦流室體與爐主體均通過穿過爐主體爐壁的熔融金屬入口及出口用的孔連接。在渦流室體的內(nèi)部使熔融金屬高速旋轉(zhuǎn)，并且未熔融物也高速旋轉(zhuǎn)，因此渦流室體的內(nèi)壁磨損劇烈，管理不充分的情況下，往往會(huì)引起熔融金屬泄漏事故。
[0004]這是由于產(chǎn)生渦流的原理是熔融金屬外周驅(qū)動(dòng)方式，結(jié)果導(dǎo)致無法使渦流室的壁厚變厚。該熔融金屬泄漏事故直接關(guān)系到爐主體的熔融金屬漏出，在該情況下，由于大量的熔融金屬流到爐體外部，因此非常危險(xiǎn)，直接關(guān)系到重大事故。
[0005]因此，認(rèn)為渦流室的使用壽命到期則將其更換是理所當(dāng)然的，期待出現(xiàn)一種萬一運(yùn)行中發(fā)生熔融金屬泄漏事故也能夠安全停止工作的急速熔融爐用渦流室。
[0006]另外，在這種急速熔融爐內(nèi)，爐主體與渦流室體都具有用于攪拌內(nèi)部熔融金屬的攪拌裝置，由于龐大而存在設(shè)置空間的問題等。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于，提供一種小型且設(shè)置空間少也沒關(guān)系，廉價(jià)且容易維護(hù)的金屬熔融爐用渦流室體及使用該渦流室體的金屬熔融爐。
[0008]本發(fā)明具有與具有容納熔融金屬的容納空間的爐主體的所述容納空間連通渦流室的金屬熔融爐用渦流室體構(gòu)成為:
[0009]包括作為豎直設(shè)置在所述渦流室體的所述渦流室內(nèi)的插板堰(落i 堰)的隔板，
[0010]所述隔板以所述隔板的長度方向沿著連通方向的方式配置在所述渦流室內(nèi)的與所述容納空間連通的連通側(cè)，并將所述連通側(cè)隔開，形成位于所述隔板兩側(cè)的第一渦流室開口和第二渦流室開口，所述第一渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，所述第二渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，
[0011]在所述隔板沿著所述長度方向且位于所述渦流室內(nèi)側(cè)的前端部分和與所述前端部分相對的所述渦流室體的內(nèi)壁之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙。
[0012]本發(fā)明的金屬熔融爐構(gòu)成為:
[0013]包括:爐主體，具有容納熔融金屬的容納空間；以及
[0014]渦流室體，具有與所述爐主體的所述容納空間連通的渦流室，
[0015]所述渦流室體包括作為豎直設(shè)置在所述渦流室內(nèi)的插板堰的隔板，[0016]所述隔板以所述隔板的長度方向沿著連通方向的方式配置在所述渦流室內(nèi)的與所述容納空間連通的連通側(cè)，并將所述連通側(cè)隔開，形成位于所述隔板兩側(cè)的第一渦流室開口和第二渦流室開口，所述第一渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，所述第二渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，
[0017]在所述隔板沿著所述長度方向且位于所述渦流室內(nèi)側(cè)的前端部分和與所述前端部分相對的所述渦流室體的內(nèi)壁之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是截取了本發(fā)明實(shí)施方式的非鐵金屬熔融爐的一部分的平面說明圖；
[0019]圖2是截取了圖1的非鐵金屬熔融爐的一部分的正視圖；
[0020]圖3是截取了圖1的非鐵金屬熔融爐的一部分的右視圖；
[0021]圖4是截取了對圖1的非鐵金屬熔融爐的插板堰部的操作進(jìn)行說明的一部分的側(cè)視說明圖；
[0022]圖5是圖1的非鐵金屬熔融爐的插板堰部的封閉插板堰(盲落i 堰)的正視圖；
[0023]圖6是圖1的色金屬熔融爐的插板堰部的開口型插板堰的正視圖；
[0024]圖7 (a) (b) (C)是截取了安裝用具的一部分的側(cè)視圖、正視圖和后視圖；
