本發(fā)明涉及填料填充膜、片狀膜、層疊膜、貼合體和填料填充膜的制造方法。
背景技術(shù)：
：近年來，開發(fā)和使用了各種各樣的壓花膜。作為這樣的壓花膜已知有，凹部的直徑為1μm以上且凹部的排列圖案具有沿著壓花膜長(zhǎng)度方向的周期性的壓花膜。即，這樣的壓花膜中，相同的排列圖案在壓花膜的長(zhǎng)度方向上重復(fù)形成。這樣的壓花膜例如作為填料填充膜來使用。填料填充膜是在壓花膜的凹部填充填料來得到的。此外，使用印模原盤(スタンパ原盤)來制作這樣的壓花膜。印模原盤是在平板狀的基板的表面(轉(zhuǎn)印面)上形成上述排列圖案的反轉(zhuǎn)形狀(即，多個(gè)凸部)而得到的。而且，通過將印模原盤的轉(zhuǎn)印面形狀依次轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印膜上，來制作壓花膜。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-258751號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明要解決的課題但是，使用印模原盤來制作壓花膜的方法中，存在有如下的問題：非常難以準(zhǔn)確地進(jìn)行相對(duì)于被轉(zhuǎn)印膜的印模原盤的位置確定等。因此，由該方法制作的壓花膜中，會(huì)有易于發(fā)生凹部不良(位置偏移、缺損、變形等)的問題。在成為不良的凹部中，就有不能填充填料的情形。此外，凹部的不良隨著填料填充膜的變長(zhǎng)而變得易于增加。因此，填料的填充率在填料填充膜的長(zhǎng)度方向上產(chǎn)生不均勻這樣的問題。需說明的是，專利文獻(xiàn)1中公開了由輥對(duì)輥的方式制作蛾眼膜(モスアイフィルム)的方法。該方法中，首先，準(zhǔn)備了在周面上形成有蛾眼膜的反轉(zhuǎn)形狀的圓柱形狀的原盤。然后，通過將原盤的周面形狀轉(zhuǎn)印到膜上來制作蛾眼膜。但是，這樣的蛾眼膜中，凹凸的直徑非常小(不足1μm)，因而不能解決上述的問題。鑒于上述問題，在此提出了本發(fā)明，本發(fā)明的目的在于提供填料的填充率更加穩(wěn)定的、新型且改良了的填料填充膜、片狀膜、層疊膜、貼合體以及填料填充膜的制造方法。解決課題的方法為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)觀點(diǎn)，提供一種填料填充膜，其具有膜主體、在膜主體的表面上形成的多個(gè)凹部和在各個(gè)凹部中填充的填料，凹部的開口面的直徑至少大于可見光波長(zhǎng)，凹部的排列圖案具有沿著膜主體長(zhǎng)度方向的周期性，膜主體的一個(gè)端部中的填料的填充率與膜主體的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。這里，膜主體還可以是長(zhǎng)膜。此外，填料的填充率還可以具有沿著膜主體長(zhǎng)度方向的周期性。此外，全部的凹部還可以是大致相同的形狀。此外，膜主體的每單位面積中填充的填料的數(shù)量還可以為50,000,000個(gè)/cm2以下。此外，填料在凹部?jī)?nèi)還可以與膜主體一體化。此外，還可以具有在膜主體的表面中至少一部分形成的被覆層。此外，被覆層還可以形成在凹部的表面、凹部間的凸部的表面和填料的露出面中至少一部分上。此外，被覆層還可以含有無機(jī)材料。此外，膜主體還可以由固化性樹脂或可塑性樹脂來形成。根據(jù)本發(fā)明的其他觀點(diǎn)，提供一種片狀膜，其通過將上述填料填充膜切割成多張來制作。根據(jù)本發(fā)明的其他觀點(diǎn)，提供由上述膜層疊而成的層疊膜。這里，還可以具有在膜主體的背面形成的粘著層。根據(jù)本發(fā)明的其他觀點(diǎn)，提供具有上述膜和貼合有上述膜的基材的貼合體。根據(jù)本發(fā)明的其他觀點(diǎn)，提供一種填料填充膜的制造方法，包括：準(zhǔn)備在周面上形成有多個(gè)凸部的圓筒狀或圓柱狀的原盤的步驟；在以輥對(duì)輥方式搬送長(zhǎng)條形的被轉(zhuǎn)印膜的同時(shí)使原盤的周面形狀轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印膜上，從而制作膜主體的步驟；在膜主體的表面形成的多個(gè)凹部中填充填料的步驟；其中，凹部的開口面的直徑至少大于可見光波長(zhǎng)，膜主體的一個(gè)端部中的填料的填充率與膜主體的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。根據(jù)本發(fā)明的上述各觀點(diǎn)的填料填充膜，膜主體的一個(gè)端部中的填料的填充率與膜主體的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。因此使得填料的填充率更加穩(wěn)定。發(fā)明效果如上所述，根據(jù)本發(fā)明，能夠使得填料的填充率更加穩(wěn)定。附圖說明[圖1]是示意地顯示本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的填料填充膜的構(gòu)成的平面圖。[圖2]是示意地顯示該實(shí)施方式所涉及的填料填充膜的構(gòu)成的側(cè)截面圖。[圖3]是示意地顯示從填料填充膜的各部分至膜起始點(diǎn)的距離與各部分的填料填充率的對(duì)應(yīng)關(guān)系的曲線。[圖4]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖5]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖6]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖7]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖8]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖9]是示意地顯示填料填充膜的變形例的側(cè)截面圖。[圖10]是示意地顯示用于制作膜主體的轉(zhuǎn)印裝置的構(gòu)成的說明圖。[圖11]是顯示曝光裝置的構(gòu)成例的框圖。[圖12]是示意地顯示原盤的構(gòu)成例的立體圖。[圖13]是顯示膜主體的一例的SEM(掃描電子顯微鏡)照片。[圖14]是顯示膜主體的一例的SEM照片。