技術(shù)特征：

1.一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，包括fdm掩膜模塊、電化學(xué)沉積模塊、雙工位轉(zhuǎn)臺，左右方向為x向；

2.如權(quán)利要求1所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，機床底座（1）上安裝有機床外罩、左側(cè)隔板、右側(cè)隔板，左、右側(cè)隔板將機床外罩罩住的空間分隔為左側(cè)非加工區(qū)、中間加工區(qū)、右側(cè)非加工區(qū)，三維運動平臺位于右側(cè)非加工區(qū)，二維運動平臺位于左側(cè)非加工區(qū)，噴嘴、電鑄液噴嘴位于中間加工區(qū)，左側(cè)連接梁穿過左側(cè)隔板的左通孔，右側(cè)連接梁穿過右側(cè)隔板上的右通孔，錐形防護罩一端連接在對應(yīng)的左側(cè)隔板、右側(cè)隔板上，另一端連接在對應(yīng)的左側(cè)固定座、右側(cè)固定座連接。

3.如權(quán)利要求1所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，中間加工區(qū)對應(yīng)的機床外罩上具有推拉門（17）。

4.如權(quán)利要求1所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，所述推拉門（17）通過機床外罩頂部與底部的導(dǎo)軌在加工區(qū)與非加工區(qū)之間滑動。

5.如權(quán)利要求2所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，錐形防護罩包括用于與連接板和隔板固定連接的側(cè)連接板（603）以及設(shè)置在側(cè)連接板和對應(yīng)的連接板、隔板之間的耐高溫密封圈（602），兩個側(cè)連接板之間通過密封皮革（601）連接，下端具有透氣孔（604）。

6.如權(quán)利要求1所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，所述數(shù)控轉(zhuǎn)臺包括固定在大理石平臺（2）上的箱體（24）、固定在箱體上的箱蓋（25）以及安裝在箱體內(nèi)并穿過箱蓋的主軸，主軸和箱體之間通過密封裝置密封連接。

7.如權(quán)利要求6所述的一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工裝置，其特征在于，不銹鋼的箱蓋（25）的內(nèi)圓周上具有銑槽，銑槽內(nèi)安裝橡膠圈，通過螺栓將密封尼龍?zhí)坠潭ㄔ谙渖w上并壓緊橡膠圈形成密封，密封尼龍?zhí)滋自谥鬏S上且其內(nèi)圈與主軸之間通過橡膠密封圈密封。

8.一種fdm掩膜-電化學(xué)沉積的復(fù)合3d打印加工方法，利用如權(quán)利要求1-7所述的加工裝置進行加工，其特征在于：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種FDM掩膜?電化學(xué)沉積的復(fù)合3D打印加工裝置和方法，包括FDM掩膜模塊、電化學(xué)沉積模塊、雙工位轉(zhuǎn)臺，左右方向為X向；FDM掩膜模塊是位于機床底座上大理石平臺右邊的X/Y/Z方向三維運動平臺；電化學(xué)沉積模塊是位于大理石平臺的左邊的X/Y方向的二維運動平臺，Y向滑塊左側(cè)連接梁與左側(cè)固定座固定連接，左側(cè)固定座上固定安裝輸出端；工件平臺通過數(shù)控轉(zhuǎn)臺控制轉(zhuǎn)動。首先利用熔絲堆積成形技術(shù)打印出一定圖案的樹脂掩膜層，再利用電化學(xué)沉積技術(shù)在掩膜層鏤空部分打印相變冷卻熱忱的金屬層，不斷交替重復(fù)掩膜與沉積過程，直至將相變冷卻熱忱分層打印完成，最后將樹脂掩膜層和金屬熱忱分離，實現(xiàn)高精度、高強度、高壽命的打印。

技術(shù)研發(fā)人員：谷洲之,張馨午,劉暢,劉海波,陳中,裴旭,趙亮,梁曉波
受保護的技術(shù)使用者：淮陰工學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6