用于軌的冷卻箱的制作方法
【專利摘要】一種用于軌頂的熱處理的冷卻箱，設置有一種構造，該構造包括：適合于填充冷卻流體的第一容積(2)；布置在第一容積上面并且與其連通的第二容積(4)，以便流體從第一容積流向第二容積并且使要被熱處理的軌頂能浸入其中；在第一容積和第二容積之間的隔板(5)，其設置有優(yōu)選地布置在第二容積的寬度的中央處的用于使從第一容積到第二容積的冷卻流體產生射流的單排孔(6)；垂直于板并且相對于該單排孔對稱地布置在所述第二容積中的一對縱向隔框(7)，其適合于使從孔離開的流體射流垂直地向上指向。
【專利說明】用于軌的冷卻箱發(fā)明領域
[0001]本發(fā)明涉及一種冷卻箱，特別是適合于在軌頂的熱處理廠中冷卻軌的箱。

【背景技術】
[0002]用于軋制軌的熱處理的尤其是旨在獲得軌頂的硬化的多種解決方案在現有技術中是已知的。
[0003]從高于600°C的溫度開始，軌經受頂部的快速冷卻，要么通過噴霧噴嘴的使用，噴霧噴嘴將冷卻流體(水、空氣或混有空氣的水)注入到軌頂上，要么通過將頂部浸入到含有冷卻液體的冷卻箱中，冷卻液體例如添加有添加劑的水。
[0004]與使用噴霧噴嘴的解決方案相比，箱的使用允許在軌的長度方向上獲得較大的冷卻均勻性，以及較高的冷卻速率。
[0005]為了進一步增加箱內部的熱交換并且從而加快熱處理，現有技術中的一些解決方案設置成，冷卻液體的射流來自位于箱的底部上的孔并且沖擊浸入到液體中的軌頂:這類射流增加了熱交換并相應地增加了冷卻速率。
[0006]這類解決方案在文獻GB619699中被描述，該文獻公開了一種在底部上設置有三排孔的箱，冷卻液體從該三排孔中排出，適合于產生指向浸入的軌頂的液體射流。然而，以上文獻規(guī)定要被處理的軌頂安放在支架上，該支架代表從孔離開的液體的障礙并且使從孔離開的液體偏向軌頂的兩邊。因此，軌頂的中央區(qū)域未被這些射流沖擊并且從而經歷非均勻的冷卻。
[0007]其它解決方案已經被提出以改善此類冷卻工藝，例如在文獻JP63203724中所公開的，其規(guī)定通過軌的底部來支撐軌以便在射流與浸入的軌頂之間不具有任何障礙并盡可能均勻地處理軌頂。
[0008]特別地，JP63203724提供了在池內指向軌頂的三面上的三個分開的射流。
[0009]另一已知的解決方案在文獻W02010/133666A1中被公開，其中多個吊籃占據了箱的中央容積的上部部分，每個吊籃包括下翼片(panel)或下偏轉器以及相應的上翼片或上偏轉器。下偏轉器和上偏轉器由縱向元件相互分開，縱向元件包括設置有至少十排噴嘴并且整體地固定到兩個側板的中央板。所述側板相對于中央鉆制板(central drilled plate)不是共平面的，而是相對于由中央鉆制板界定的平面以例如等于5 + 15°的一預定的角度向下傾斜。當吊籃完全插入到箱模塊中時，下偏轉器完全在輸送歧管之上。下偏轉器與中央容積的內壁一起界定在鉆制中央板之下的第一隔室。同樣數量的標定孔設置在所述第一隔室中的每個隔室處，界定分別設置在輸送歧管的縱向拉伸部的下部部分(underlyingport1n)的兩個相對側部上的兩排相對的噴嘴。曲狀壁設置在鉆制中央板之上，在鉆制中央板和非鉆制側板之間的連接處，其相對于模塊的縱向中線平面凸起；并且橫切于所述曲狀壁的上偏轉器和所述曲狀壁一起界定在鉆制中央板之上的第二隔室。