具體實(shí)施方式以下，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的適宜的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。需說明的是，在本說明書和附圖中，對(duì)于實(shí)質(zhì)上具有相同功能構(gòu)成的構(gòu)成要素，賦予相同的符號(hào)，因而省略重復(fù)說明。＜1.填料填充膜的構(gòu)成＞首先，基于圖1～圖3，對(duì)本實(shí)施方式所涉及的填料填充膜1的構(gòu)成進(jìn)行說明。如圖1所示，填料填充膜1具有膜主體2、在膜主體2的表面形成的多個(gè)凹部3和在各個(gè)凹部3中填充的填料4。膜主體2是形成有多個(gè)凹部3的膜。構(gòu)成膜主體2的材料沒有特別要求。例如，膜主體2還可以由任意的固化性樹脂或可塑性樹脂形成。這里，作為固化性樹脂，可以列舉光固化性樹脂、熱固化性樹脂。作為可塑性樹脂，可以列舉熱塑性樹脂(更詳細(xì)地為由受熱而熔融的結(jié)晶性樹脂)等。因此，膜主體2還可以由例如光固化性樹脂、熱固化性樹脂和熱塑性樹脂中的至少1種以上來形成。在膜主體2由光固化性樹脂或熱固化性樹脂形成時(shí)，膜主體2還可以由薄片狀的被轉(zhuǎn)印基材膜161和在被轉(zhuǎn)印基材膜161上形成的固化樹脂層162a來構(gòu)成(參照?qǐng)D10)。固化樹脂層162a是將光固化性樹脂或熱固化性樹脂固化后的層。在固化樹脂層162a的表面形成凹部3。還可以是，將固化性樹脂和構(gòu)成被轉(zhuǎn)印基材膜的樹脂在混合的狀態(tài)下膜主體2被成膜。此外，對(duì)于膜主體2的厚度也沒有特別要求。膜主體2的厚度可以根據(jù)上述的被轉(zhuǎn)印基材膜161的有無來進(jìn)行調(diào)整。例如，在膜主體2具備被轉(zhuǎn)印基材膜161的情況下，膜主體2的厚度可以為10～300μm。這種情況下，固化樹脂層162a的厚度還可以是1～50μm，被轉(zhuǎn)印基材膜161的厚度可以是9～250μm。另一方面，在膜主體2不具備被轉(zhuǎn)印基材膜161的情況下，膜主體2的厚度可以為8～200μm。此外，對(duì)于膜主體2的寬度也沒有特別要求。例如，膜主體2的寬度可以為0.05～300cm。對(duì)膜主體2的長(zhǎng)度也沒有特別要求。但是，在膜主體2是長(zhǎng)膜的情形下，后述的填料填充率的不均勻性變得容易增大。因此，膜主體2是長(zhǎng)膜的情形下，更顯著地體現(xiàn)出本實(shí)施方式的效果。例如，膜主體2的長(zhǎng)度的下限值可以為5m、10m、30m、50m、100m、200m、300m、和500m的任一值。凹部3在膜主體2的表面形成有多個(gè)。凹部3的開口面的直徑至少要大于可見光波長(zhǎng)。這里，凹部3的開口面的直徑是包含例如凹部3的開口面的最小的圓(例如凹部3的開口面的外接圓)的直徑。凹部3的開口面的直徑，具體而言，優(yōu)選為0.8～500μm，更優(yōu)選為1.0～300μm，特別優(yōu)選大于1.6μm且小于300μm。即，下限值優(yōu)選為0.8μm以上，更優(yōu)選為1.0μm以上，特別優(yōu)選為大于1.6μm。上限值為500μm以下，更優(yōu)選為300μm以下，特別優(yōu)選為小于300μm。對(duì)于凹部3的開口面的形狀沒有特別要求，可以為任意形狀。例如，凹部3的開口面的形狀可以為圓形、橢圓形和多邊形等。凹部3的開口面的形狀為多邊形時(shí)，開口面的直徑可以是構(gòu)成多邊形的1個(gè)邊的長(zhǎng)度中最長(zhǎng)的長(zhǎng)度。凹部3的開口面還可以是一部分具有曲線的形狀。此外，開口面的面積只要滿足滿足上述開口面的條件則也可以不恒定。此外，對(duì)于開口面的形狀，可以將最小面積的開口面視為點(diǎn)，將具有最小面積以上面積的開口面根據(jù)其形狀分類為線、面。線狀的開口面通過具有最小面積的開口面的凹部3連結(jié)為線狀(即在1維方向上)來形成。面狀的開口面通過具有最小面積的開口面的凹部3連結(jié)為面狀(即2維方向上)來形成。因此，線狀、面狀的凹部3可以視為是具有最小面積的開口面的凹部3的集合體。對(duì)于線、面的形狀沒有特別限定。凹部3的集合體還可以是面與線相結(jié)合的集合體。凹部3的集合體計(jì)量為1個(gè)凹部3。此外，如圖1所示的凹凸形狀也可以翻轉(zhuǎn)。即，凹部3成為凸部，而凹部3之間的凸部3b(參照?qǐng)D2)可以成為凹部。對(duì)于凹部3的深度d(參照?qǐng)D2)沒有特別要求。例如，深度d可以為0.08～30μm。深度d優(yōu)選為0.08～15μm。此外，凹部3的開口面為矩形(正方形或長(zhǎng)方形)或大致圓形(正圓、橢圓或能與之近似的圓)時(shí)，凹部3的橫縱比可以為0.1～10左右。這里，橫縱比是指用開口面的直徑除以深度d來算出的值。凹部3的深度超過30μm或凹部3的橫縱比超過10時(shí)，凹部3的形成變得困難，因而不優(yōu)選。此外，凹部3的深度小于0.08μm或凹部3的橫縱比小于0.1時(shí)，填料4的填充有變得困難的情況，因而不優(yōu)選。此外，膜主體2具備被轉(zhuǎn)印基材膜161時(shí)，凹部3還可以貫通固化樹脂層162a。只是，與膜主體2是否具備被轉(zhuǎn)印基材膜161無關(guān)，優(yōu)選凹部3不貫通膜主體2。此外，各凹部3的形狀(開口面形狀、截面形狀(圖2中所示的截面形狀))優(yōu)選在膜主體2整體上大致相同。在凹部3的截面形狀或開口面的形狀大致相同的情況下，更容易把握填料填充膜1中的凹部3的形成狀態(tài)，因而優(yōu)選。此外，凹部3的排列圖案具有沿著膜主體2的長(zhǎng)度方向的周期性。具體而言，凹部3的排列圖案是將單位排列圖案M在膜主體2的長(zhǎng)度方向上重復(fù)而成的排列圖案。圖1的例子中，單位排列圖案M由在與長(zhǎng)度方向P垂直的方向上并排的2列的凹部3構(gòu)成。各列的凹部3以等間隔并列。此外，各列的凹部3配置在其他列的凹部3彼此之間。而且，單位排列圖案M通過沿著長(zhǎng)度方向P進(jìn)行重復(fù)，而形成六邊形格子排列圖案。六邊形格子排列圖案是將凹部3最密排列的圖案的一個(gè)例子。當(dāng)然，排列圖案并不限于該例。例如排列圖案還可以為正方形格子的排列圖案。這種情況下，單位排列圖案由在與長(zhǎng)度方向P垂直的方向上并列的1列的凹部3構(gòu)成。列內(nèi)的凹部3以等間隔配置。此外，作為其他的排列圖案，可以列舉菱形格子、平行四邊形格子等格子形狀。