[0025]圖8 (a) (b)是移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置的縱截面說明圖和磁鐵配置說明圖；
[0026]圖9截取了本發(fā)明的不同實(shí)施方式的非鐵金屬熔融爐的一部分的平面說明圖；
[0027]圖10是截取了圖9的非鐵金屬熔融爐的一部分的正視說明圖；
[0028]圖11是截取了圖9的非鐵金屬熔融爐的一部分的右視圖。
[0029]符號說明
[0030]2L 長度
[0031]M熔融金屬
[0032]I爐主體
[0033]IC容納空間
[0034]2渦流室體
[0035]2C渦流室
[0036]2C0連通側(cè)
[0037]2C1第一渦流室開口
[0038]2C2第二渦流室開口
[0039]2F 間隙
[0040]6插板堰部
[0041]7封閉插板堰
[0042]8開口型插板堰
[0043]8B、8C 切口
[0044]9隔板(插板堰)
[0045]9a前端部分
【具體實(shí)施方式】[0046]參照圖1至圖7，對本發(fā)明的實(shí)施方式的非鐵金屬熔融爐進(jìn)行說明。
[0047]本發(fā)明實(shí)施方式的非鐵金屬急速熔融爐例如是投入Al、Cu、Zn或它們之中至少兩種的合金、或Mg合金等導(dǎo)體(導(dǎo)電體)的非鐵金屬、或任意金屬，并用燃燒器等進(jìn)行加熱、熔融的熔融爐。
[0048]特別是從圖1中可以看出，該實(shí)施方式使?fàn)t主體I與渦流室體2以不同形式構(gòu)成，用安裝用具進(jìn)行機(jī)械接合，以使它們通過穿過爐主體I的側(cè)壁IA的開口 IB互相連通。
[0049]爐主體I具有數(shù)噸至數(shù)十噸的容量，用燃燒器加熱熔融非鐵金屬等鑄塊等，制作非鐵金屬等的熔融金屬M(fèi)。該爐主體I具有用于容納熔融金屬M(fèi)的容納空間1C。
[0050]渦流室體2例如具有可容納數(shù)百公斤的熔融金屬M(fèi)的容量，一般用來熔融作為如鋁切削粉那樣浮在熔融金屬M(fèi)中的表面而不容易熔融的原料的非鐵金屬。在該渦流室體2中，在爐主體內(nèi)利用燃燒器等進(jìn)行加熱升溫，同時(shí)使熔融金屬M(fèi)高速旋轉(zhuǎn)為渦流，在渦流中吸入作為原料的有些金屬的切削粉等，并將其熔融。該渦流室體2具有用于容納熔融金屬M(fèi)的渦流室2C。
[0051]該渦流室體2構(gòu)成為使一端為開放端，而另一端為堵塞端的通道型，所述開放端構(gòu)成為與所述容納空間IC連通。
[0052]爐主體I與渦流室體2互相連通，各自熔融的非鐵金屬的熔融金屬M(fèi)以彼此的液位水平一致的方式來往。
[0053]所述安裝用具5可以是任何用具，只要能夠?qū)⑺鰷u流室體2穩(wěn)定地安裝于所述爐主體I即可。在本實(shí)施方式中，特別是從圖7 (a) (b) (c)中可以看出，與渦流室體2 —樣，構(gòu)成為使一端為開放端，而另一端為堵塞端的通道型。更詳細(xì)而言，安裝用具4包括所謂通道狀的安裝用具主體4A、堵塞通道的堵塞板4B以及在開放側(cè)將所述安裝用具主體4A彎折至外側(cè)的凸緣4C，由它們形成 渦流室體支撐空間4D。進(jìn)而，特別是從圖1中可以看出，在所述安裝用具主體4A上形成有開口 4E。
[0054]進(jìn)而，在所述開放端側(cè)構(gòu)成用于安裝至爐主體I的凸緣4C。即，安裝用具4具有所謂通道形狀必然具有的渦流室體支撐空間4D。在安裝用具4的渦流室體支撐空間4D內(nèi)容納渦流室體2，在該狀態(tài)下，通過使用螺栓5、5..?將所述凸緣4A對接于爐主體1，從而渦流室體2固定于爐主體I。在該狀態(tài)下，如上所述，特別是從圖1中可以看出，渦流室體2的渦流室2C通過開口 IB與爐主體I的所述容納空間IC連通。
[0055]進(jìn)而，特別是從圖1中可以看出，渦流室體2具有例如用于在應(yīng)急時(shí)排出熔融金屬M(fèi)的排出閥2D。與該排出閥2D連通的所述開口 4E穿過安裝用具4。