[0010]另外的已知的解決方案在文獻US2009/200713A1中被公開，其中兩個鉆制板設置有以多排布置的噴嘴，該兩個鉆制板將冷卻箱分成三個隔室，一個隔室布置在另一個隔室之上。
[0011]然而，在現有技術的所有這些解決方案中，在噴嘴的出口處，朝向軌逐漸向上行進的冷卻液體的射流不可避免地傾向于放大，因此失去速度，并掠向左右，即相對于假想沖擊點交替地向右或向左指向，造成了非對稱且非均勻的熱傳遞。
[0012]在另一方面，軌頂不能被移得太靠近位于箱的底部上的孔，以保持在整個軌長度上的處理均勻性并防止所謂的“點狀效應(punctiform effect) ”，點狀效應是由于在孔之間的確定的間距的存在:因為垂直地位于孔上方的軌頂區(qū)域經歷比位于在兩個連續(xù)孔之間的間距處的拉伸部大的冷卻，所以太靠近孔的軌沿縱向軸線未被均勻地處理。
[0013]因此感到有提供允許克服以上缺點的冷卻箱的需要。
[0014]發(fā)明概述
[0015]本發(fā)明的主要目的是提供一種用于軌頂的熱處理的冷卻箱，其通過引導冷卻流體的射流來允許以相同的流動速率和其它條件取得特別高的冷卻效率。
[0016]本發(fā)明的另一個目的是提供一種冷卻箱，其以相同的效率允許在整個軌長度上獲得高的熱交換均勻性，能夠增加軌頂距箱的底部的距離，以便限制或消除射流的點狀效應。
[0017]本發(fā)明的另一個目的是提供一種用于軌的冷卻箱，其允許速率的寬范圍的控制，冷卻流體的射流以該速率的寬范圍控制抵達軌頂的鄰近部，從而控制冷卻速率，根據軌所要求的需要和處理增加或減少冷卻速率。
[0018]因此，本發(fā)明旨在通過提供一種通過浸入來進行軌頂的熱處理的冷卻箱來實現以上目的，根據權利要求1，冷卻箱界定了縱向軸線并且包括適合于填充冷卻流體的容積，要被熱處理的軌頂能浸入到冷卻流體中，所述容積具有底部，箱的特征在于，底部設置有僅沿著所述縱向軸線并且平行于所述容積的對稱平面布置的單排噴嘴，以便使冷卻流體在所述容積中產生射流，并且設置有至少一對大體上相互平行的縱向隔框(bulkhead)，該縱向隔框大體上垂直于所述底部并相對于所述單排噴嘴對稱地被布置在所述容積中，該縱向隔框配置成使離開噴嘴的冷卻流體的射流向上指向。
[0019]隨著隔框的引進，可以有利地引導流體射流并且大大地限制流體射流的掠過:冷卻流體的單一射流沖擊軌頂的中央，并分成對稱地拍打頂部的兩側的兩部分。因此，已經注意到，隔框的存在導致浸入部分上的較大的冷卻均勻性。
[0020]有利地，由于分開的并且被抬離箱的底部的隔框，所以在孔的出口處的流體速率引起周圍流體的抽吸和在孔或噴嘴的側面處出現的流體的牽引(噴射器效應):因此從隔框下面吸出的流體的圓周運動在隔框的側面處產生，并且然后由于隔框的存在而沿著垂直方向對準地且沒有掠過地行進至要被處理的件，然后繼續(xù)在隔框的側面上冷卻它們。流體的一部分然后再次下降到箱的底部上以便再次穿過隔框下方被吸出。
[0021]圖3a、3b和3c以在箱不具有隔框的情況下(圖3a)的運行速度、在根據本發(fā)明的箱設置有安放在箱的底部上的隔框的情況下(圖3b)的運行速度、和最后在根據本發(fā)明的箱設置有遠離箱的底部隔開的隔框的情況下(圖3c)的運行速度對冷卻流體的速度向量進行比較。