此外，還可以任意描繪(點(diǎn)畫)。此外，單位排列圖案M的寬度MW與膜主體2的寬度一致。另一方面，單位排列圖案M的長(zhǎng)度ML沒有特別限定。例如，在后述的原盤110(參照?qǐng)D10)的周面上形成的凸部113的排列圖案不具有周期性的情況下，長(zhǎng)度ML與原盤110的圓周長(zhǎng)度一致。另一方面，在凸部113的排列圖案具有沿著原盤110的周方向的周期性的情況下，即凸部113的單位排列圖案在原盤110的周方向重復(fù)的情況下，長(zhǎng)度ML與凸部113的單位排列圖案的長(zhǎng)度(原盤110的周方向的長(zhǎng)度)一致。單位排列圖案M的長(zhǎng)度ML在單位排列圖案M由1列凹部3構(gòu)成時(shí)為最小。即，這種情況下，長(zhǎng)度ML為凹部3的直徑程度。另一方面，在凸部113的排列圖案不具有周期性時(shí)為最大。這種情況下，長(zhǎng)度ML與原盤110的圓周長(zhǎng)度一致。因此，單位排列圖案M的長(zhǎng)度ML的范圍成為非常大的范圍。需說明的是，對(duì)原盤110的直徑?jīng)]有特別限制，例如為50～300mm。這里，凹部3的排列圖案還可以相對(duì)于與膜主體2的長(zhǎng)度方向垂直的方向(膜主體2的寬度方向)具有周期性。即，相同的排列圖案可以沿著膜主體2的寬度方向重復(fù)。沿著膜主體2的長(zhǎng)度方向P的周期性和與之垂直的方向的周期性可以相同，也可以不同。在將填料填充膜1片狀化時(shí)，可以得到大致相同的片狀膜。此外，凹部3的面密度，即膜主體2的每單位面積形成的凹部3的個(gè)數(shù)，沒有特別限制。例如，該個(gè)數(shù)可以為50,000,000個(gè)/cm2以下。凹部3的面密度超過50,000,000個(gè)/cm2時(shí)，則在形成凹部3時(shí)，原盤110與膜主體2的接觸面積增加，原盤110與膜主體2的脫模性下降，難以形成凹部3，因而不優(yōu)選。需說明的是，凹部3的面密度的下限值沒有特別限定，例如可以為100個(gè)/cm2以上。需說明的是，在一個(gè)凹部3中填充一個(gè)填料4的情形下，凹部3的面密度與填料4的面密度、即膜主體2的每單位面積中填充的填料4的個(gè)數(shù)一致。此外，凹部3之間的距離也沒有特別限定。例如，凹部3之間的距離的下限值可以為0.5μm。更詳細(xì)地，凹部3之間的距離的下限值優(yōu)選為填料4的最小直徑的5/8以上，更優(yōu)選為1/2以上。對(duì)凹部3之間的距離的上限值沒有特別限制，可以為1000μm左右。這里，凹部3之間的距離可以為開口面的中心點(diǎn)間的距離。此外，凹部3的缺損有時(shí)會(huì)在長(zhǎng)度方向P上連續(xù)形成，即使這種情況下，連續(xù)的缺損也非常少。這里，凹部3的缺損意味著沒有形成凹部3的情形(換而言之，凸部113(參照?qǐng)D10)的形狀沒有轉(zhuǎn)印到膜主體2)。此外，在長(zhǎng)度方向P上連續(xù)的缺損意味著在與長(zhǎng)度方向P平行的直線上連續(xù)地發(fā)生的缺損。本實(shí)施方式中，在長(zhǎng)度方向P上連續(xù)的缺損為10個(gè)以下，優(yōu)選為5個(gè)以下。圖13和圖14中顯示膜主體2的一例。圖13和圖14都是膜主體2的SEM照片。圖13A和圖14A是觀察膜主體2的表面的SEM圖像，圖13B和圖14B是觀察沿著X-XX線將圖13A和圖14A中所示的轉(zhuǎn)印物切斷的截面的SEM圖像。圖13A和圖14A的上下方向是圖1的長(zhǎng)度方向P，左右方向是膜主體2的寬度方向。圖13A中，開口面的形狀為圓形，凹部3的排列圖案是六邊形格子狀的排列圖案。此外，圖14A中，開口面的形狀為正方形，凹部3的排列圖案是正方形格子狀的排列圖案。填料4是在凹部3中填充的材料。填充是指過半的填料埋入凹部3中的狀態(tài)。需說明的是，優(yōu)選一個(gè)凹部3填充一個(gè)填料4。只是，凹部3的集合體中有時(shí)填充多個(gè)填料4。對(duì)構(gòu)成填料4的材料(組成)沒有特別要求，只要根據(jù)填料填充膜1的用途適宜選擇即可。例如，填料4可以使用無機(jī)物、有機(jī)物、由無機(jī)物構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)、無機(jī)物(無機(jī)材料)和有機(jī)物(有機(jī)材料)的混存物(例如，用無機(jī)物包覆由有機(jī)物形成的微小固體物質(zhì)而成的物質(zhì))等。具體而言，填料4可以是顏料、染料、結(jié)晶性無機(jī)物等。此外，填料4還可以使將結(jié)晶性的有機(jī)材料或無機(jī)材料進(jìn)行粉碎而得到的。此外，全部的凹部3中可以填充相同的填料4，也可以填充不同種類的填料4。例如，在凹部3的開口面的直徑不同時(shí)，可以填充對(duì)應(yīng)這些直徑的填料4。對(duì)填料4的形狀沒有特別要求。填料4的形狀可以是具有各向同性的形狀，例如為球形。此外，對(duì)填料的比重沒有特別限制，例如可以為0.8～23。對(duì)于填料的大小，填料的最大長(zhǎng)度優(yōu)選為凹部3的開口面的最小長(zhǎng)度以下。填料還可以是賦予各種物性、功能性的材料。此外，填料4可以在凹部3內(nèi)與膜主體2一體化。與膜主體2的一體化，例如可以是在僅有凹部3的一部分固化的狀態(tài)下在凹部3中填充填料4，然后，使凹部3完全固化。此外，也可以是在凹部3中填充填料4后，將未固化的固化性樹脂涂布或散布在填料填充膜1的表面，使固化性樹脂固化。本實(shí)施方式中，填料4的填充率(以下，也稱為“填料填充率”)非常穩(wěn)定。即，膜主體2的一個(gè)端部F中的填料填充率與膜主體2的其他部分中的填料填充率之差小于0.5％，優(yōu)選為0.3％以下，更優(yōu)選為0.1％以下。這里，一個(gè)端部F是由后述的原盤110最初形成凹部3的一側(cè)的端部，即轉(zhuǎn)印的起始點(diǎn)。另一方面，另一端部R是由原盤110最后形成凹部3的一側(cè)的端部，即轉(zhuǎn)印的終結(jié)點(diǎn)。本實(shí)施方式中，從一個(gè)端部F指向另一端部F的方向成為長(zhǎng)度方向P的正方向。而且，膜主體2的各部分(地點(diǎn))中的填料填充率，例如如以下所述來算出。即，抽出包括關(guān)注部分的單位排列圖案M，抽出相對(duì)于該單位排列圖案M配置在長(zhǎng)度方向P的正方向側(cè)的規(guī)定個(gè)數(shù)m(m為0以上的任意整數(shù))的單位排列圖案M。