專利名稱：日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結構裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度 均勻結構裝置，為日用瓷窯爐技術領域。
背景技術：
日用瓷氣燒還原焰隧道窯為滿足陶瓷制品在燒結過程中的物理化學變 化的需要， 一般將窯爐劃分為三個區(qū)氧化排煙區(qū)，還原高火保溫區(qū)和急冷 緩冷區(qū)。在氧化排煙區(qū)設置有一定數(shù)量的燒咀，用于滿足陶瓷制品氧化時所 必需的氧化氣氛和對應的溫度。
但是，現(xiàn)有的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結構通常就是 燒咀磚的結構。這種結構的燃燒室的弊端在于
1、 易導致低溫區(qū)的火焰"鋼性"過強；
2、 燒咀附近及噴火口之間的溫差較大；
3、 燒咀容易熄火。
因而陶瓷制品在其中的的受熱不是均勻的，而是波浪式的。這樣給制品 的燒成帶來很多的缺陷開裂、陰黃、過火、沖泡、彩色不正等等；同時， 也導致窯爐燒成的能耗增高，給安全生產(chǎn)帶來了較大的隱患。
改革低溫氧化區(qū)燃燒室結構，研發(fā)一種新型的結構，便于還原焰陶瓷制 品的燒成，克服低溫氧化控制不當帶來的缺陷，具有重要的現(xiàn)實意義。

實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種科學合理、簡單易行的曰
用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結構，滿足陶瓷制品氧化時所必需 的氧化氣氛和必要的溫度，同時保證溫度的均勻性，保證火焰的連續(xù)性。
本實用新型的目的是通過下述技術方案實現(xiàn)的， 一種日用瓷氣燒還原焰 隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側面進入 窯爐內的，在窯爐的側面的燃氣入口處內面，燒咀的出口處擴散燒咀火焰， 保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入窯內通道。燃燒室的底面正對窯車 臺面，燒咀中心正對下火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動能，對 窯內燃燒產(chǎn)物進行攪拌，強化傳熱。燃燒室的燒咀選用燃氣平焰燒咀，火焰
長度(X3 0.9m。燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀為中心，直徑為300mm 的火焰有足夠的燃燒空間。燃燒室的出口的張角取45"。燃燒室是直徑為 350mra 560mm的半圓拱，長度200mm 350mm;燃燒室的大小取決于所選 取的燃燒室空間熱強度。燃氣通過燒咀噴入燒咀磚進入燃燒室燃燒后，燃燒 產(chǎn)物再進入窯內通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入窯內通 道，在燃燒室出口設置分流裝置。分流裝置是由耐火磚在燃燒室內燒咀的前 面設置擋塊形成。
這種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結構的優(yōu)點在于
1、 噴火口與產(chǎn)品間形成了 300mm 450mm開擴空間，擴大了幅射面積， 增加了幅射層的厚度，防止了局部溫度超高；
2、 當耐火磚分流裝置中的耐火磚達到一定溫度后，能較好地防止熄火 現(xiàn)象，保證了火焰的連續(xù)性；
3、 噴火口與產(chǎn)品間的開擴空間和耐火磚分流裝置共同改良了火焰的"鋼 性"，更適合產(chǎn)品的低溫氧化。


圖1為原氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室結構示意圖； 圖2為本實用新型的結構示意圖； 圖3為本發(fā)明的k向視圖。
具體實施方式

下面結合實施例和附圖對本實用新型作進一步說明。 實施例一
一種日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室，包括窯爐1和燒咀2， 且燒咀2是通過窯爐的側面3進入窯爐內的，在窯爐的側面3的燃氣入口處 內面4，燒咀的出口處5設有擴散燒咀火焰，保證火焰充分燃燒后合理的進 入窯內通道的燃燒室6。燃燒室6的底面正對窯車臺面7，燒咀中心正對下 火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動能，對窯內燃燒產(chǎn)物進行攪拌， 強化傳熱。燃燒室6的燒咀2選用燃氣小功率平焰燒咀功率為25 KW，火 焰長度0.3 0.9m。燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀2為中心，直徑為 300mm的火焰有足夠的燃燒空間。燃燒室6的出口的張角取45°。燃燒室6 是采用雙環(huán)拱形第一層拱8的直徑560mm,拱厚為180 mm;第二層拱9 的直徑328mm，拱厚為180 mm，燃燒室體積25 X 0.6/260=0.577 m3;燃 燒室空間熱強度取260KW/m3;燃氣通過燒咀2噴入燒咀磚進入燃燒室燃燒 后，燃燒產(chǎn)物再進入窯內通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入 窯內通道，在燃燒室出口設置分流裝置IO。分流裝置IO是由耐火磚在燃燒 室6內燒咀2的前面設置擋塊形成的。
該方案實施以來，較好的解決了低溫氧化不當帶來的一些缺陷，杜絕了 低溫斷火現(xiàn)象，且低溫可調性好。
權利要求1、日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結構裝置，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側面進入窯爐內的，其特征在于在窯爐的側面的燃氣入口處內面，燒咀的出口處設有擴散燒咀火焰，保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入窯內通道的燃燒室。
2、 如權利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結構裝置，其特征在于所述的燃燒室的底面正對窯車臺面，燒咀中 心正對下火道的中下部。
3、 如權利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結構裝置，其特征在于所述的燃燒室的燒咀選用燃氣平焰燒咀，火焰長度0. 3 0. 9m。
4、 如權利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結構裝置，其特征在于所述的燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀為 中心，直徑為300mm的火焰有足夠的燃燒空間；燃燒室的出口的張角取45"。 燃燒室是直徑為350mm 560mm的半圓拱，長度200mm 350mm;燃燒室 的大小取決于所選取的燃燒室空間熱強度。
5、 如權利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫 度均勻結構裝置，其特征在于為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入 窯內通道，在燃燒室出口設置分流裝置。
6、 如權利要求5所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結構裝置，其特征在于所述的分流裝置是由耐火磚在燃燒室內燒咀 的前面設置擋塊形成的。
專利摘要日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結構裝置，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過窯爐的側面進入窯爐內的，在窯爐的側面的燃氣入口處內面，燒咀的出口處擴散燒咀火焰，保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入窯內通道。燃燒室的底面正對窯車臺面，燒咀中心正對下火道的中下部，可充分利用燒咀噴出火焰的動能，對窯內燃燒產(chǎn)物進行攪拌，強化傳熱。燃燒室是直徑為350mm～560mm的半圓拱，長度200mm～350mm；燃燒室的大小取決于所選取的燃燒室空間熱強度。燃氣通過燒咀噴入燒咀磚進入燃燒室燃燒后，燃燒產(chǎn)物再進入窯內通道。為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進入窯內通道，在燃燒室出口設置分流裝置。
文檔編號F27B9/36GK201066238SQ20072006353
公開日2008年5月28日 申請日期2007年6月14日 優(yōu)先權日2007年6月14日
發(fā)明者聶岳軍 申請人:湖南華聯(lián)瓷業(yè)有限公司