[0022] 從圖3a和3b的比較中容易地看出，隔框的添加使冷卻流體更緊湊、結合且連貫地流動，大體上是定向的。如果在箱中沒有隔框(圖3a)，流體射流擴大并且在出口噴嘴與必須被處理的軌頂之間的中途就已經失去其緊密度。特別地，射流因此變得較大和較慢，并且甚至在到達軌頂的中央之前就分成兩部分。
[0023]在另一方面，圖3c示出被抬升的隔框如何允許獲得更加穩(wěn)定且集中向上的射流。
[0024]在隔框和容積底部之間的間隙以離開孔的射流的相同速率允許冷卻流體的較大體積的參與和由此的高射流速率的實現。高的冷卻速率可以以該方式以相同的流動速率和其它條件實現，無需干預冷卻流體的化學組成。這導致了高達50%的較高的冷卻效率。
[0025]隔框的存在，要么附接至箱的底部要么從箱的底部分開，還允許在軌的長度上的射流的點狀效應被減少，因為隔框允許在同樣的處理效率下軌頂與孔之間的距離被增加。事實上，用隔框可以將該距離增加直到完全消除點狀效應，從而獲得最大的縱向均勻性，還確保足夠的冷卻效率。
[0026]進入箱的液體有連續(xù)的變化，從箱的頂部溢出的液體被收集到兩個側容積中。
[0027]根據本發(fā)明，因為箱允許使用甚至更高的冷卻流體流動速率，所以熱處理工藝的效力和靈活性被增加。實際上，如果沒有使用隔框就增加流動速率，則射流的特征是特別混亂且不是很有序的運動并且遠離“工作”區(qū)域移動，限制熱量從軌頂排出。相反地，如果隔框被提供，即使增加流動速率，射流流動保持是定向的并且確切地指向熱量必須從中排出的區(qū)域。
[0028]由于采用較高的流動速率的可能性，因此可能實現較高的冷卻速率，帶來超過50%的冷卻能力的絕對增加。這樣，箱的工作范圍從1°C /秒增加至20°C /秒，優(yōu)選從
1.5°C /秒增加至15°C /秒，而不必修改或替換所用硬化溶液的類型或濃度。這導致了箱的高操作靈活性，在根據要被處理的產品的類型的硬化溶液的管理(存儲、填裝、處置)方面，對于最終用戶具有相當大的優(yōu)勢。
[0029]兩個隔框之間的距離影響處理效率:增加兩個隔框之間的距離，射流速率減小，相應地使冷卻速率降低；如果所述距離減小則發(fā)生相反情況。
[0030]本發(fā)明的冷卻箱的有利的變型提供了用于調整隔框位置(手動或自動)的系統(tǒng)，以便調整兩個隔框之間的所述距離和/或離所述箱的底部的所述間隙(當提供時)，以便無需改變冷卻流體的流動速率就改變冷卻速率。
[0031]根據本發(fā)明的冷卻箱具有以下優(yōu)勢:
[0032]-離開孔的冷卻流體的射流的掠過被大大地減少；
[0033]-流體射流能指向軌頂的中央；
[0034]-獲得相對于軌的橫截面的對稱平面的對稱處理；
[0035]-射流的點狀效應被降低，從而獲得沿著軌的縱向延伸的更均勻的處理；
[0036]-以相同的流動速率實現了較高的冷卻速率(效率增加了50% )；
[0037]-流動速率可以增加以保持流體射流的方向性(更高的效力)；
[0038]-特別高的冷卻速率能在不修改冷卻流體的通常可能是水、油或鹽和/或聚合物的水溶液的組成的情況下達到，顯著提高箱的操作靈活性。
[0039]從屬權利要求描述了本發(fā)明的優(yōu)選實施方案。
[0040]附圖簡要說明
[0041]從在附圖表的幫助下通過非限制性實例闡述的冷卻箱的優(yōu)選但非排它性的實施方案的詳細描述中，本發(fā)明深一層的特征和優(yōu)點將顯得更加清楚，其中:
[0042]圖1示出了根據本發(fā)明的冷卻箱的模塊的透視圖；
[0043]圖2a示出了根據本發(fā)明的箱的第一實施方案的剖面示意圖；
[0044]圖2b示出了根據本發(fā)明的箱的第二實施方案的剖面示意圖；
[0045]圖3a示出了冷卻流體以在箱不具有隔框的情況下的運行速度的速率向量；
[0046]圖3b示出了冷卻流體以在圖2a的箱的情況下的運行速度的速率向量；
[0047]圖3c示出了冷卻流體以在圖2b的箱的情況下的運行速度的速率向量；
[0048]圖4a示出了圖2a的箱的變型的剖面示意圖；
[0049]圖4b示出了圖2b的箱的變型的剖面示意圖；
[0050]圖5a示出了根據本發(fā)明的處于第一工作位置的箱的一些部件的透視圖；
[0051]圖5b示出了根據本發(fā)明的處于第二工作位置的箱的一些部件的透視圖；
[0052]圖6示出了圖5b的部件的分解圖；
[0053]圖7示出了圖6的部件的正視圖。
[0054]附圖中相同的指代數字表示相同的元件或部件。
[0055]本發(fā)明優(yōu)選實施方案詳述
[0056]參照圖1和圖2，示出了用于軌頂的熱處理的冷卻箱的優(yōu)選實施方案、本發(fā)明的客體。
[0057]箱設置有一種構造，該構造包括:
[0058]-下部容積2，其適合于填充冷卻流體；
[0059]-上部容積4，其布置在所述下部容積2之上并且與下部容積2連通，以便冷卻流體能從下部容積2移動到上部容積4，所述上部容積4具有垂直對稱平面并且具有用于使要被熱處理的軌頂浸入的上端部開口；
[0060]-在下部容積2和上部容積4之間的隔板，其界定容積4的底部5，設置有產生冷卻流體的從下部容積至上部容積的向上指向的垂直射流的單排孔或噴嘴6 ；
[0061]-一對縱向隔框7，其垂直于隔板并且相對于所述單排噴嘴6對稱地布置在上部容積4中，適合于引導離開噴嘴6的冷卻流體的射流。
[0062]優(yōu)選地但不必須地，孔6沿其布置的縱向軸線X位于箱的上部容積4的對稱平面上。
[0063]有利地，縱向隔框7和單排噴嘴6沿著箱的整個縱向延伸或長度延伸。
[0064]為了獲得最佳冷卻，要被處理的軌10至少部分地以其頂部10’浸入到上部容積4中，上部容積4以其垂直地布置的對稱平面并且與對稱平面一致地布置軌10。這樣，相對于箱的寬度居中地指向的冷卻流體的射流也指向軌頂的中央，以便有處理對稱性。
[0065]下部容積2是所謂的輸送容積，而上部容積4是在其中進行軌的熱處理的所謂的冷卻容積。兩個容積2和4通過孔6連通地放置，所有孔6具有相同的直徑“d”，冷卻流體經其從下部容積推送到上部容積。孔或噴嘴6的軸線垂直于隔板并平行于隔框7。
[0066]有利地，孔6的直徑d約為6_12mm，優(yōu)選地等于10mm，而孔之間的間距約為孔的直徑的1.5-5倍，優(yōu)選地，孔的直徑的3倍。
[0067]界定容積4的底部5的隔板垂直于箱的側壁布置。下部容積2和上部容積4優(yōu)選地具有相同的寬度B和相互不同的高度(在圖2a和2b中，A# C)。然而，可選的變型可為容積2、4兩者設置相同的高度。
