本實用新型涉及觸摸屏Senser、精密FPC和軟性電池等柔性電子產(chǎn)品應用技術(shù)領域，尤其是卷對卷制作雙面柔性電子線路上的發(fā)料結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

近年來，隨著材料等基礎產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進步，使電路的設計和生產(chǎn)技術(shù)獲得了較大發(fā)展，各種新的設計理念得到了廣泛的應用和推廣，電子產(chǎn)品的市場趨勢皆走向追求輕薄化，使用電路的基材由傳統(tǒng)的玻璃、硅晶圓轉(zhuǎn)向薄化玻璃、金屬箔與塑膠基板等軟性材料取代，亦即現(xiàn)在泛稱的軟性電子(或可撓式電子)。工藝設備由于應軟性材料的不同，需要導入卷對卷 ( RTR ) 的傳輸設備，制作電子線路具有配線密度高、重量輕、厚度薄的特點。在雙面電路板在生產(chǎn)時，需要采用覆膜機將干膜貼合在導電基材表面，然后經(jīng)紫外光對MASK照射曝光后，見光的干膜分解，在堿性顯液中溶解，導電基材表面留下與MASK一樣的圖案，然后用蝕刻液噴淋導電基材，沒有干膜保護的導電層被蝕刻，再除去基材上的殘留干膜，使導電電路裸露出來，這是制作電路過程。而現(xiàn)有的是單面導電基板進行單面覆膜機，采用覆膜、曝光、顯影、蝕刻和除膜，完成A面導電電路工作，同樣方法，用另一卷膜制作B面導電電路，用A、B面導電電路組合在一起形成雙面電路，工序繁瑣，工作效率低，不良率高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種卷對卷雙面膜發(fā)料結(jié)構(gòu)，滿足一次雙面膜生產(chǎn)雙面電子線路使用，無需翻轉(zhuǎn)重復單面工作，優(yōu)化工藝，提升工作效率及工作質(zhì)量。

為達到上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

卷對卷雙面膜發(fā)料結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括有基座，基座上設有上料輥，在上料輥釋放基材的一端設有兩根從動輥，兩根從動輥上面分別設有壓板，在壓板中間設有切邊單元，該切邊單元給予基材和基膜端頭切整齊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線上；以及

一緩存浮動輥，該緩存浮動輥的進出側(cè)分別設有張力輥和輔助從動輥，基材緩存是緩存浮動輥在張力輥和輔助從動輥中間往下沉，使基材拉長存放在張力輥和輔助從動輥之間；

一基材保護膜收卷單元，該基材保護膜收卷單元具有上下對稱輔助輥和收卷輥，將基材上下面的保護膜撕開，保護膜繞過輔助輥，由收卷輥進行保護膜收卷，使基材上的干膜祼露出來，以便達到基材雙面電子線路的制作。

上述方案進一步是：所述基座設計為可移動體，在底座上設有兩根導軌，基座鋪設在兩根導軌的滑塊上，在馬達驅(qū)動器帶動下相對底座左右移動，基座移動方向受糾偏感測器控制。

上述方案進一步是：所述緩存浮動輥輸出側(cè)設有除塵輥，除塵輥成對設計，實現(xiàn)基材上下面除塵。

與現(xiàn)有技術(shù)對比，本實用新型提供了一種卷對卷雙面膜發(fā)料結(jié)構(gòu)，滿足一次制作雙面膜要求，無需翻轉(zhuǎn)重復制作單面膜工作，優(yōu)化生產(chǎn)工藝，上下面電子線路對位準確，提升工作效率及工作質(zhì)量。結(jié)構(gòu)簡單，投資成本低，使用及維護簡便，靈活搭配顯影線和蝕刻線使用，同時可利用切邊單元用于切整釋放基材端頭后和輔助基膜的端頭對拼在一起，用膠紙粘接起來，形成一個閉環(huán)的張力控制系統(tǒng)，通過輔助牽引膜輔助牽引進行顯影（或蝕刻）生產(chǎn)，可減少基材無謂浪費，節(jié)約成本；符合產(chǎn)業(yè)利用，極大提升機器設備的運行效，以及降低運行成本。