[0056]進(jìn)而，在渦流室體2中形成有插板堰部6。該插板堰部6具有作為兩張堰板的封閉插板堰7與開口型插板堰8，它們單獨(dú)地可上下移動(dòng)地插入到在渦流室體2的側(cè)壁2A的內(nèi)側(cè)形成的縱槽2B內(nèi)。即，封閉插板堰7配置在爐主體I側(cè)，開口型插板堰8配置在爐主體I的相對側(cè)。
[0057]這些堰7、8不僅可上下移動(dòng)，而且還可以以從渦流室體2中完全拔出的方式裝入。這樣，由于將這些堰7、8從渦流室體2中取出，因此能夠極其容易地進(jìn)行爐主體I與渦流室體2的維護(hù)。即，在爐主體I與渦流室體2中，無法避免氧化物等所謂殘?jiān)S著運(yùn)行而積聚，但通過取出堰7、8兩者，具有易于進(jìn)行清潔的優(yōu)點(diǎn)。
[0058]封閉插板堰7和開口型插板堰8分別如圖5和圖6所示。[0059]如圖5所示，封閉插板堰7為一張板狀，在頂部安裝有把手7A。如圖6所示，開口型插板堰8在一張板子的下部左右具有作為切口的入口開口 8B與出口開口 8C。即，在開口型插板堰8的板狀堰主體8a的下端側(cè)隔開規(guī)定的距離形成有出口開口 SC與入口開口 SB。8A是把手。
[0060]特別是從圖3中可以看出，這些封閉插板堰7、開口型插板堰8構(gòu)成為互相無關(guān)地獨(dú)立上下滑動(dòng)，能夠分別穩(wěn)定地取得下移位置與上移位置。例如，在圖3的狀態(tài)下，渦流室體2與爐主體I處于隔斷狀態(tài)，在圖4的狀態(tài)下，渦流室體2與爐主體I通過入口開口 SB與出口開口 8C而采取連通狀態(tài)。
[0061]兩張封閉插板堰7和開口型插板堰8的上下驅(qū)動(dòng)的方式可想出鏈條式、螺旋式、手動(dòng)式、電動(dòng)式等各種方式，但這些堰7、8由于極其輕量，因此即使采用任何一種方式，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)都較為簡單。這里省略具體方式的說明。另外，封閉插板堰7、開口型插板堰8的材質(zhì)只要是對非鐵金屬等具有抗腐蝕性且導(dǎo)熱性高的耐火材料即可。希望盡可能廉價(jià)，市場上銷售的耐火材料已經(jīng)足夠。
[0062]特別是從圖2中可以看出，在渦流室體2的外部下方設(shè)有永久磁鐵式的移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10。該移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10也可以是電磁鐵式。例如，該移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10能夠使用圖8 (a) (b)所示的裝置。在該圖8 (a) (b)中，能夠設(shè)為在非磁性外殼51中設(shè)置旋轉(zhuǎn)磁鐵體52的形態(tài)。在該旋轉(zhuǎn)磁鐵體52中，在殼體54中設(shè)置電動(dòng)機(jī)53，利用軸承54a支撐電動(dòng)機(jī)53的軸53a，利用該電動(dòng)機(jī)53能夠旋轉(zhuǎn)圓盤狀的磁性基座55。在該磁性基座55上以90度間隔固定多個(gè)永久磁鐵56、56...。這些永久磁鐵56、56..?將上下面?zhèn)茸鳛榇艠O，并且從圖8Β中可以看出，相鄰的永久磁鐵56、56...被磁化為彼此不同的極性。這些永久磁鐵56、56..?由非 磁性蓋子57所覆蓋。
[0063]根據(jù)以上結(jié)構(gòu)，使得來自永久磁鐵56、56..?的磁束(磁力線)MF如圖3所示貫穿渦流室體6內(nèi)的熔融金屬Μ，或者貫穿熔融金屬M(fèi)的磁束MF進(jìn)入永久磁鐵56、56...。在該狀態(tài)下，通過永久磁鐵56、56...旋轉(zhuǎn)，使磁束MF也在熔融金屬內(nèi)移動(dòng)，由此通過電磁力使熔融金屬M(fèi)也發(fā)生旋轉(zhuǎn)。