[0068]參照圖2a和圖2b，兩個隔框7之間的距離“L”優(yōu)選地具有等于孔的直徑d的最小值以及等于孔6的直徑的兩倍的最大值，以便不失去隔框存在的正效應并且因此不降低離開孔6的流體射流的速率。優(yōu)選地，距離“L”大于孔6的直徑“d”大約4-6mm。
[0069]優(yōu)選地(但不必須地)由金屬材料制成的隔框7的厚度“S”，因可以確保隔框足夠的堅固性和硬度的原因而有利地盡可能的小，例如等于約5mm。
[0070]隔框7的高度H不能太小，因為它必須要允許流體的射流沿足夠長的路徑被輸送以便它無掠過地到達要被處理的軌頂。優(yōu)選地，高度H不短于隔框之間的距離“L”的兩倍(H≥2L);甚至更優(yōu)選地，其等于隔框之間的距離“L”的四-五倍。
[0071]在圖2a中闡述的本發(fā)明的箱的第一種有利的變型中，縱向隔框7安放在隔板5上，例如沿其整個縱向延伸或長度焊接到所述板。
[0072]在另一方面，在圖2b中所示的本發(fā)明的箱的第二種甚至更有利的變型中，在隔框7的下端部與上部容積4的包含隔板5的底部之間設置距離或間隙“G”。此間隙“G”不能太大，如果冷卻液體的射流不被約束，則它將相對于孔6的軸線放大地行進并將撞擊隔框7的下部部分，大大地失去速度并且冒著不被傳遞到由相互平行的隔框7界定的縱向狹縫或通道9中的風險。
[0073]有利地，距離或間隙“G”被包括在O≤ G≤ 1.5L的范圍內。
[0074]如果非零的距離G設置在隔框7的下端部與隔板5之間，則所述隔框的下端部被有利地倒角以便于促進冷卻流體的射流在縱向狹縫9中的傳送。一種可選的變型(未示出)提供，縱向隔框7的下端部包括向外彎曲的、相對于隔框的主體7”和容積4的對稱平面以非零的一角度傾斜的端部拉伸部7’(見圖7中的隔框7)。優(yōu)選地，端部拉伸部7’的傾斜角度小于10°，優(yōu)選地被包括在1°和8°之間的范圍內。此端部拉伸部7’可具有等于約1/3H+1/4H的高度。如果在隔框7與隔板5之間的距離是顯著的，此變型特別有用，因為其允許離開噴嘴6的流體流動免于撞擊隔框7的下端部并且允許流體流動被接收并居中地傳送到縱向狹縫9中。
[0075]本發(fā)明的冷卻箱的另外的實施方案提供了用于調整隔框位置(手動或自動)的調整裝置，以用于調整兩個隔框之間的距離L和/或離箱的底部的間隙G(當提供時)，以便無需改變冷卻流體的流動速率就改變冷卻速率。
[0076]在優(yōu)選的實施方案中，此調整裝置包括多個支架元件11，在術語中被稱為支撐腿。
[0077]在圖4a或4b中闡述的第一變型中，每個大體上平坦的支架元件11設置有兩個狹縫或凹口 12，該狹縫或凹口 12具有與兩個縱向隔框7的矩形橫截面的形狀互補的形狀。因此兩個隔框7整個地插入到多個支架元件11的狹縫12中并且通過例如焊接整體地固定到所述支架元件11。
[0078]有利地，支架元件11和狹縫12的尺寸被設計成使得允許隔框7在距容積4的底部的兩個預定的距離處被定位。相關的附圖示出了實例，其中隔框7相對于容積4的底部可被定位處的兩個預定的距離為G和0(零)。狹縫12的閉合內端部13在等于離支架元件11的第一底表面14的距離G的距離處被制成。這樣，隔框7的第一端部在離第一底表面14的距離G處。在另一方面，狹縫12的開口外端部16設置在與支架元件11的平行于第一底表面14的一個或多個第二底表面15相同的高度處。這樣，使得狹縫12具有短于或等于隔框7的高度H的高度，隔框7的第二端部至多在離第二底表面15零距離處。