然后，將抽出的單位排列圖案M作為計(jì)量對(duì)象區(qū)域。然后，在計(jì)量對(duì)象區(qū)域內(nèi)設(shè)定多個(gè)代表區(qū)域，用光學(xué)顯微鏡觀察等計(jì)量各代表區(qū)域內(nèi)的填料4的個(gè)數(shù)。然后，而且，將各代表區(qū)域的測(cè)定值的總和除以各代表區(qū)域內(nèi)存在的填料4的理想個(gè)數(shù)的總和，來計(jì)量填料填充率。這里，存在于代表區(qū)域內(nèi)的填料4的理想個(gè)數(shù)為應(yīng)該存在于代表區(qū)域內(nèi)的填料4的個(gè)數(shù)。即，假定代表區(qū)域內(nèi)不存在任何凹部3的缺損，且代表區(qū)域內(nèi)的全部的凹部3中剛好填充有填料4的情形下計(jì)量的填料4的個(gè)數(shù)。填料填充率因各種原因會(huì)有小于100(％)的情形。作為這樣的原因，可以列舉凹部3的位置偏移(與本來應(yīng)形成的位置不同的位置上形成了凹部3)、凹部3的缺損、變形(成為與本來的形狀不同的形狀)等。在產(chǎn)生凹部3的位置偏移、變形時(shí)，填料4有可能沒有填充到凹部3中。在產(chǎn)生凹部3的缺損時(shí)，不存在應(yīng)填充填料4的凹部3。因此，各種情形都會(huì)降低填料填充率。圖1中，在地點(diǎn)X的單位排列圖案M內(nèi)，缺損了2個(gè)凹部3a。此外，在另一端部R中的單位排列圖案M內(nèi)缺損了一個(gè)凹部3a。填料填充率的分布有各種模式。例如，填料填充率有具有沿著長(zhǎng)度方向P的周期性的情況。具體而言，如圖3的曲線L1所示，各部分中的填料填充率有時(shí)會(huì)形成沿著長(zhǎng)度方向P的波浪狀的分布。這里，圖3的橫軸表示從膜主體2的起始點(diǎn)至膜主體2上的各部分的距離(即，長(zhǎng)度方向的距離)，縱軸表示填料填充率。曲線L1表示本實(shí)施方式所涉及的填料填充膜1的長(zhǎng)度方向距離與填料填充率的對(duì)應(yīng)關(guān)系。另一方面，曲線L2表示以往的(即使用印模原盤制作的)填料填充膜的長(zhǎng)度方向距離與填料填充率的對(duì)應(yīng)關(guān)系。如曲線L1、L2所示，本實(shí)施方式所涉及的填料填充膜1和以往的填料填充膜的任一種，其填料填充率都為沿著長(zhǎng)度方向的波浪狀的分布。但是，本實(shí)施方式所涉及的填料填充膜1的填料填充率的不均勻性小，而與之相對(duì)，以往的填料填充膜的填料填充率的不均勻性非常大。而且，以往的填料填充膜中，膜主體越長(zhǎng)，填料填充率的不均勻性越大。與此相對(duì)，本實(shí)施方式如后述的實(shí)施例所示，膜主體2即使變長(zhǎng)，也能抑制填料填充率的不均勻性。即，本實(shí)施方式中，將各部分中的填料填充率與一個(gè)端部F中的填料填充率之差抑制在小于0.5％。＜2.各種變形例＞接著，基于圖4～圖9，對(duì)填料填充膜1的各種變形例進(jìn)行說明。圖4顯示的填料填充膜1a是在上述的填料填充膜1中追加了被覆層5。被覆層5覆蓋膜主體2的表面，即，凹部3的表面(壁面和底面)和凹部3之間的凸部3b的表面(前端面)。需說明的是，被覆層5也可以僅覆蓋凹部3的表面和凸部3b的表面中的任一方。填料4填充在由被覆層5覆蓋的凹部3中。這里，對(duì)構(gòu)成被覆層5的材料(組成)沒有特別限制，可以為有機(jī)材料，也可以為無機(jī)材料。構(gòu)成被覆層5的材料可以根據(jù)填料填充膜1a的用途來適宜選擇，但優(yōu)選由與膜主體2不同的材料構(gòu)成。例如，被覆層5還可以為無機(jī)層。被覆層5例如可以通過將構(gòu)成被覆層5的材料蒸鍍?cè)谀ぶ黧w2上來形成。對(duì)被覆層5的層厚沒有特別要求，與凹部3的形狀無關(guān)，優(yōu)選在膜主體2的表面上為大致均勻。此外，形成在凹部3的表面的部分，優(yōu)選以凹部3的中空部分的30體積％以下的比例形成在凹部3的表面上。此外，對(duì)蒸鍍的方法沒有特別要求。例如可以通過進(jìn)行斜向蒸鍍來僅在凹部3的一部分上(即，傾斜地)形成被覆層5。該情況下，由于能夠?qū)疾?的壁面傾斜，變得易于將填料4填充到凹部3中。在被覆層5由有機(jī)材料構(gòu)成時(shí)，可以通過涂布或散布有機(jī)材料來形成被覆層5。這時(shí)，也可以使開口面傾斜于散布的方向。如圖5所示的填料填充膜1b是在圖4所示的填料填充膜1a的表面上進(jìn)一步形成被覆層6而成的膜。被覆層6覆蓋被覆層5中覆蓋凸部3b的部分以及填料4的露出面。這里，填料4的露出面是指通過凹部3的開口面而向外部露出的面。對(duì)于構(gòu)成被覆層6的材料也沒有特別限制，可以是有機(jī)材料，也可以是無機(jī)材料。構(gòu)成被覆層6的材料只要根據(jù)填料填充膜1b的用途而適宜選擇即可。例如，被覆層6可以由與被覆層5相同的無機(jī)材料構(gòu)成，也可以由不同的無機(jī)材料構(gòu)成。被覆層6用與被覆層5同樣的方法來形成。圖6所示的填料填充膜1c是在填料填充膜1的表面形成被覆層7而成的膜。被覆層7覆蓋凸部3b的表面以及填料4的露出面。對(duì)構(gòu)成被覆層7的材料(組成)沒有特別限制，可以是有機(jī)材料，也可以是無機(jī)材料。構(gòu)成被覆層7的材料只要根據(jù)填料填充膜1c的用途適宜選擇即可。例如，被覆層7還可以為無機(jī)層。被覆層7用與被覆層5同樣的方法來形成。圖7所示的填料填充膜1d是在膜主體2的背面(與形成有凹部3的面相反側(cè)的面)形成粘著層8而成的膜。該填料填充膜1d可以隔著粘著層8貼合到其他物體(例如本實(shí)施方式所涉及的其他填料填充膜、任意的基材等)上。需說明的是，粘著層8當(dāng)然可以形成在圖4～6所示的填料填充膜1a～1c中。圖8所示的層疊膜20是將2張?zhí)盍咸畛淠?隔著粘著層8貼合而成的。圖8所示的層疊膜20，其層疊張數(shù)為2張，但層疊張數(shù)當(dāng)然不限于此。此外，各填料填充膜1的凹部3的排列圖案可以相同也可以不同。例如，各填料填充膜1的凹部3的排列圖案還可以是相互相似的形狀。此外，各填料填充膜1中可以填充相同的填料4，也可以每一填料填充膜1中填充不同的填料4。層疊膜20可以通過將圖7所示的填料填充膜1d進(jìn)行層疊來制作。此外，層疊膜20還可以通過反復(fù)進(jìn)行在填料填充膜1的表面涂覆粘著層8，在其上貼付其他的填料填充膜1這樣的工序來制作。