[0064]由于該移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，使得渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)通過渦電流而卷起所謂的潤流并開始例如200至300rpm的高速旋轉(zhuǎn)。高速旋轉(zhuǎn)的熔融金屬M(fèi)由于離心力而構(gòu)成為在渦流室體2內(nèi)向外周方向擠壓的狀態(tài)。該力在渦流室體2的下部較強(qiáng)。其結(jié)果，熔融金屬通過開口型插板堰8的出口開口 SC排出并進(jìn)入爐主體I內(nèi)，另外，爐主體I內(nèi)的熔融金屬M(fèi)從入口開口 8B返回到渦流室體2內(nèi)。當(dāng)在渦流室體2的該渦流中投入非鐵金屬的切削粉等時(shí)，切削粉等被吸入到渦流中，能夠急速熔融。
[0065]順便說一下，爐主體I具有與渦流室體2不同的例如移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置，由此以例如20至30rpm旋轉(zhuǎn)熔融金屬M(fèi)。另外，構(gòu)成為可將作為產(chǎn)品的熔融金屬M(fèi)從爐主體I導(dǎo)出到外部。
[0066]接著，對上述金屬熔融爐的運(yùn)行操作進(jìn)行說明。
[0067]在利用渦流室體2使熔融金屬M(fèi)熔融的運(yùn)行開始之前，爐主體I內(nèi)的熔融金屬M(fèi)與渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)的液位水平一致。利用移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10將渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)如圖1所示的那樣順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。
[0068]在該狀態(tài)下，向渦流室體2內(nèi)投入作為原料的有些金屬切削粉等。切削粉等被吸入到高速旋轉(zhuǎn)的渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)的渦流中，并高效熔融，同時(shí)進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，渦流室體2內(nèi)旋轉(zhuǎn)的熔融金屬M(fèi)從出口開口 8C流入爐主體I內(nèi)。
[0069]由此，爐主體I的熔融金屬M(fèi)的液位水平相比渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)的液位水平增高。爐主體I內(nèi)的熔融金屬M(fèi)通過入口開口 8B流入渦流室體2內(nèi)，以使這些液位水平相同。即，在爐主體I與渦流室體2的熔融金屬M(fèi)的液位水平之間，通常產(chǎn)生液位差，即壓差，熔融金屬M(fèi)循環(huán)。
[0070]這樣，在本發(fā)明的實(shí)施方式中，由于利用移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置10旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)，因此能夠?qū)⒆鳛橥度朐系那邢鞣鄣任氲綔u流中進(jìn)行高效熔融。
[0071]本發(fā)明的實(shí)施方式的特長也存在于應(yīng)急時(shí)的對策中。即，一般在渦流室體2內(nèi)，熔融金屬M(fèi)高速旋轉(zhuǎn)，并且作為原料的未熔融物也同樣高速旋轉(zhuǎn)。因此，無法避免未熔融物的原料碰撞渦流室體2的內(nèi)壁。其結(jié)果，渦流室體2的內(nèi)壁顯著磨損，無法避免壁變薄。除此之外，渦流室體2的內(nèi)壁通常被反復(fù)施加因熱而造成的膨脹、收縮等的應(yīng)力。由于該應(yīng)力，變薄的渦流室體2的內(nèi)壁出現(xiàn)龜裂，可能會(huì)導(dǎo)致渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)漏出。此時(shí)，關(guān)系到爐主體I的熔融金屬M(fèi)也漏出，此情況將導(dǎo)致重大事故。