[0079]未示出的第二變型可提供用于使狹縫12具有比隔框7的高度H高的高度，在任何情況下保持與圖4中的支架元件11相同的高度；這樣，當隔框被完全插入到各自的狹縫中時，隔框7的第二端部是在離第二底表面15的距離G’ (有利地短于G)處。在后來的這種變型中，支架元件11被制成使得附圖中表示的其兩個位置均允許隔框布置在離隔板5或箱的底部的非零的間隙處。在這種情況下，沿著縱向軸線X，隔框7的具有相互平行的并且各自界定了垂直于隔板5的平面的相應中央縱向主體的兩個縱向端部可以可選擇地相對于容積4的對稱平面和隔框主體以非零的一角度向外傾斜。優(yōu)選地，下端拉伸部和上端拉伸部的傾斜角度小于10°，優(yōu)選地在1°和8°之間的范圍內。此下端拉伸部和上端拉伸部的高度的總和可以例如等于約1/3H+1/4H，其中H是隔框的高度。有利地，隔框7設置有多個狹縫或凹口(例如圖6中所示的狹縫16)，其在隔框7與支架元件11的連接點處，即在設置于支架元件11中的每個中的兩個狹縫或凹口 12處被制造。隔框上的狹縫沿著下端拉伸部和上端拉伸部的整個高度并且還可選擇地在隔框7的界定了垂直于隔板5的平面的主體的一部分中被制造。
[0080]在圖5a或5b_7中示出的第三變型中，每個大體上平坦的支架元件11設置有兩個狹縫或凹口 12，該狹縫或凹口 12具有與兩個縱向隔框7的橫截面一部分互補的形狀。相互平行且各自界定了垂直于隔板5的平面的縱向隔框7包括至少一個端部拉伸部7’，該至少一個端部拉伸部V向外彎曲，相對于容積4的對稱平面和隔框主體7”(其界定了所述垂直平面)以非零的一角度傾斜。優(yōu)選地，端部拉伸部7’的傾斜角度小于10°，優(yōu)選地在1°和8°之間的范圍內。此端部拉伸部7’可以具有等于約1/3H+1/4H的高度。
[0081]有利地，隔框7設置有多個狹縫或凹口 16，該狹縫或凹口 16在隔框7與支架元件11的連接點處即在設置于支架元件11中的每個中的兩個狹縫或凹口 12處被制造。狹縫16沿著端部拉伸部V的整個高度并且還可選擇地在隔框7的界定了垂直于隔板5的平面的主體7”的一部分中被制造。兩個隔框7插入到多個支架元件11的狹縫12中并通過例如焊接整體地固定到所述支架元件11。支架元件11和狹縫12的尺寸設計成使得允許隔框7在離容積4的底部的兩個預定的距離處定位。狹縫12的閉合內端部13(圖7)在等于離支架元件11的第一底表面14的距離J>G的距離處被制造。隔框7的第一端部，特別是端部拉伸部7’，當其完全插入到狹縫12中時，是在離第一底表面14的距離G處。在另一方面，狹縫12的開口外端部16設置在與支架元件11的平行于第一底表面14的一個或多個第二底表面15相同的高度處。隔框7的第二端部當被完全插入到狹縫12中時，在離第二底表面15零距離處。
[0082]在以上描述的變型中，支架元件11相互平行且正交于容積4的對稱平面來布置，并且沿著隔框7且因而沿著箱的容積4規(guī)律地定位。在一個支架元件和下一個支架元件之間的距離例如等于約500mm。如圖4a或5a中所示，通過以安放在隔板5上即容積4的底部上的第二底表面15來布置支架元件11和焊接到其的隔框7，縱向隔框7安放在隔板5上。在另一方面，如圖4b或5b中所示，通過以安放在隔板5上即容積4的底部上的第一底表面14來布置支架元件11和焊接到其的隔框7，縱向隔框7在離上部容積4的包含隔板5的底部的距離或間隙“G”處定位。為了從圖4a或5a的位置切換到圖4b或5b的位置，可以簡單地將包含隔框7和支架元件11的整體組以180°旋轉。