需說明的是，當(dāng)然可以對(duì)將圖4～6所示的填料填充膜1a～1c進(jìn)行層疊。圖9所示的貼合體30是在基材31的表面隔著粘著層8貼合填料填充膜1而得到的。對(duì)基材31的種類沒有特別限制?；?1可以為平面狀的部件(例如膜、板)，也可以是立體狀的部件(例如各種框體等)。此外，填料填充膜1a～1d、層疊膜20以及后述的片狀膜都可以貼合到基材31上。＜3.片狀膜＞通過將上述的填料填充膜1切割成多張，就可以形成片狀膜。由于能將本實(shí)施方式所涉及的填料填充膜1在全部區(qū)域使填料填充率穩(wěn)定化，因此，可以制作多個(gè)同一性質(zhì)的片狀膜。需說明的是，也可以將上述的各變形例所涉及的膜同樣地制成片狀膜。對(duì)上述各膜的用途沒有特別限制，可以在例如印刷型電子產(chǎn)品、其應(yīng)用領(lǐng)域(關(guān)聯(lián)領(lǐng)域)等中使用。此外，不限于上述領(lǐng)域，還可以作為功能性膜(設(shè)備)來使用。例如，也可以在生物傳感器、診斷設(shè)備這樣的醫(yī)療、生物、醫(yī)療保健、生命科學(xué)等中使用，還可以作為光學(xué)元件。此外，還可以在電池、能量關(guān)聯(lián)、車載(汽車)關(guān)聯(lián)領(lǐng)域中使用。＜4.轉(zhuǎn)印裝置的構(gòu)成＞膜主體2能夠由輥對(duì)輥方式的轉(zhuǎn)印裝置來制造。以下，參照?qǐng)D10對(duì)于作為轉(zhuǎn)印裝置的一例的轉(zhuǎn)印裝置100的構(gòu)成進(jìn)行說明。對(duì)于圖10所示的轉(zhuǎn)印裝置100，使用光固化性樹脂來制作膜主體2。轉(zhuǎn)印裝置100具有原盤110、基材供給輥15、卷取輥152、導(dǎo)輥153、154、夾持棍155、剝離輥156、涂布裝置157和光源158。原盤110是圓筒狀或圓柱狀的部件，在原盤110的周面形成有多個(gè)凸部113。這些凸部113成為上述凹部3的反轉(zhuǎn)形狀。即，對(duì)于轉(zhuǎn)印裝置100，通過將在原盤110的周面形成的凸部113的排列圖案轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印膜2a上來制作膜主體2。對(duì)于構(gòu)成原盤110的材料、原盤110的尺寸(直徑等)沒有特別要求。例如，原盤110可以由熔融石英玻璃或合成石英玻璃等石英玻璃(SiO2)、不銹鋼等構(gòu)成。原盤110的直徑(外徑)可以為50～300mm。原盤110為圓筒狀時(shí)，厚度可以為2～50mm。對(duì)于在原盤110的周面形成凸部113的方法沒有特別要求。例如，凸部113可以通過對(duì)原盤110的周面進(jìn)行機(jī)械切削來制作，也可以通過蝕刻來制作。通過蝕刻來制作原盤110的工序的概要如下所述。即，將圓筒狀或圓柱狀的基材的周面用抗蝕劑層覆蓋。然后，在抗蝕劑層中對(duì)不形成凸部113的部分(成為凹部的部分)照射激光，從而在抗蝕劑層中形成潛像。需說明的是，對(duì)基材照射激光的曝光裝置的構(gòu)成例在后文中記述。接著，通過對(duì)抗蝕劑層進(jìn)行顯影來除去潛像部分。接著，將抗蝕劑層作為掩模對(duì)基材進(jìn)行蝕刻。由此，對(duì)凸部113間的部分進(jìn)行蝕刻，從而形成凸部113。此外，還可以對(duì)原盤110的周面施加顯示原盤110的周面上的位置的標(biāo)記。通過將這樣的標(biāo)記轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印膜2a，能夠確認(rèn)轉(zhuǎn)印的進(jìn)展。需說明的是，還可以替代對(duì)原盤110施加標(biāo)記，而將在原盤110上形成的凸部113的一部分有意偏移來形成。這種情況下，與該凸部113對(duì)應(yīng)的凹部3的位置也偏移，從而該凹部3就成為了標(biāo)記的替代。需說明的是，凸部113的位置偏移優(yōu)選在不影響膜主體2的品質(zhì)的范圍內(nèi)來設(shè)定。圖12顯示原盤110的一例。在原盤110的周面上形成多個(gè)凸部113。凸部113的排列圖案成為圖1所示的凹部3的排列圖案的反轉(zhuǎn)形狀。即，凸部113的排列圖案是六邊形格子狀的排列圖案，相對(duì)于原盤110的軸方向A、周方向B的任意方向也具有周期性?；墓┙o輥151是將長(zhǎng)條形的被轉(zhuǎn)印基材膜161卷繞成輥狀的輥，卷取輥152是卷取膜主體2的輥。此外，導(dǎo)輥153、154是搬送被轉(zhuǎn)印基材膜161的輥。夾持棍155是使層疊了未固化樹脂層162的轉(zhuǎn)印基材膜161、即被轉(zhuǎn)印膜2a密合到原盤110上的輥。剝離輥156是將層疊有固化樹脂層162a的被轉(zhuǎn)印基材膜161、即膜主體2從原盤110剝離的輥。涂布裝置157具有涂布機(jī)等涂布設(shè)備，將未固化的光固化樹脂組合物涂布到被轉(zhuǎn)印基材膜161上，形成未固化樹脂層162。涂布裝置157例如可以是凹版涂布機(jī)、線棒涂布機(jī)或模具涂布機(jī)等。此外，光源158是發(fā)出能夠使光固化樹脂組合物固化的波長(zhǎng)的光的光源，例如可以是紫外線燈等。需說明的是，光固化性樹脂組合物是通過照射規(guī)定波長(zhǎng)的光而流動(dòng)性下降并固化的樹脂。具體而言，光固化性樹脂組合物可以是丙烯酸樹脂等紫外線固化樹脂。此外，光固化性樹脂組合物根據(jù)需要還可以含有引發(fā)劑、填料、功能性添加劑、溶劑、無機(jī)材料、顏料、抗靜電劑或增感色素等。對(duì)于轉(zhuǎn)印裝置100，首先，從基材供給輥151通過導(dǎo)輥153將被轉(zhuǎn)印基材膜161連續(xù)送出。需說明的是，送出途中，也可以將基材供給輥151改變?yōu)槠渌蔚幕墓┙o輥151。對(duì)于被送出的被轉(zhuǎn)印基材膜161，由涂布裝置157涂布未固化的光固化樹脂組合物，在被轉(zhuǎn)印基材膜161上層疊未固化樹脂層162。由此，來制作被轉(zhuǎn)印膜2a。被轉(zhuǎn)印膜2a通過夾持棍155與原盤110密合。光源158通過向在原盤110上密合的未固化樹脂層162照射光而將未固化樹脂層162固化。由此，將在原盤110的外周面形成的凸部113的排列圖案轉(zhuǎn)印到未固化樹脂層162上。即，形成固化樹脂層162a，其形成有凹部3。這里，光源158還可以相對(duì)于凹部3斜向地照射光。