[0072]然而，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的裝置能夠防止這種事故。即，在渦流室體2損傷時(shí)，瞬間放下封閉插板堰7，將渦流室體2與爐主體I之間隔斷，能夠阻止?fàn)t主體I內(nèi)的大量熔融金屬M(fèi)的流出口 22。
[0073]另外，在利用封閉插板堰7進(jìn)行隔斷后，殘留在渦流室體2內(nèi)的熔融金屬M(fèi)能夠通過排出閥2D及安裝用具4的開口 4E迅速排出到外部。由此，能夠防止熔融金屬M(fèi)殘留在渦流室體2內(nèi)，冷卻并在渦流室體2內(nèi)固化。當(dāng)熔融金屬M(fèi)已在渦流室體2內(nèi)固化時(shí)，渦流室體2及爐主體I不能再次利用，造成很大損失，但能夠防止該情況。
[0074]另外，渦流室體2的形狀在本實(shí)施方式中從上方看為矩形(箱型)，但毫無疑問也可以是圓形、半圓形、橢圓形等。
[0075]圖9、圖10、圖11是截取了表不本發(fā)明的不同實(shí)施方式的一部分的平面說明圖、正視說明圖、右視說明圖。在圖9、圖10、圖11中，與圖1、圖2、圖3相同的部件賦予相同的符號，并省略詳細(xì)說明。從這些圖與圖1、圖2、圖3的對比中可以看出，作為插板堰(隔板)9，使用簡單沒有切口的單張板狀插板堰。從圖11中可以看出，插板堰9在圖中左端到達(dá)渦流室體2C的長度2L的一半位置。因?yàn)樵撘话氲奈恢脤⒊蔀槿廴诮饘費(fèi)的旋轉(zhuǎn)中心。
[0076]下面進(jìn)一步詳細(xì)說明。包括作為豎直設(shè)置在所述渦流室體2的所述渦流室2C內(nèi)的插板堰的隔板9。所述隔板9以所述隔板9的長度方向沿著連通方向CD的方式配置在所述渦流室2C內(nèi)的與所述容納空間IC的連通側(cè)2C0，并將所述連通側(cè)2C0隔開，形成位于隔板9兩側(cè)的第一渦流室開口 2C1與第二渦流室開口 2C2，該第一渦流室開口 2C1與所述容納空間IC與所述渦流室2C兩者連通，該第二渦流室開口 2C2與所述容納空間IC與渦流室2C兩者連通。在所述隔板9沿著所述長度方向的前端部分9a和與所述前端部分9a相對的所述渦流室體2的內(nèi)壁2E之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙2F。
[0077]如上所述，所述隔板9沿著的所述連通方向⑶的所述前端部分9a位于所述渦流室2C的所述連通方向⑶的長度2L的一半位置。
[0078]并且，所述隔板9可從所述渦流室體2中取下。由此，能夠進(jìn)行隔板9的維護(hù)。另夕卜，也能夠更換為無損傷的另一新隔板。另外，也可以準(zhǔn)備不同的隔板作為隔板9，根據(jù)熔融金屬M(fèi)的種類或使用條件等分開使用。
[0079]根據(jù)該實(shí)施方式，從圖9中可以看出，通過與上述相同的電磁力，熔融金屬M(fèi)在圖中例如以順時(shí)針旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。渦流室2C內(nèi)的熔融金屬M(fèi)的液流流入爐主體I內(nèi)，并從爐主體I流出，因此即使?fàn)t主體I不具有單獨(dú)的電磁攪拌裝置，爐主體I內(nèi)的熔融金屬M(fèi)也會(huì)被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。即，在爐主體I中不一定需要電磁攪拌裝置。由此，從實(shí)現(xiàn)低成本化，同時(shí)結(jié)構(gòu)簡單小型化上來看，能夠提供一種設(shè)置空間少也沒關(guān)系并且在實(shí)際機(jī)器的設(shè)置上非常容易使用的好裝置。
[0080]另外，本發(fā)明不僅適用于上述非鐵金屬熔化爐，當(dāng)然還可以適用于其他金屬熔融爐。
【權(quán)利要求】