附圖說明：

附圖1為本實用新型較佳實施例結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2為圖1實施例立體示意圖。

具體實施方式：

以下將結(jié)合附圖對本實用新型的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進一步說明，以充分地了解本實用新型的目的、特征和效果。

參閱圖1、2所示，系本實用新型的較佳實施例示意圖，本實用新型有關一種卷對卷雙面膜發(fā)料結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括有底座8及基座1，基座1上設有上料輥2、切邊單元3、緩存浮動輥4、基材保護膜收卷單元5及除塵輥6，優(yōu)選地，基座1設計為可移動體，在底座8上設有兩根導軌81，基座1鋪設在兩根導軌81的滑塊上面，在馬達驅(qū)動器7帶動下相對底座8左右移動，基座1移動方向受糾偏感測器9控制，即由糾偏感測器9發(fā)出信號控制馬達驅(qū)動器7動作，實現(xiàn)與發(fā)料糾偏聯(lián)動操作，解決生產(chǎn)中軟性基材跑偏問題，以靈活搭配顯影線（或蝕刻線）使用。本實施例的糾偏感測器9為現(xiàn)有技術(shù)，其通過感測基材邊緣位置來發(fā)出控制信號，具體原理在此不再贅述。

本實施例中，基膜從上料輥2牽引出來，穿過從動輥33和壓板31之間，到切邊單元3下面，按動開關使壓板31壓著基材，用切邊單元3切割基材，基材形成斜邊端口；從后面拉過來的基膜穿過從動輥33和壓板32之間，到切邊單元3下面，按動開關使壓板32壓著膜，用切邊單元3切割基材，在基膜形成斜邊端口，再把基材和基膜端口對齊，用膠帶貼合封緊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線上，再放開壓板31和壓板32。通過牽引基膜進行顯影（或蝕刻）生產(chǎn)，形成一個閉環(huán)的張力控制系統(tǒng)，可減少基材無謂浪費，節(jié)約成本。

實例中所述基材緩存是緩存浮動輥4在張力輥41和輔助從動輥42中間往下沉，使基材拉長存放在張力輥41和輔助從動輥42之間。張力輥41和輔助從動輥42分別設置在緩存浮動輥4的進出側(cè)，張力輥41具有基材張力感應功能，當張力變小時，緩存浮動輥4往下沉，使基材拉長存放在張力輥41和輔助從動輥42之間，從而收緊基材；當張力變大時，緩存浮動輥4往上升，釋放基材使張力輥41感測張力變小，從而使基材的張力達到平衡，控制生產(chǎn)基材伸縮變化在很小范圍內(nèi)，解決雙面電子線路對位不準確的難題，提升雙面電子線路工作穩(wěn)定性能。

本實施例中，在所述緩存浮動輥4輸出端還設有除塵輥6，除塵輥6成對設計，基材從除塵輥6中間通過，基材上的灰塵被除塵輥6帶走，從而實現(xiàn)基材上下面除塵，減少撕保護膜產(chǎn)生靜電吸附灰塵，使灰塵對后續(xù)工序主產(chǎn)質(zhì)量影響降至最少。

本實施例中，基材保護膜收卷單元5具有上下對稱輔助輥52和收卷輥51，將基材上下面的保護膜撕開，保護膜繞過輔助輥52，由收卷輥51進行保護膜收卷，使基材上的干膜祼露出來，以便達到基材雙面電子線路的制作。

本實用新型提供了一種卷對卷雙面膜發(fā)料結(jié)構(gòu)，滿足一次雙面電子線路的制作要求，無需翻轉(zhuǎn)重復單面電子線路的制作，優(yōu)化工藝，雙面電子線路對位準確，提升工作效率及工作質(zhì)量。

以上結(jié)合實施方式對本實用新型做了詳細說明，只為說明本實用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人了解本實用新型的內(nèi)容并加以實施，并不能以此限定本實用新型的保護范圍，故凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。