這種情況下，僅使凹部3的一部分固化。然后，將層疊了固化樹脂層162a的被轉(zhuǎn)印基材膜161、即膜主體2經(jīng)剝離輥156從原盤110上剝離。接著，膜主體2通過導(dǎo)輥154并利用卷取輥152而被卷取。這樣，在轉(zhuǎn)印裝置100中，在將被轉(zhuǎn)印膜2a以輥對(duì)輥方式搬送的同時(shí)，將原盤110的周面形狀轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印膜2a上。由此來制作膜主體2。需說明的是，在由熱塑性樹脂制作膜主體2時(shí)，就不再需要涂布裝置157和光源158。此外，將被轉(zhuǎn)印基材膜161設(shè)為熱塑性樹脂膜，并且在比原盤110的更上游側(cè)配置加熱裝置。通過該加熱裝置，加熱被轉(zhuǎn)印基材膜161以使之柔軟，然后，將被轉(zhuǎn)印基材膜161壓向原盤110。由此，將在原盤110的周面形成的凸部113的排列圖案轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印基材膜161上。需說明的是，也可以是，形成被轉(zhuǎn)印基材膜161由熱塑性樹脂以外的樹脂構(gòu)成的膜，并將被轉(zhuǎn)印基材膜161與熱塑性樹脂膜層疊。這種情況下，層疊膜通過加熱裝置被加熱后，壓向原盤110。因此，轉(zhuǎn)印裝置100可以連續(xù)地制造轉(zhuǎn)印有在原盤110上形成的凸部113的排列圖案的轉(zhuǎn)印物，即膜主體2。此外，使用轉(zhuǎn)印裝置100制作的膜主體2能夠抑制凹部3的不良的發(fā)生，最終能夠抑制填料填充率的不均勻性。＜5.曝光裝置的構(gòu)成＞接著，基于圖11，對(duì)曝光裝置200的構(gòu)成進(jìn)行說明。曝光裝置200是形成原盤110的裝置。曝光裝置200具有激光源221、第一鏡223、發(fā)光二極管(Photodiode：PD)224、偏振光學(xué)系統(tǒng)225、控制機(jī)構(gòu)237、第二鏡231、移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232、主軸電動(dòng)機(jī)235和旋轉(zhuǎn)臺(tái)236。此外，基材110a載置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)236之上，能夠旋轉(zhuǎn)。激光源221是發(fā)出激光220的光源，例如是固體激光器或半導(dǎo)體激光器等。對(duì)于激光源221發(fā)出的激光220的波長(zhǎng)沒有特別限定，例如可以是400nm～500nm的藍(lán)色光區(qū)域的波長(zhǎng)。此外，激光220的點(diǎn)徑(照射到抗蝕劑層上的點(diǎn)的直徑)只要小于凹部3的開口面的直徑即可，例如只要為200nm左右即可。由激光源221發(fā)出的激光220由控制機(jī)構(gòu)237來控制。從激光源221射出的激光220以平行光束前進(jìn)，被第一鏡223反射而導(dǎo)向偏振光學(xué)系統(tǒng)225。第一鏡223由偏振分束器構(gòu)成，具有將偏振光成分的一部分反射而使偏振光成分的另一部分透過的功能。透過第一鏡223的偏振光成分接受到發(fā)光二極管224的發(fā)光，產(chǎn)生光電轉(zhuǎn)換。此外，由發(fā)光二極管224光電轉(zhuǎn)換的受光信號(hào)輸入到激光源221，激光源221基于被輸入的受光信號(hào)進(jìn)行激光220的相位調(diào)制。此外，偏振光學(xué)系統(tǒng)225具有聚光透鏡226、電子光學(xué)偏轉(zhuǎn)元件(ElectroOpticDeflector：EOD)227和準(zhǔn)直透鏡228。在偏振光學(xué)系統(tǒng)225中，激光220經(jīng)由聚光透鏡226聚光于電子光學(xué)偏轉(zhuǎn)元件227。電子光學(xué)偏轉(zhuǎn)元件227是能夠控制激光220的照射位置的元件。曝光裝置200通過電子光學(xué)偏轉(zhuǎn)元件227能夠改變導(dǎo)入到移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232上的激光220的照射位置。激光220通過電子光學(xué)偏轉(zhuǎn)元件227調(diào)整了照射位置后，通過準(zhǔn)直透鏡228再度轉(zhuǎn)化為平行光束。從偏振光學(xué)系統(tǒng)225射出的激光220被第二鏡231反射，水平且平行地導(dǎo)向移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232上。移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232具有擴(kuò)束器(Beamexpander：BEX)233和物鏡234。導(dǎo)向移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232的激光220通過擴(kuò)束器233整形為期望的光束形狀后，經(jīng)過物鏡234照射到基材110a的抗蝕劑層。此外，移動(dòng)光學(xué)臺(tái)232隨著基材110a每一次旋轉(zhuǎn)在箭頭R方向(進(jìn)給螺距方向)僅僅移動(dòng)一個(gè)進(jìn)給螺距。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)236上設(shè)置基材110a。主軸電動(dòng)機(jī)235使旋轉(zhuǎn)臺(tái)236旋轉(zhuǎn)從而使得基材110a旋轉(zhuǎn)。此外，控制機(jī)構(gòu)237具有格式化器(フォーマッタ)240和驅(qū)動(dòng)器230，控制激光220的照射。格式化器240生成控制激光220的照射的調(diào)制信號(hào)，驅(qū)動(dòng)器230基于格式化器240生成的調(diào)制信號(hào)來控制激光源221。由此，來控制激光220向基材110a的照射。格式化器240基于在原盤110上描繪的任意圖案所繪制的輸入圖像，生成用于向原盤110照射激光220的控制信號(hào)。具體而言，首先，格式化器240取得在原盤110上描繪的任意圖案所繪制的輸入圖像。輸入圖像是將原盤110的外周面在軸方向上切開并在一個(gè)平面內(nèi)延伸的、相當(dāng)于原盤110的外周面的展開圖的圖像。