1.一種金屬熔融爐用渦流室體，具有渦流室，所述渦流室與具有容納熔融金屬的容納空間的爐主體的所述容納空間連通，其特征在于，所述金屬熔融爐用渦流室體包括: 隔板，作為豎直設(shè)置在所述渦流室體的所述渦流室內(nèi)的插板堰， 所述隔板以所述隔板的長度方向沿著連通方向的方式配置在所述渦流室內(nèi)的與所述容納空間連通的連通側(cè)，并將所述連通側(cè)隔開，形成位于所述隔板兩側(cè)的第一渦流室開口與第二渦流室開口，所述第一渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，所述第二渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通， 在所述隔板沿著所述長度方向且位于所述渦流室內(nèi)側(cè)的前端部分和與所述前端部分相對的所述渦流室體的內(nèi)壁之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬熔融爐用渦流室體，其特征在于，所述隔板沿著所述長度方向的所述前端部分的位置設(shè)定在所述渦流室沿著所述連通方向的長度的一半位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬熔融爐用渦流室體，其特征在于，所述隔板可從所述渦流室體中取下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的金屬熔融爐用渦流室體，其特征在于，在所述渦流室體的外側(cè)下方配置有移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置，所述移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置通過永久磁鐵產(chǎn)生用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所述渦流室體內(nèi)的熔融金屬的磁場。
5.—種金屬熔融爐，其特征在于，包括: 爐主體，具有容納熔融金屬的容納空間；和 渦流室體，具有與所述爐主體的所述容納空間連通的渦流室， 所述渦流室體包括作為豎直設(shè)置在所述渦流室內(nèi)的插板堰的隔板， 所述隔板以所述隔板的長度方向沿著連通方向的方式配置在所述渦流室內(nèi)的與所述容納空間連通的連通側(cè)，并將所述連通側(cè)隔開，形成位于所述隔板兩側(cè)的第一渦流室開口和第二渦流室開口，所述第一渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通，所述第二渦流室開口與所述容納空間和所述渦流室兩者連通， 在所述隔板沿著所述長度方向的所述渦流室內(nèi)側(cè)的前端部分和與所述前端部分相對的所述渦流室體的內(nèi)壁之間，形成有熔融金屬旋流用的間隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金屬熔融爐，其特征在于，所述隔板沿著所述長度方向的所述前端部分的位置設(shè)定在所述渦流室沿著所述連通方向的長度的一半位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的金屬熔融爐，其特征在于，所述隔板可從所述渦流室體中取下。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的金屬熔融爐，其特征在于，所述渦流室體形成有用于排出熔融金屬的排出閥。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的金屬熔融爐，其特征在于，在所述渦流室體的外側(cè)下方配置有移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置，所述移動(dòng)磁場產(chǎn)生裝置通過永久磁鐵產(chǎn)生用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所述渦流室體內(nèi)的熔融金屬的磁場。
【文檔編號】F27B14/06GK103712443SQ201310452294
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年9月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月27日
【發(fā)明者】高橋謙三 申請人:高橋謙三