[0083]在冷卻箱的上部容積4的側部上設置有相應的側容積(未示出)，其中從所述上部容積4的頂部溢出的冷卻流體被收集。兩個側容積設置有沿著其延伸的排出管。已經用于軌的熱處理的冷卻流體穿過排出管流入到冷卻流體的再循環(huán)回路中。
[0084]冷卻箱可以有利地包括由法蘭或其它合適的連接裝置相互連接的多個縱向模塊1，以便形成單個元件。此模塊I的縱向延伸和數量使得界定冷卻箱的總長度比通過將頂部浸入到所述箱中而被熱處理的軌的長度長。一種變型設置有用于在縱向方向上滑動該模塊的滑動塊(sliding block)，以允許箱的任何熱膨脹。僅中央模塊或多個中央模塊被固定，沒有移動的可能性。
[0085]有利地，模塊I可以通過設置有等于二的冪的數量的對稱分支的冷卻流體輸送回路供給，并且因此在模塊中有速率的均勻分布。
[0086]每個模塊I設置有相對于相同模塊的縱向延伸側向地且居中地布置的流體進口管道。此進口管道連接到設置在每個模塊I的下部容積2中的輸送歧管3。此輸送歧管3在界定了垂直于箱的縱向軸線的軸線的第一拉伸部的下游，設置有帶有平行于箱的上部容積的對稱平面的兩個縱向拉伸部3’的分叉。兩個縱向拉伸部3’可以正好定位在孔6的垂直面下方或相對于該排孔6以例如等于管道直徑的距離交錯。
[0087]進口管道和輸送歧管3可以制成單件。包括兩個縱向拉伸部3’的輸送歧管3定位在箱的下部容積2的下部部分中。
[0088]通過適當地選擇輸送歧管3和相應的縱向拉伸部3’的截面以及孔6的數量和尺寸，在箱的整個縱向發(fā)展上獲得了離開所述孔的速率的大體上相等的分布，允許流動的均勻性以及由此的熱處理的均勻性。
[0089]冷卻流體以預定的第一壓力連續(xù)地進入輸送歧管3，并且從而進入兩個縱向拉伸部3’，并且以至少等于由上部流體的液壓壓頭施加的測壓負載的預定的第二壓力穿過在上部容積4的下部部分中的多個標定孔6離開。然后，穿過由隔框7界定的縱向狹縫或通道9，流體沿著垂直方向朝著要被處理的件對準地并且沒有掠過地行進，然后繼續(xù)在隔框的側部上冷卻它們。
[0090]采用本發(fā)明的箱的構造獲得了連續(xù)的、平均來說均勻的向上流動，其以相對的流體壓頭(fluid-head)表面速率拍打浸入的軌頂，使得確保恒定的熱交換并因此使同一頂部的熱處理在整個軌長度上是均勻的。
【權利要求】
1.一種冷卻箱，其界定縱向軸線(X)，用于通過浸入來進行軌頂的熱處理，所述冷卻箱包括適合于填充冷卻流體的容積(4)，待熱處理的所述軌頂能浸入在所述冷卻流體中，所述容積(4)具有底部(5)，所述箱的特征在于:所述底部(5)設置有僅沿著所述縱向軸線(X)且平行于所述容積(4)的對稱平面來布置的單排噴嘴(6)，以便在所述容積(4)中產生冷卻流體的射流， 并且?其^設置有至少一對大體上相互平行的縱向隔框(7)，所述縱向隔框(7)大體上垂直于所述底部(5)且相對于所述單排噴嘴(6)對稱地布置在所述容積(4)中，所述縱向隔框(7)配置成使離開所述噴嘴(6)的冷卻流體的射流向上指向。 …舊權利要求2...