接著，格式化器240將輸入圖像分割為規(guī)定大小的小區(qū)域(例如，分割為格子狀)，判斷在每一個(gè)小區(qū)域中是否包含描繪圖案。然后，格式化器240生成用于控制向被判斷為包含描繪圖案的各小區(qū)域照射激光220的控制信號(hào)。進(jìn)而，驅(qū)動(dòng)器230基于格式化器240生成的控制信號(hào)控制激光源221的輸出。由此來控制激光220向原盤110的照射。＜6.填料填充膜的制造方法＞接著，對(duì)填料填充膜1的制造方法進(jìn)行說明。首先，準(zhǔn)備上述的原盤110。接著，使用轉(zhuǎn)印裝置100在被轉(zhuǎn)印膜2a上轉(zhuǎn)印原盤110的周面形狀。由此來制作膜主體2。接著，在膜主體2的表面形成的多個(gè)凹部3中填充填料4。這里，對(duì)于在凹部3中填充填料4的方法沒有特別要求。例如，在膜主體2的表面使填料4分散。接著，用布等擦拭膜主體2的表面。由此，可以將填料4填充到在膜主體2的表面形成的凹部3中。需說明的是，僅使一部分凹部3固化時(shí)，還可以在凹部3中填充填料4后使凹部3完全固化。由此，使填料4在凹部3內(nèi)與膜主體2一體化。需說明的是，還可以將在填料填充膜1中填充的填料4轉(zhuǎn)印到其他膜等上。進(jìn)而，還可以將這樣的轉(zhuǎn)印膜依次層疊。此外，還可以與其他的膜進(jìn)行層疊。即，通過反復(fù)進(jìn)行轉(zhuǎn)印和層疊，將填料的一部分或全部設(shè)置在其他膜的預(yù)定的位置上。實(shí)施例(實(shí)施例)接著，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說明。實(shí)施例中，使用轉(zhuǎn)印裝置100來制作膜主體2。原盤110通過以下的工序來制作。具體而言，在由4.5mm厚的圓筒狀的石英玻璃形成的基材110a的外周面，通過使用了烴系氣體的CVD(化學(xué)氣相沉積，ChemicalVaporDeposition)成膜為膜厚800nm的DLC(類金剛石型碳，DiamondLikeCarbon)，作為中間層。接著，在中間層上通過濺射法成膜膜厚55nm的氧化鎢，作為抗蝕劑層。接著，通過曝光裝置100進(jìn)行由激光的熱蝕刻，在抗蝕劑層形成潛像。需說明的是，曝光裝置100的激光源使用發(fā)出波長(zhǎng)405nm激光的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器。曝光圖案使用將直徑7μm的圓以10μm間距(圓的中心間距離)排列為六邊形格子的排列圖案。此外，使直徑7μm的圓以外的部分曝光在曝光裝置100中，以使得直徑7μm的圓在原盤上成為凸部(即，直徑7μm的圓在轉(zhuǎn)印后的膜主體2中成為凹部3)。接著，使用TMAH(氫氧化四甲基銨)的2.38質(zhì)量％水溶液對(duì)曝光有抗蝕劑層的基材110a進(jìn)行顯影，使已曝光部分的抗蝕劑層溶解。進(jìn)而，使用進(jìn)行顯影后的抗蝕劑層作為掩模，由O2氣體進(jìn)行反應(yīng)性離子蝕刻來蝕刻中間層。接著，使用抗蝕劑層和中間層作為掩模，由CF系氣體進(jìn)行的反應(yīng)性離子蝕刻來蝕刻基材110a。需說明的是，基材110a的蝕刻進(jìn)行到凸部113的高度為7μm，以使得膜主體2中的凹部3的橫縱比為1。通過以上的工序，制作在外周面形成了凹凸結(jié)構(gòu)的圓筒狀的原盤110。接著，在50cm寬的由PET形成的基材膜(厚度50μm)上涂布含有丙烯酸酯樹脂(M208，東亞合成)100質(zhì)量份、光聚合引發(fā)劑(IRGCUR184，BASF)2質(zhì)量份的光固化樹脂組合物，使得膜厚為30μm。進(jìn)而，使用轉(zhuǎn)印裝置100，將原盤按壓向基材膜，對(duì)超過1000m長(zhǎng)的基材膜轉(zhuǎn)印凹凸結(jié)構(gòu)。光照射用高壓水銀燈以1000mJ來進(jìn)行。由此，制作膜主體2，其中直徑7μm、深度7μm(橫縱比1)的圓形凹部以該凹部的中心間距離為10μm排列為六邊形格子狀。此外，任意抽出100處的1mm2的代表區(qū)域，用光學(xué)顯微鏡計(jì)量各代表區(qū)域內(nèi)的凹部的個(gè)數(shù)。而且，用各代表區(qū)域中計(jì)量的個(gè)數(shù)的總數(shù)除以代表區(qū)域的總面積，從而算出凹部3的面密度(膜主體2的每單位面積中形成的凹部3的個(gè)數(shù))。其結(jié)果為，凹部3的面密度是11,500個(gè)/mm2＝1,150,000個(gè)/cm2。這里，成為計(jì)數(shù)對(duì)象的凹部3是不相互連結(jié)(凹部3之間存在凸部3b)的凹部3。即，本實(shí)施例中，將相互連結(jié)的凹部3判定為不良。這樣的不良是由凹部3的位置偏移等導(dǎo)致的。此外，準(zhǔn)備日本觸媒公司制造的EpostarMA1006，將該樹脂填料分級(jí)為平均直徑5μm。樹脂填料的直徑是將樹脂填料的各粒子視作球時(shí)的直徑，即球當(dāng)量直徑。此外，平均直徑是指樹脂填料的直徑的算術(shù)平均值。分級(jí)采用圖像型粒度分布計(jì)FPIA3000(Sysmex公司、Malvern公司制造)來進(jìn)行。將分級(jí)后的樹脂填料用作填料4。填料4的填充按照上述方法來進(jìn)行。即，在膜主體2的表面分散填料4。接著，通過用布來擦拭填料4，將填料4填充到凹部3中。由此，制作了填料填充膜1。此外，任意抽出100處的1mm2的代表區(qū)域，通過光學(xué)顯微鏡來計(jì)量各代表區(qū)域內(nèi)的填料4的個(gè)數(shù)。而且，將各代表區(qū)域中計(jì)量的個(gè)數(shù)的總數(shù)除以代表區(qū)域的總面積，算出填料4的面密度(膜主體2的每單位面積中形成的凹部3的個(gè)數(shù))。該結(jié)果是，填料4的面密度為11,500個(gè)/mm2＝1,150,000個(gè)/cm2。需說明的是，成為計(jì)數(shù)對(duì)象的填料4是在凹部3中完全填充的填料4。需說明的是，即使在凹部3彼此連結(jié)的情形下，該凹部3中填料4完全填充時(shí)，該填料4也作為計(jì)數(shù)對(duì)象。后述的填料填充率的計(jì)量中也同樣地作為計(jì)數(shù)對(duì)象。需說明的是，2個(gè)凹部3連結(jié)的情形下，在該凹部3中最多能填充2個(gè)填料4。而且，以距填料填充膜1的長(zhǎng)度方向P的前端邊緣(最初投入到原盤110的邊緣)1m的地點(diǎn)作為一個(gè)端部F(起始點(diǎn))，以距前端邊緣1000m的地點(diǎn)作為另一端部R(終結(jié)點(diǎn))，算出距前端邊緣1m、250m、500m、750m、1000m的各地點(diǎn)中的填料填充率。具體而言，抽出包括各地點(diǎn)的單位排列圖案M，抽出相對(duì)于該單位排列圖案M在長(zhǎng)度方向P的正方向側(cè)的10cm(膜寬度的20％)的范圍內(nèi)存在的單位排列圖案M。而且，將這些單位排列圖案M作為計(jì)量對(duì)象區(qū)域。而且，在計(jì)量對(duì)象區(qū)域內(nèi)將200μm＊200μm的代表區(qū)域設(shè)定為約25cm2左右，通過光學(xué)顯微鏡觀察來計(jì)量各代表區(qū)域內(nèi)的填料4的個(gè)數(shù)。而且，將各代表區(qū)域的測(cè)定值的總和除以各代表區(qū)域內(nèi)存在的填料4的理想個(gè)數(shù)的總和，從而計(jì)量填料填充率。各地點(diǎn)的填料填充率如以下的表1所示。如表1所示，在填料填充膜1的長(zhǎng)度為1000m時(shí)，距前端邊緣1m的填料填充率與距250m、500m、750m、1000m的各地點(diǎn)的填料填充率幾乎沒有變化。因此，相對(duì)于填料填充膜1的全長(zhǎng)，能夠在0.1％、25％、50％、75％、100％的地點(diǎn)得到穩(wěn)定的(即，再現(xiàn)性高的)填料填充率。[表1]長(zhǎng)度位置(m)填充率(％)199.925099.950099.975099.9100099.8此外，在距前端邊緣100m的地點(diǎn)同樣地計(jì)量填料填充率，得到與表1幾乎同樣的值。由此可知，本實(shí)施例中，膜主體2的一個(gè)端部F中的填料填充率與膜主體2的其他部分中的填料填充率之差為0.1％以下。此外，填料填充膜1中，凹部3以六邊形格子狀、即最密排列圖案來配置。即，填料填充膜1中，填料4以最密排列圖案填充。而且，即使對(duì)于這樣的排列圖案，在填料填充膜1的長(zhǎng)度方向上得到非常穩(wěn)定的(即，再現(xiàn)性非常高的)填料填充率。因此，只要在設(shè)置了凹部3的范圍內(nèi)，以任何排列圖案填充填料4都能夠期待同樣的效果。此外，在上述代表區(qū)域中觀察在長(zhǎng)度方向P連續(xù)的凹部3的缺損，沒有確認(rèn)到連續(xù)的缺損數(shù)為10個(gè)以上的部位。(比較例)通過機(jī)械切削10cm＊10cm大小的SUS板，得到形成了與實(shí)施例同樣的排列圖案的凸部的印模原盤。此外，在印模原盤的形成了凸部的面(凹凸面)上噴灑氟系脫模劑(大金工業(yè)公司制造的DAIFREEGA70500)。而且，將轉(zhuǎn)印裝置100的原盤110置換為印模原盤，除此之外進(jìn)行同樣的處理，從而制作膜主體。用光學(xué)顯微鏡觀察膜主體的凹部的形狀，其結(jié)果為，在印模重復(fù)200次的地點(diǎn)(距前端邊緣20m的地點(diǎn))確認(rèn)了凹部的不良(凹部彼此的連結(jié))。這里，在超過200次重復(fù)印模的時(shí)候停止印模，在凹部中填充填料。填料與實(shí)施例相同。而且，測(cè)定距前端邊緣200m的地點(diǎn)的填料填充率，其結(jié)果為，填料填充率為99.5％。然后，隨著增加印模的次數(shù)，凹部的不良的數(shù)量也增大。因此，隨著增加印模次數(shù)，填料填充率的不均勻性增大，填料填充率推定為比99.5％更低的值。根據(jù)以上的結(jié)果可知，實(shí)施例中，能夠?qū)⑻盍咸畛渎示S持在較比較例更高的范圍。如上可知，對(duì)于本實(shí)施方式的填料填充膜1，填料填充率更加穩(wěn)定。這里，膜主體2可以為長(zhǎng)膜。對(duì)于以往的填料填充膜，膜主體2越為長(zhǎng)條形，則填料填充率越容易變得不穩(wěn)定，因此，更易于顯著地顯現(xiàn)本實(shí)施方式的效果。此外，填料填充率還可以具有沿著膜主體2的長(zhǎng)度方向的周期性。即使在這樣的情形下，填料填充率也穩(wěn)定。此外，全部的凹部3可以為大致相同的形狀。這種情形下，填料填充率更加穩(wěn)定。此外，膜主體2的每單位面積中填充的填料的數(shù)量可以為50,000,000個(gè)/cm2以下。即使在這種情形下，填料填充率也穩(wěn)定。此外，填料4還可以在凹部3內(nèi)與膜主體2一體化。這種情況下，能夠抑制填料4的白白浪費(fèi)，從而填料填充率更加穩(wěn)定。此外，還可以具有形成于膜主體2的表面中的至少一部分的被覆層5、6、7。即使在這種情形下，填料填充率也穩(wěn)定。進(jìn)而，根據(jù)填料填充膜1的用途而形成被覆層5、6、7，從而能夠擴(kuò)大填料填充膜1的用途。此外，還可以在凹部的表面、凹部間的凸部的表面和填料的露出面中的至少一部分形成被覆層。這種情形下，填料填充率也穩(wěn)定。此外，被覆層還可以含有無機(jī)材料。這種情形下，填料填充率也穩(wěn)定。此外，膜主體還可以由固化性樹脂或可塑性樹脂來形成。這種情形下，填料填充率也穩(wěn)定。此外，本實(shí)施方式中，填料填充膜1還可以是片狀膜。這種情況下，片狀膜的品質(zhì)穩(wěn)定。此外，還可以形成層疊有多個(gè)膜的層疊膜。這種情況下，層疊膜的品質(zhì)穩(wěn)定。此外，還可以具有在膜主體的背面形成的粘著層。由此，能夠?qū)⑻盍咸畛淠?容易地貼合到其他基材31等上。此外，本實(shí)施方式中，通過將上述各膜貼合于基材31，還可以制作貼合體30。這種情況下，能穩(wěn)定貼合體30的功能。這是因?yàn)?，填料填充?等填料填充率穩(wěn)定。以上，參照附圖對(duì)本發(fā)明的適宜的實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)說明，但本發(fā)明不限于這些例子。只要是本發(fā)明
技術(shù)領(lǐng)域：
內(nèi)的具有通常知識(shí)的人員，在權(quán)利要求書的范圍內(nèi)記載的技術(shù)思想的范疇內(nèi)，顯然可以想到各種變更例或修正例，這些當(dāng)然應(yīng)被理解為屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍。符號(hào)說明1、1a～1d填料填充膜2膜主體3凹部4填料5、6、7被覆層8粘著層當(dāng)前第1頁1 2 3