2.根據權利要求1所述的箱，其中所述縱向隔框(7)和所述單排噴嘴(6)沿著所述箱的整個縱向延伸而延伸。
3.根據前述權利要求中任一項所述的箱，其中所述縱向隔框(7)安放在所述底部(5)上。
4.根據權利要求1或2所述的箱，其中所述縱向隔框(7)與所述底部(5)隔開。
5.根據前述權利要求中任一項所述的箱，其中所述縱向隔框(7)之間的距離L被包括在LS 2d的范圍內，其中d是所述噴嘴(6)的直徑。
6.根據權利要求4或5所述的箱，其中所述縱向隔框(7)與所述底部(5)之間的距離G被包括在0〈G≤1.5L的范圍內，其中L是所述縱向隔框(7)之間的距離。
7.根據前述權利要求中 任一項所述的箱，其中所述縱向隔框(7)的高度H等同于H ^ 2L，其中L是所述縱向隔框(7)之間的距離。
8.根據權利要求7所述的箱，其中所述縱向隔框(7)的所述高度H等于所述縱向隔框(7)之間的所述距離L的四倍或五倍。
9.根據前述權利要求中任一項所述的箱，包括兩個或更多個縱向模塊(I)，所述縱向模塊(I)在其端部處彼此相繼連接以便界定所述容積(4)。
10.根據前述權利要求中任一項所述的箱，包括另一容積(2)，所述另一容積(2)布置在所述容積(4)下面并且借助于所述單排噴嘴(6)與所述容積(4)連通。
11.根據權利要求10所述的箱，其中設置有用于將冷卻流體引入到所述另一容積(2)中的一個或多個輸送歧管(3)，所述輸送歧管(3)設置有帶有平行于所述對稱平面的兩個縱向拉伸部(3’)的分叉，借此被引入到所述另一容積(2)中的冷卻流體穿過所述噴嘴(6)流入到所述容積(4)中。
12.根據權利要求4或6所述的箱，其中所述隔框(7)的下端部是倒角的或包括向外彎曲的端部拉伸部(7’)，所述端部拉伸部(7’ )相對于所述隔框的主體(7”)和所述容積(4)的所述對稱平面以非零的角度傾斜。
13.根據前述權利要求中任一項所述的箱，其中設置有調整裝置，以便在垂直方向上調整所述一對隔框(7)的位置，和/或調整兩個隔框(7)之間的距離L。
14.根據權利要求13所述的箱，其中用于在垂直方向上調整所述一對隔框(7)的位置的所述調整裝置包括多個平坦支架元件(11)，每個支架元件正交于所述隔框(7)布置并且設置有兩個狹縫(12)，所述狹縫(12)具有與所述隔框(7)的橫截面的至少一部分的形狀互補的形狀；并且所述隔框(7)插入到所述支架元件(11)的所述狹縫(12)中。
15.根據權利要求14所述的箱，其中所述隔框(7)具有矩形橫截面，并且所述狹縫(12)的閉合內端部(13)在與離所述支架元件(11)的第一底表面(14)的距離G相等的距離處得到，并且其中所述狹縫(12)的開口外端部(16)設置在與所述支架元件(11)的平行于所述第一底表面(14)的一個或多個第二底表面(15)相同的高度處。
16.根據權利要求14所述的箱，其中所述隔框(7)具有主體(7”)和端部拉伸部(7’)，所述主體(7”)具有矩形橫截面，所述端部拉伸部(7’)相對于所述主體(7”)向外彎曲，相對于所述主體(7”)和所述容積(4)的所述對稱平面以非零的角度傾斜，并且其中所述隔框(7)設置有多個狹縫(16)，所述多個狹縫(16)在設置在每個所述支架元件(11)中的兩個狹縫(12)處獲得。
17.根據權利要求16所述的箱，其中所述狹縫(12)的閉合內端部(13)在離所述支架元件(11)的第一底表面(14)的第一距離(J)處制成，并且所述隔框(7)的完全插入到所述狹縫(12)中的第一端部是在比離所述第一底表面(14)的所述第一距離(J)短的第二距離(G)處。
18.根據權利要求15或17所述的箱，其中所述距離(G)被包括在0〈G( 1.5L的范圍內，其中L是所述縱向隔框 (7)之間的距離。
【文檔編號】F27D99/00GK104053795SQ201280055555
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2012年11月12日 優(yōu)先權日:2011年11月11日
【發(fā)明者】D·安德萊塔 申請人:丹尼爾和科菲森梅克尼齊有限公司